子分类：
- G03F1/00： 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜,光罩;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
- G03F3/00： 分色;色调值的校正(一般照相复制设备入G03B)
- G03F5/00： 网屏印刷法;其所用网屏
- G03F7/00： 图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备(用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置,例如,B44C,H01L,例如,H01L21/00,H05K)
- G03F9/00： 原版、蒙片、片框、照片、图纹表面的对准或定位,例如自动地(G03F7/22优先;照相蒙片的制备入G03F1/00;在复制用的照相印片设备中的入G03B27/00)注意: 从2012年1月1日起,G03F9/70 - G03F9/00T26组不再用于新文献分类。以前文献正逐步转移到下面新的组: - G03F9/70转入G03F9/70 - G03F9/00T12转入G03F9/7003 - G03F9/00T14转入G03F9/7049 - G03F9/00T16转入G03F9/7065 - G03F9/00T18转入G03F9/7069 - G03F9/00T20转入G03F9/7073 - G03F9/00T22转入G03F9/7088 - G03F9/00T24转入G03F9/7092 - G03F9/00T26转入G03F9/7096
| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
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| 61 | 缓解用于ID图案的缺陷适印性的方法 | CN201510193413.0 | 2015-04-22 | CN105319860B | 2017-11-21 | 卢彦丞; 许家豪; 游信胜; 陈家桢; 陈政宏; 严涛南 |
| 根据一些实施例，本发明提供了一种缓解用于ID图案的缺陷适印性的方法。该方法包括：将掩模加载至光刻系统，掩模包括一维集成电路(IC)图案；利用光刻系统中的光瞳相位调制器来调制从掩模衍射的光的相位；以及利用掩模和光瞳相位调制器，在光刻系统中对目标执行光刻曝光工艺。 | ||||||
| 62 | 基于模型的度量及过程模型的经整合使用 | CN201380073157.0 | 2013-12-17 | CN104995562B | 2017-11-21 | 亚历山大·库兹涅佐夫; 安德烈·V·舒杰葛洛夫; 史帝蓝·伊凡渥夫·潘戴夫 |
| 本发明揭示用于基于整合基于度量的目标模型及基于过程的目标模型的测量模型来执行测量的方法及系统。采用经整合测量模型的系统可用于测量一或多个目标的结构及材料特性，且还可用于测量过程参数值。可按若干不同方法将基于过程的目标模型与基于度量的目标模型整合。在一些实例中，基于所述基于过程的目标模型来确定对度量模型参数的值的范围的约束。在一些其它实例中，所述经整合测量模型包含由所述基于过程的目标模型所约束的所述基于度量的目标模型。在一些其它实例中，基于所述过程模型，依据其它度量模型参数来表示一或多个度量模型参数。在一些其它实例中，将过程参数代入所述度量模型。 | ||||||
| 63 | 一种白光光源的制备方法 | CN201710620904.8 | 2017-07-26 | CN107346859A | 2017-11-14 | 陆羽; 张海成 |
