子分类：
| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
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| 1 | 描绘装置、曝光描绘装置及描绘方法 | CN201380042958.0 | 2013-04-25 | CN104641300B | 2017-09-22 | 菊池浩明 |
| 取得分别表示设于基板的多个基准标记的设计上的第一位置、以第一位置为基准而确定的向基板描绘的描绘图案及多个基准标记各自的实际的第二位置的坐标数据，对多个基准标记中的毎一个，将用于校正第一位置与第二位置的偏离的偏离校正量设为对该基准标记的偏离校正量和最靠近该基准标记的基准标记的偏离校正量进行平均化而得的值，在以表示第二位置的坐标数据为基准而基于表示描绘图案的坐标数据将描绘图案向被曝光基板描绘的情况下，基于平均化后的偏离校正量来校正表示描绘图案的坐标数据。 | ||||||
| 2 | 体硅微加工工艺的定位方法 | CN201410660920.6 | 2014-11-18 | CN105645347B | 2017-08-08 | 荆二荣 |
| 一种体硅微加工工艺的定位方法，采用双面光刻和步进式光刻相结合的方法，通过双面光刻机找到步进式光刻机在第一基片的步进式光刻对位标记，然后直接使用步进式光刻机对第二基片进行对位。步进式光刻机的对位精度就相当于下上基片表面的图形的对位精度，因而大大提高了体硅微加工工艺的对位精度。 | ||||||
| 3 | 基于图像处理的光刻系统和目标对象涂覆方法 | CN201410758476.1 | 2010-09-29 | CN104360583B | 2017-04-19 | 劝圣勋; 郑收恩; 李昇娥; 张志诚; 韩相权 |
| 公开了一种基于图像处理的光刻系统和目标对象涂覆方法。根据本发明的一个实施方式，光刻系统包括：布置在基板上的至少一个目标对象；通过对至少一个目标对象执行图像处理来确定用于至少一个目标对象的涂覆层的光学图案的处理器；以及将具有由处理器确定的光学图案的光提供到基板的曝光装置。 | ||||||
| 4 | 一种三明治对位图形转移工艺 | CN201610851480.1 | 2016-09-27 | CN106527067A | 2017-03-22 | 夏玉龙; 杨海涛 |
| 本发明公开一种三明治对位图形转移工艺，包括以下具体步骤：制作底片、架底片、三明治对位、上板定位、曝光和下板。通过上述方式，本发明提供一种三明治对位图形转移工艺，针对现有对位工艺易造成层间错位和偏移的问题，本发明采用4～6个蝶形十字靶标孔，能实现高精度的三明治对位，极大提高生产效率，同时免去对位设备的采购成本，提高生产利润。 | ||||||
| 5 | 硅片传输系统 | CN201510270081.1 | 2015-05-24 | CN106292194A | 2017-01-04 | 刘凯; 胡松立; 姜杰 |
| 本发明公开了一种硅片传输系统，包括：双臂机械手、上片直线手和下片直线手；其中，所述双臂机械手从硅片存储装置中将待曝光的硅片取出并移送到预对准装置上，并从缓存台将曝光完成的硅片取下放回硅片存储装置中；上片直线手用于将预对准后的硅片移动至工件台，下片直线手将曝光完成后的硅片移动至缓存台。所述双臂机械手、上片直线手和下片直线手可以并行动作，达到节省硅片传输时间的目的。 | ||||||
| 6 | 处理装置 | CN201610576185.X | 2013-03-08 | CN106200277A | 2016-12-07 | 加藤正纪; 木内彻 |
| 一种处理装置，沿长度方向传送长条且具有挠性的片状基板，同时将元件的图案转印至片状基板上，其具有：旋转圆筒体，具有距规定的轴线为固定半径的圆筒状的外周面，并通过外周面的一部分卷绕并保持片状基板的一部分，同时绕轴线旋转；转印处理部，在保持片状基板的旋转圆筒体的外周面的特定的周向位置上，将图案转印至片状基板上；刻度部，能够与旋转圆筒体一同绕轴线旋转，且具有从轴线沿着规定半径的外周面的周向排列为环状的能够读取的刻度；和多个编码器读头部，配置在与刻度部的外周面相对的周围的2个以上的部位，以读取根据旋转圆筒体的旋转而沿周向移动的刻度，多个编码器读头部中的、特定的2个编码器读头部分别以使从轴线观察到的刻度的读取位置为90±5.8度的角度范围的方式设定。 | ||||||
