1.一种用于改善参数测量的方法，其包括：
接收与通过度量工具对目标结构的测量相关联的一定量的测量数据；
基于所述一定量的测量数据到所述目标结构的经整合测量模型的拟合来确定表征所述目标结构的一组参数值，其中所述经整合测量模型是基于基于过程的目标模型及基于度量的目标模型；及
将所述一组参数值存储于存储器中。
2.根据权利要求1所述的方法，其中所述基于过程的目标模型根据至少一个过程变量来表征所述目标结构。
3.根据权利要求2所述的方法，其进一步包括：
基于在所述基于过程的目标模型的一或多个参数与所述基于度量的目标模型的一或多个参数之间的关联来产生所述经整合测量模型。
4.根据权利要求3所述的方法，其中所述关联为基于过程模型参数值的范围确定的对度量模型参数的值的范围的约束。
5.根据权利要求3所述的方法，其中所述关联为从所述基于过程的目标模型确定的对所述一或多个度量参数的约束。
6.根据权利要求3所述的方法，其中所述关联为在从所述基于过程的目标模型确定的两个或两个以上度量模型参数之间的函数关系。
7.根据权利要求1所述的方法，其进一步包括：
基于所述一定量的测量数据到所述目标结构的所述经整合测量模型的拟合来确定一或多个过程参数值；及
将所述一或多个过程参数值存储于存储器中。
8.根据权利要求7所述的方法，其中所述一或多个过程参数为所述目标结构的所述经整合测量模型的参数。
9.根据权利要求7所述的方法，其中所述一或多个过程参数为所述目标结构的所述经整合测量模型的仅有参数。
10.根据权利要求7所述的方法，其中所述确定所述一或多个过程参数值涉及基于所述一定量的测量数据到所述经整合测量模型的所述拟合来确定一或多个度量参数值，及基于所述一或多个过程参数与所述一或多个度量参数之间的函数关系来确定所述一或多个过程参数值。
11.根据权利要求7所述的方法，其中所述确定所述一或多个过程参数值涉及将所述测量数据转换到主要成分及直接从所述主要成分确定所述一或多个过程参数值。
12.根据权利要求7所述的方法，其中所述一或多个过程参数值包含聚焦深度值、曝光值、蚀刻时间及沉积时间中的任一或多个。
13.一种用于改善参数测量的方法，其包括：
接收与通过度量工具对目标结构的测量相关联的一定量的测量数据；
确定表征过程的一或多个过程参数值，所述过程用以基于所述一定量的测量数据及所述目标结构的经整合测量模型来产生所述目标结构，其中所述经整合测量模型是基于基于过程的目标模型及基于度量的目标模型；及
将所述一或多个过程参数值存储于存储器中。
14.根据权利要求13所述的方法，其中所述确定所述一或多个过程参数涉及基于所述一定量的测量到所述基于度量的目标模型的拟合来确定至少一个几何参数，及
基于所述基于过程的目标模型及所述至少一个几何参数来确定所述一或多个过程参数值。
15.根据权利要求14所述的方法，其中所述基于过程的目标模型为神经网络模型。
16.根据权利要求15所述的方法，其进一步包括：
至少部分基于过程模型数据来训练所述神经网络模型。
17.根据权利要求13所述的方法，其中所述经整合测量模型为神经网络模型，且所述方法进一步包括：
至少部分基于过程模型数据及对应于所述过程模型数据的测量信号来训练所述神经网络模型。
18.根据权利要求13所述的方法，其进一步包括：
基于来自基于过程的目标模型的模拟结果来产生所述经整合测量模型。
19.根据权利要求13所述的方法，其中所述一或多个过程参数值包含聚焦深度值、曝光值、蚀刻时间及沉积时间中的任一或多个。
20.根据权利要求13所述的方法，其中所述确定表征过程的所述一或多个过程参数值涉及将所述测量数据转换到主要成分及直接从所述主要成分确定所述一或多个过程参数值。
21.一种用于改善参数测量的系统，其包括：
光学度量工具，其包含照明源及经配置以执行目标结构的测量的检测器；及计算机系统，其经配置以：
接收与通过所述度量工具对目标结构的测量相关联的一定量的测量数据；
基于所述一定量的测量数据到所述目标结构的经整合测量模型的拟合来确定表征所述目标结构的一组参数值，其中所述经整合测量模型是基于基于过程的目标模型及基于度量的目标模型；及
将所述一组参数值存储于存储器中。
22.根据权利要求21所述的系统，其中所述基于过程的目标模型根据至少一个过程变量来表征所述目标结构。
23.根据权利要求22所述的系统，其中所述经整合测量模型是基于所述基于过程的目标模型的一或多个参数与所述基于度量的目标模型的一或多个参数之间的关联。
24.根据权利要求21所述的系统，其中所述经整合测量模型是基于来自基于过程的目标模型的模拟结果。
25.根据权利要求21所述的系统，其进一步包括：
基于所述一定量的测量数据到所述目标结构的所述经整合测量模型的拟合来确定一或多个过程参数值；及
将所述一或多个过程参数值存储于存储器中。
26.根据权利要求25所述的系统，其中所述确定所述一或多个过程参数值涉及将所述测量数据转换到主要成分及直接从所述主要成分确定所述一或多个过程参数值。
27.根据权利要求25所述的系统，其中所述一或多个过程参数值包含聚焦深度值、曝光值、蚀刻时间及沉积时间中的任一或多个。
28.一种用于改善参数测量的系统，其包括：
度量工具，其包含照明源及经配置以执行目标结构的测量的检测器；及计算机系统，其经配置以：
接收与通过所述度量工具对目标结构的测量相关联的一定量的测量数据；
确定表征过程的一或多个过程参数值，所述过程用以基于所述一定量的测量数据及所述目标结构的经整合测量模型来产生所述目标结构，其中所述经整合测量模型是基于基于过程的目标模型及基于度量的目标模型；及
将所述一或多个过程参数值存储于存储器中。
29.根据权利要求28所述的系统，其中所述确定所述一或多个过程参数涉及基于所述一定量的测量到所述基于度量的目标模型的拟合来确定至少一个几何参数，及
基于所述基于过程的目标模型及所述至少一个几何参数来确定所述一或多个过程参数值。
30.根据权利要求28所述的系统，其中所述确定所述一或多个过程参数值涉及将所述测量数据转换到主要成分及直接从所述主要成分确定所述一或多个过程参数值。
31.根据权利要求28所述的系统，其中所述一或多个过程参数值包含聚焦深度值、曝光值、蚀刻时间及沉积时间中的任一或多个。