| 本发明公开了一种白光光源的制备方法，该方法包括如下步骤：在衬底上外延激光器结构；掩膜光刻刻蚀掉有源区以外的多量子阱区；沉积一层介质膜，利用光刻掩膜开光栅窗口，干法刻蚀多量子阱层；利用激光束全息曝光形成光栅；外延上波导层、生长p型层；光刻成单脊条形；光刻点隔离区域，沉积介质膜材料，利用离子注入技术形成高阻区；溅射P面电极和N面电极，实现上下电极结构；将激光器烧结在热沉和基板上，封装到管壳上；将红、黄荧光粉与硅胶混合并在一定温度下烘烤固化在光学仪器上；利用激光激发荧光粉，然后混合成白光。利用本发明方法，不但可以制备高效率、长寿命的激光白光光源，而且色温和显色指数可以调节。 | ||||||
| 64 | 在动物胴体上生成图案的方法 | CN201710446326.0 | 2017-06-14 | CN107346094A | 2017-11-14 | 薛渊 |
| 本发明为一种在动物胴体上生成图案的方法，其包括：在动物胴体上涂覆打印层，以及使用激光照射所述打印层上以生成图案。由于打印层材料具有渗透性，所以采用本发明生成的图案能够渗入到动物胴体的皮肤中，附着性强，不容易褪色；并且图案由计算机根据用户需求，使用不同格式的软件生成个性化图案，图案细致、清晰，生成的标签图案(可以是条形码、二维码等)能够被移动设备如手机等自动识别。 | ||||||
| 65 | 一种纳米压印机卡位机构 | CN201710755459.6 | 2017-08-29 | CN107346093A | 2017-11-14 | 赵敏洁; 杨彦涛 |
| 本发明公开了一种纳米压印机卡位机构，包括支撑平台、下压平台、模型压头和液压升降缸，所述支撑平台上固定设置有限位平台，所述限位平台为空心结构，所述限位平台上分别设置有横向的第一开口和纵向的第二开口，所述限位平台内设置有伸缩电机，所述限位平台具备四个伸缩轴，所述四个伸缩轴上均设置有限位杆，所述四个限位杆分别穿过第一开口和第二开口朝着限位平台上方延伸。本发明与现有技术相比，通过对伸缩电机中四个伸缩轴的位置参数的分别设定，使得能够对支撑平台上的待压印的产品的位置进行精确化的限位固定，从而大幅提升了产品在支撑平台上的位置精确度，因此大幅提升了压印的位置精确度，产品的压印质量得到了提升和保障。 | ||||||
| 66 | 蓝宝石图形衬底以及制作蓝宝石图形衬底的掩膜版和方法 | CN201610284240.8 | 2016-04-29 | CN107342349A | 2017-11-10 | 晏小平; 李成立; 顾威威; 王武 |
| 本发明提供的蓝宝石图形衬底以及制作蓝宝石图形衬底的掩膜版和制作方法，在衬底上周期性排列的结构图形的外部围设封闭性隔离墙，每相邻的两个结构图形之间共用一堵隔离墙，与现有技术中未设立围墙的蓝宝石图形衬底相比，本发明具有更多的反射面，用于提供外延生长的面积更大，有利于降低衬底晶体中的位错密度，使得更好地释放由于前道制作工艺而在晶体内部产生的适配应力，进而降低缺陷密度，提高LED芯片的发光效率。 | ||||||
| 67 | 一种用于极紫外光刻机的动态气体锁 | CN201610391179.7 | 2016-06-03 | CN106094444B | 2017-11-10 | 陈进新; 崔惠绒; 张立佳; 谢婉露; 吴晓斌; 王宇 |
| 本发明公开了一种动态气体锁，特别适用于极紫外光刻机。动态气体锁的主体为筒状，具有两个开口端，其轴向的中部位置具有一隔板将内部空间隔成两个腔室。隔板上开有外气流通道连通两个腔室。外气流通道侧面的隔板内有内气流通道，清洁气体由充气装置进入，通过内、外气流通道分别流入两个腔室。本发明能有效地隔离极紫外光刻机中超清洁真空环境和清洁真空环境，抑制污染气体分子由清洁真空环境向超清洁真空环境扩散。 | ||||||