| 7 | 阻焊独立对位台框及曝光机 | CN201610590681.0 | 2016-07-26 | CN106054542A | 2016-10-26 | 张方德; 谢桂平 |
| 本发明提供一种阻焊独立对位台框及曝光机，该台框包括上台框和下台框，上台框和所述下台框的后端相互铰接而前端可开闭，所述下台框两相对侧设有开启机构，下台框底部设置固定支架，且该固定支架与下台框联动配合，下台框中间设有托盘，托盘相对下台框构成X向、Y向位移配合，且托盘与下台框之间通过密封件密封配合，托盘下方设置用于驱使托盘沿X向或Y向移动或角度偏转的位移驱动装置，位移驱动装置的底部固定设置在固定支架上，托盘前端底部设置用于带动曝光基板进行位置偏移调整的伸缩PIN钉，所述上台框和下台框设有抽真空结构，本发明可以独立调整线路板的位置，能够保证各个台框的线路板调整精度，提高曝光机的曝光精度。 | ||||||
| 8 | 一种具有调焦及倾斜校正设计的标记及对准方法 | CN201410456314.2 | 2014-09-09 | CN105467781A | 2016-04-06 | 杜荣; 陈跃飞 |
| 本发明公开了一种具有调焦及倾斜校正设计的标记及对准方法，所述标记包括对准标记和至少一对调焦标记，所述对准标记的中心位于所述任一对调焦标记连线的中点上，任一对所述调焦标记中心对称于所述对准标记的两侧，所述对准标记为十字型标记或者米字型标记，所述调焦标记为方块型调焦标记或光栅型调焦标记，所述对准标记的线宽大于离散化粒度，所述对准标记的线宽大于两倍PSF宽度，本发明还提供了应用于所述标记的对准方法，实现了对准标记的高精度调焦调平。与现有技术相比，本发明提供的标记在调焦的同时消除了倾斜对标记的影响，提高了测量复现性；此外，分析了畸变对测量复现性的影响机理，并给出了对标记宽度的限定条件，进一步地提高了测量复现性。 | ||||||
| 9 | 一种对位系统 | CN201310314015.0 | 2013-07-24 | CN103412428B | 2016-01-27 | 邓朝阳; 林子锦; 赵海生 |
| 本发明公开了一种对位系统，用于解决现有的对位处理存在的处理时间长且处理效率低的问题。本发明实施例的对位系统包括：光源发射装置位于待对位对象的一侧，用于朝向该待对位对象发射光线；光源接收装置位于该待对位对象的另一侧且位于该待对位对象上设置的对位标记对应的标准位置上，光源接收装置中朝向该待对位对象的端面上设置有多个用于感应光源发射装置发射出的光线的光感应器；处理器用于接收每个光感应器传输的感应信号，并根据每个光感应器是否感应到光源发射装置发射出的光线，判断该待对位对象对位是否准确，从而缩短了处理时间，提高了处理效率。 | ||||||
| 10 | 描绘装置、曝光描绘装置、描绘方法及存储有程序的记录介质 | CN201380042958.0 | 2013-04-25 | CN104641300A | 2015-05-20 | 菊池浩明 |
| 取得分别表示设于基板的多个基准标记的设计上的第一位置、以第一位置为基准而确定的向基板描绘的描绘图案及多个基准标记各自的实际的第二位置的坐标数据，对多个基准标记中的毎一个，将用于校正第一位置与第二位置的偏离的偏离校正量设为对该基准标记的偏离校正量和最靠近该基准标记的基准标记的偏离校正量进行平均化而得的值，在以表示第二位置的坐标数据为基准而基于表示描绘图案的坐标数据将描绘图案向被曝光基板描绘的情况下，基于平均化后的偏离校正量来校正表示描绘图案的坐标数据。 | ||||||
| 11 | 一种显示基板、显示面板和显示装置 | CN201510061125.X | 2015-02-05 | CN104570450A | 2015-04-29 | 王耸 |