| 68 | 光波导形成用环氧树脂组合物及由其得到的光波导形成用固化性薄膜及光传送用挠性印制板 | CN201310070405.8 | 2013-03-06 | CN103309153B | 2017-11-10 | 平山智之 |
| 本发明提供光波导形成用环氧树脂组合物及由其得到的光波导形成用固化性薄膜及光传送用挠性印制板。所述组合物是作为光波导形成用材料、特别是包层形成材料具备高Tg、高柔软性及图案形成性能的优异的光波导形成用环氧树脂组合物。其含有下述（A）～（C），下述（A）的液态环氧树脂的主成分为下述通式（1）表示的液态环氧树脂，其含有比率在树脂成分总量中在50～80重量%的范围。（A）液态环氧树脂。（B）固态树脂。（C）光产酸剂。 | ||||||
| 69 | 曝光装置和器件制造方法 | CN201410683379.0 | 2014-11-25 | CN104678713B | 2017-11-07 | 松冈洋一 |
| 一种曝光装置，包括：测量部件，布置在保持基板的基板台上，并处于基板台的基板保持表面侧；辅助部件，布置在基板台的基板保持表面侧，并与测量部件有一定间隙；以及密封部件，接触辅助部件的表面，布置成覆盖所述间隙，并用于抑制测量部件的表面或辅助部件的表面上的液体渗透到间隙中；其中，密封部件具有形成一空间的形状，在该空间中，在液体处于测量部件的表面上且液体接触密封部件的边缘的同时，测量部件的一部分表面接触气体。 | ||||||
| 70 | 具有配备定向柔韧性的连接单元的框架的光学组件 | CN201410419778.6 | 2014-08-22 | CN104422999B | 2017-11-07 | 托尔斯滕·埃贝; 卢茨·赖克曼 |
| 本发明涉及一种热补偿式的光学组件，其包括旋转对称的光学元件(4)和一体式的框架(1)，该一体式的框架带有旋转对称的、具有对称轴线(2.1)的框架圈(2)以及至少三个连接单元(3)，光学元件(4)通过这些连接单元与框架圈(2)处于防倾斜的且有利地防扭转的连接。连接单元(3)分别由三个联接件(3.1)、(3.2)、(3.3)组成，这些联接件彼此具有确定的长度比例，并且满足以下确定的条件，即，这些联接件相互之间连接并且与框架圈(2)和光学元件(4)连接。 | ||||||
| 71 | 一种飞秒激光双光子聚合微纳加工系统及方法 | CN201410375257.5 | 2014-08-01 | CN104155851B | 2017-11-07 | 程鑫; 崔德虎; 李自平; 明静 |
| 本发明公开了一种飞秒激光双光子聚合微纳加工系统及方法，所述系统包括：飞秒激光器、外光路调制单元、取像装置、聚焦透镜、位移台、计算机以及监控装置，其中，取像装置，用于对三维微纳器件的截面图形逐层进行取像，以使调制后的飞秒激光形成按照所述各层截面图形排列的并行光束。本发明不仅可以同时加工多个三维微纳器件，还可以对任意复杂的三维微纳器件进行逐层加工，从而提高加工效率和工艺流量；此外，在进行逐层微纳加工的过程中，位移台只需沿微纳器件的截面厚度方向运动，这样不仅可以提高加工效率和工艺流量，还可以降低其在平面二维方向的定位精度要求，从而使加工工艺简化，难度降低。 | ||||||
| 72 | 有机发光二极管用聚酰亚胺感光性树脂组合物 | CN201280051559.6 | 2012-10-15 | CN103917916B | 2017-11-07 | 金东明; 金柄郁; 尹赫敏; 金镇祐; 黄致容 |
| 本发明涉及OLED用聚酰亚胺感光性树脂组合物，特别是涉及一种具有以下特征的OLED用聚酰亚胺感光性树脂组合物，其特征在于，包括：a)包括i)聚酰亚胺前驱体、ii)聚羟基苯乙烯(poly hydroxy styrene)的树脂；b)1,2‑醌二叠氮化合物；c)交联剂；及d)溶剂。本发明的聚酰亚胺感光性树脂组合物使用分子量及溶解度容易调节的聚酰亚胺前驱体，适合于OLED的有机绝缘膜形成，特别是能够使灵敏度显著改善。 | ||||||