| 本发明提供一种显示基板、显示面板和显示装置。该显示基板包括对位标记，对位标记用于在曝光形成显示基板上的第一膜层的图形时进行曝光设备的对位，对位标记的中间区域的厚度小于其边缘区域的厚度，以使对位标记涂布光刻胶后的厚度均匀。该显示基板避免了对位标记在涂布光刻胶之后表面呈现“回”字状态，使对位标记在涂布光刻胶之后的表面平坦，从而使对位标记在涂布光刻胶之后的表面灰度均匀，界限清晰，进而解决了曝光设备对位无法聚焦的问题，实现了曝光设备的自动对位和曝光，提高了生产效率。 | ||||||
| 12 | 对准方法、对准装置及曝光装置 | CN201080028720.9 | 2010-06-15 | CN102804075B | 2015-04-01 | 岩本正实 |
| 本发明提供一种对准方法、对准装置及曝光装置。一边输送将图案形成为矩阵状的基板，一边对通过摄像机构以一定的时间间隔拍摄到的多个图像依次进行处理而检测受光元件的排列方向上的亮度变化的位置，在基板移动一定距离期间，将在相同位置检测到的亮度变化的次数进行累计，得到与检测到的亮度变化的位置对应排列的多个边缘个数数据，使模板移动，并对算出的多个边缘个数数据进行相关运算，得到多个相关值数据，根据超过了预先设定的阈值的多个相关值数据来确定多个图案的位置，从其中选择与摄像机构的目标位置接近的图案的位置，算出该图案的位置与摄像机构的目标位置的位置偏差量，以该位置偏差量成为预先设定的值的方式使光掩模沿着与基板的输送方向大致正交的方向移动，其中该摄像机构具有在与基板的输送方向交叉的方向上排列成一直线状的多个受光元件。 | ||||||
| 13 | 掩模板、套刻对准方法及制备脊形波导激光器的方法 | CN201410815582.9 | 2014-12-23 | CN104460223A | 2015-03-25 | 吴艳华; 王飞飞; 胡发杰; 金鹏; 王占国 |
| 本发明提供了一种掩模板、套刻对准方法及制备脊形波导激光器的方法。该掩模板包括：第一条形图案；以及辅助对准窗口，为与所述第一条形图案垂直的条形图案；其中，所述第一条形图案与辅助对准窗口均为透明图案，在曝光之前，通过所述辅助对准窗口可观察所述第一条形图案与下方半导体基体上的第二条形图案的对准情况。本发明能够借助辅助对准窗口观察第一条形图案是否与下方半导体基体上的第二条形图案对准，方便了两者位置的修正，从而达到提高对版精度和研发效率。 | ||||||
| 14 | 用于对准的照明装置和具有该照明装置的曝光装置 | CN201110346598.6 | 2011-11-04 | CN102466983B | 2015-02-18 | 种村次记; 中岛裕; 名古屋淳; 大矢佳幸 |
| 本发明涉及用于对准的照明装置和具有该照明装置的曝光装置。在CCD摄像机(3)周围对标记进行照明的环形照明装置(1)具有：照明装置(1)、照明亮度控制装置(10)、照明高度控制装置(11)、照明颜色控制装置(12)以及控制上述这些装置的控制器(5)，所述照明装置1在照明高度和照明颜色的组合为K＝1到M，且将照明亮度以1％为一步，从1％变为100％的情况下，通过CCD摄像机(3)对标记进行检测，并且由对比度检测/确定装置(23)对标记对比度进行检测以及由变换检测/确定装置(24)对变化进行检测，随后基于所述变化确定最佳照明条件。 | ||||||
| 15 | 膜掩模校正装置 | CN201410317606.8 | 2014-07-04 | CN104281001A | 2015-01-14 | 今井洋之; 横矢博士; 星野哲矢 |
| 本发明提供膜掩模校正装置，其能够部分地对膜掩模进行校正。膜掩模校正装置(A)具有箱主体(1)，该箱主体(1)构成箱形状，一面为开放的开口(10)，将该开口(10)侧覆盖到膜掩模(5)上而与膜掩模(5)之间形成密封空间(15)，利用吸引装置(2)吸引密封空间(15)而使其成为负压。使轴(31)上下移动、旋转、倾斜，使摩擦球(30)对膜掩模(5)进行摩擦动作，进行膜掩模(5)的校正。 | ||||||