| 73 | 发光均匀度校正设备及其校正方法 | CN201610268793.4 | 2016-04-27 | CN107315319A | 2017-11-03 | 张鸿明 |
| 本发明公开一种发光均匀度校正设备，适用于对曝光机的发光模块进行发光均匀度校正。透过感测模块于对应发光模块所分布的各个取样位置感测产生光强度讯号，处理模块根据这些光强度讯号来分析该发光模块的发光均匀度，并于该发光模块的发光均匀度不符合一均匀度标准时产生对应的一校正讯号，而调整模块系根据校正讯号对应地调整该发光模块所具有的发光单元中的至少一者的发光强度。由此，透过自动化设备来对该发光模块进行发光均匀度校正，可迅速方便地针对发光强度有异常的区域各别进行调整来确保发光均匀度，进而提升电路板的制造良率。 | ||||||
| 74 | 非晶层极紫外线光刻坯料及用于制造该坯料的方法与光刻系统 | CN201480010492.0 | 2014-03-12 | CN105009255B | 2017-11-03 | 拉尔夫·霍夫曼; 凯文·莫雷斯 |
| 一种集成极紫外线坯料生产系统包括：用于将基板置放在真空中的真空腔室；沉积系统，所述沉积系统用于沉积多层堆叠物而不从真空移除基板；以及处理系统，所述处理系统用于处理多层堆叠物上的层，所述层待沉积为非晶金属层。一种用于制造极紫外线掩模坯料的物理气相沉积腔室包括：靶材，所述靶材包含与硼合金的钼。一种极紫外线光刻系统包括：极紫外线光源；镜，所述镜用于导向来自所述极紫外线光源的光；中间掩模台，所述中间掩模台用于置放具有多层堆叠物的极紫外线掩模坯料，所述多层堆叠物具有非晶金属层；以及晶片台，所述晶片台用于置放晶片。一种极紫外线坯料包括：基板；具有非晶金属层的多层堆叠物；以及位于所述多层堆叠物之上的覆盖层。 | ||||||
| 75 | 带分离膜的光学构件的制造方法 | CN201710257264.9 | 2017-04-19 | CN107304335A | 2017-10-31 | 中川弘也 |
| 本发明提供用于制造即使对柔性显示器的弯曲处也能在粘合剂层和与其邻接的构件之间维持良好密合性的带分离膜的光学构件的方法。本发明的带分离膜的光学构件的制造方法包含：涂敷工序，在长条状的分离膜上涂敷活性能量射线固化型粘合剂组合物而形成涂敷层；曝光工序，边连续运送具有涂敷层的分离膜，边利用活性能量射线的照射对涂敷层进行图案曝光，得到具有包含经曝光的第1区域和曝光量比该第1区域小的第2区域的粘合剂层的分离膜；以及贴合工序，边继续连续运送曝光工序后的膜，边在其粘合剂层的外表面层叠长条的光学构件，并从上下挤压该层叠体。 | ||||||
| 76 | 气体清洗装置及气体清洗方法 | CN201480043375.4 | 2014-06-02 | CN105474380B | 2017-10-31 | 村田正直; 山路孝 |
| 本发明的气体清洗装置及气体清洗方法，使弹性体气体导入部不因与喷嘴接触被损伤，而且使气体导入部与喷嘴不粘连。从喷嘴向定位容器、同时设置在容器的底部、底面为圆形、中心部有气体导入孔、并且由弹性体构成的气体导入部导入清洗气体。喷嘴具备气体导入部的底面以上的尺寸并且平面状的顶端面、和位于顶端面的中心部并且为容器的气体导入孔以下尺寸的喷嘴孔，顶端面被表面粗糙化或者用低摩擦系数的材料构成，从而顶端面与气体导入部滑动自由。 | ||||||
| 77 | 通过具有改进的空间分辨率的平版印刷制备体积物体 | CN201480004293.9 | 2014-01-09 | CN104981339B | 2017-10-27 | A-L·阿拉尼克 |
| 本发明涉及通过平版印刷制造体积物体的方法，包括将投影图像投影至材料层的待照亮平面(9)，包括：‑使掩膜(3)以具有沿着倾斜轴线(16)的分量(15)的移动进行位移，所述倾斜轴线(16)与待照亮平面(9)形成角度(17)，和‑通过朝向待照亮平面(9)反射来自掩膜(3)的投影图像(5)的镜子(6)将掩膜(3)的具有沿着与待照亮平面(9)形成角度(17)的倾斜轴线(16)的分量(15)的移动转换成投影图像(5)在待照亮平面(9)上沿着包括在待照亮平面(9)中的第一位移方向(10)的位移。 | ||||||
| 78 | 肟酯光敏引发剂 | CN201380023834.8 | 2013-05-06 | CN104284888B | 2017-10-27 | 西前祐一; 仓久敏; 国本和彦; 山上隆平; 田中庆太 |
| 式I、II、III、IV或V的肟酯化合物为有效的光敏引发剂，其中Z为例如(式A)；Z1为例如NO2、未经取代或经取代的C7‑C20芳酰基或未经取代或经取代的C4‑C20杂芳酰基；条件为至少一个Z1不同于NO2；Z2为例如未经取代或经取代的C7‑C20芳酰基；R1、R2、R3、R4、R5和R6为例如氢、卤素、或未经取代或经取代的C1‑C20烷基、未经取代或经取代的C6‑C20芳基、或未经取代或经取代的C4‑C20杂芳基；R9、R10、R11、R12和R13为例如氢、卤素、OR16、未经取代或经取代的C1‑C20烷基；条件为R9与R13不为氢或氟；R14为例如未经取代或经取代的C6‑C20芳基或C3‑C20杂芳基；Q为例如C6‑C20亚芳基或C3‑C20亚杂芳基；Q1为‑C1‑C20亚烷基‑CO‑；Q2为亚萘甲酰基；Q3为例如亚苯基；L为例如O‑亚烷基‑O‑；R15为例如氢或C1‑C20烷基；R20为例如氢、或未经取代或经取代的C1‑C20烷基。 | ||||||
| 79 | 二氧化硅-改性的-氟化物广角减反射涂层 | CN201380028469.X | 2013-05-29 | CN104508559B | 2017-10-24 | M·J·康杰米; P·G·德瓦; J·D·玛拉齐; P·F·米开罗斯基; H·施赖伯; 王珏 |
| 本发明涉及一种涂层，该涂层包括由在基片顶部的高折射率金属氟化物层、在该高折射率层顶部的低折射率金属氟化物层组成的两元金属氟化物涂层，以及在低折射率层顶部的SiO2层或者含0.2‑4.5重量％(2000ppm‑45,000ppm)F的F‑SiO2层。在一种实施方式中，F‑SiO2中的F含量是5000ppm‑10,000ppm的F。所述高折射率和低折射率材料的沉积厚度各自小于或等于0.9四分之一波长，且封盖材料的沉积厚度是5‑25纳米。本发明还涉及具有上述涂层的光学元件，以及制造所述涂层的方法。 | ||||||
| 80 | 化学放大型正型感光性树脂组合物 | CN201710196931.7 | 2017-03-29 | CN107272343A | 2017-10-20 | 黑岩靖司; 增田靖男 |
| 本发明提供能够使用低pH的碱性水溶液良好地进行显影的化学放大型正型光致抗蚀剂组合物、具备由该化学放大型正型光致抗蚀剂组合物形成的感光性膜的带感光性膜的基板、以及使用该化学放大型正型光致抗蚀剂组合物的被图案化的抗蚀剂膜的形成方法。本发明的化学放大正型感光性树脂组合物含有利用活性光线或放射线的照射而产生酸的产酸剂(A)、在酸的作用下而对碱的溶解性增大的树脂(B)和有机溶剂(S)，其中，使规定量树脂(B)中含有第一树脂(B1)，所述第一树脂(B1)是在可溶于pH12的碱性水溶液的碱可溶性树脂所具有的碱可溶性基的至少一部分中、碱可溶性基的氢原子被酸解离性溶解抑制基取代的树脂。 | ||||||
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