| 16 | 曝光描绘装置及曝光描绘方法 | CN201380016803.X | 2013-02-22 | CN104204957A | 2014-12-10 | 鹤井弘则; 桥口昭浩 |
| 本发明提供能够防止由被曝光基板的端部的翘曲、浮起等引起的表面和背面的对位用的标记的品质降低的曝光描绘装置及曝光描绘方法。即，本发明的曝光描绘装置具备：台座(11)，载置被曝光基板；固定部(31a～31d)，从预先规定的第一位置移动到第二位置，在第二位置，将载置于台座的被曝光基板的端部夹持在该固定部与该台座之间而固定；描绘部，通过在端部被固定的状态下对被曝光基板的第一面进行曝光，在该第一面描绘预先规定的电路图案；及形成部(51)，与固定部的移动联动地移动，并在由该固定部固定了端部的状态下的被曝光基板的与第一面相向的第二面形成预先规定的标记。 | ||||||
| 17 | 曝光描绘装置和曝光描绘方法 | CN201380016100.7 | 2013-01-09 | CN104185817A | 2014-12-03 | 桥口昭浩; 菊池浩明; 鹤井弘则 |
| 具有：第1曝光单元，通过对载置在平台上的印刷布线基板的第1面进行曝光而在所述第1面上描绘电路图案；标记形成单元，设置为能够相对于平台相对地移动，在印刷布线基板的第1面上第1面用的电路图案的描绘处理中，在与第1面相反的第2面形成预先确定的多个标记；计测单元，对标记形成单元的位置进行计测；检测单元，对在第2面上形成的多个标记的位置进行检测；以及第2曝光单元，以所计测的标记形成单元的位置和所检测的多个标记的位置为基准，通过对印刷布线基板的第2面进行曝光而在第2面上描绘电路图案。 | ||||||
| 18 | 对准标记的检测方法及布线电路板的制造方法 | CN201110102547.9 | 2011-04-21 | CN102253611B | 2014-08-27 | 村上巧丞; 有马明; 服部智洋; 宫崎修平 |
| 本发明提供一种对准标记的检测方法及布线电路板的制造方法。在由摄像机获得的图像的范围内不存在对准标记的情况下，基于存在于图像的范围内的识别标记和所预先存储的对准标记与识别标记间的位置关系算出对准标记的坐标。基于算出的对准标记的坐标算出为了使对准标记位于摄像机的拍摄范围内而要使长条状基材移动的距离，使长条状基材移动算出的距离。 | ||||||
| 19 | 一种对位系统 | CN201310314015.0 | 2013-07-24 | CN103412428A | 2013-11-27 | 邓朝阳; 林子锦; 赵海生 |
| 本发明公开了一种对位系统，用于解决现有的对位处理存在的处理时间长且处理效率低的问题。本发明实施例的对位系统包括：光源发射装置位于待对位对象的一侧，用于朝向该待对位对象发射光线；光源接收装置位于该待对位对象的另一侧且位于该待对位对象上设置的对位标记对应的标准位置上，光源接收装置中朝向该待对位对象的端面上设置有多个用于感应光源发射装置发射出的光线的光感应器；处理器用于接收每个光感应器传输的感应信号，并根据每个光感应器是否感应到光源发射装置发射出的光线，判断该待对位对象对位是否准确，从而缩短了处理时间，提高了处理效率。 | ||||||
| 20 | 对位装置和具有该对位装置的曝光装置 | CN201280010916.4 | 2012-03-05 | CN103403624A | 2013-11-20 | 李德; 中泽朗 |
| 本发明提供一种对位装置，其在电子电路用的多层印刷基板中能够保持与下层的对位精度，并能整合安装在表面上的电子部件之间的对位。该对位装置具有：存储部（82），其存储对准标记（AM）应当形成在基板（PB）上的设计坐标位置（MC）；测定部（70），其测定转印到基板的对准标记的坐标位置；以及计算部（84），其计算将测定部测定出的对准标记的坐标位置向设计坐标位置移动了预定距离的目标坐标位置（TG）。 | ||||||
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