子分类：
- G03F7/0002： .{应用除那些涉及放射线曝光方法外的背景重叠方法的平版印刷加工;例如压印}
- G03F7/0005： .{就以平版印刷加工或因此所使用的材料来区分的光学设备或元件的产品}
- G03F7/0012： .{制造过程中黏性平版印刷材料的用途,例如:用于安装;平版印刷材料的包装;通过加工照相平版印刷材料获得的包装}
- G03F7/0015： .{光圈装置的生产,多微孔系统或印记}
- G03F7/0017： .{用于压纹,切割或或类似装置的生产;用于铸造装置的生产}
- G03F7/002： .{应用包括微囊的材料;准备或加工此类材料,例如:通过加压;因此专门设计的装置或设备}
- G03F7/0035： .{多次加工,例如:对在前一步骤中已有保护层的加更深的保护层,加工有图案或纹路的表面}
- G03F7/0037： .{三维立体图像产品}
- G03F7/004： .感光材料(G03F7/12,G03F7/14优先)
- G03F7/12： .网屏印刷模或类似印刷模的制作,例如,镂花模版的制作
- G03F7/14： .珂罗版印刷模的制作
- G03F7/16： .涂层处理及其设备(用于基底材料涂层一般入B05;用于摄影目的而施加到基底上的感光成分入G03C1/74)
- G03F7/20： .曝光及其设备(复制用照相印制设备入G03B27/00)
- G03F7/26： .感光材料的处理及其设备(G03F7/12至G03F7/24优先)
- G03F7/70： .{用于显微光刻的曝光装置}
| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
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| 1 | 彩色滤光片的制造方法 | CN201410184693.4 | 2014-05-04 | CN103984052B | 2017-09-29 | 徐向阳 |
| 本发明涉及一种彩色滤光片的制造方法，包括：提供一基板；在所述基板上形成黑矩阵层；在形成有黑矩阵层的基板上，通过一掩膜形成至少一第一滤光图案；在形成有所述黑矩阵以及所述第一滤光图案的基板上，通过所述掩膜形成至少一第二滤光图案；在形成有所述黑矩阵、所述第一滤光图案以及所述第二滤光图案的基板上，通过所述掩膜形成至少一第三滤光图案；其中，所述掩膜具有与所述第一滤光图案、所述第二滤光图案以及所述第三滤光图案分别对应的不同的透光光谱。 | ||||||
| 2 | 一种六自由度调节装置 | CN201511031817.6 | 2015-12-31 | CN106932878A | 2017-07-07 | 王凯 |
| 本发明公开了一种六自由度调节装置，包括定位基座和与所述定位基座连接的六自由度调节机构，所述六自由度调节机构包括用于装配芯片的芯片定位座，用于装配所述芯片定位座的角度调节基板，设于所述角度调节基板上的X/Y向水平调节组件、Z向及绕X/Y向调节组件及绕Z向调节组件。本发明不仅有效实现对光电转换芯片的六自由度调节，无需借助其他定位装置，精度高、操作简便；且光电转换芯片的旋转中心与光轴重合，进行绕光轴旋转调节时，不会使其他自由度发生变化，调节快、效率高，本发明结构简单，重量轻便，成本低廉，切实满足了实际应用的需要。 | ||||||
| 3 | 钟表部件 | CN201611022971.1 | 2016-11-18 | CN106896694A | 2017-06-27 | C·沙邦 |
| 本发明涉及一种钟表部件(1)，其包括由适于电成型的材料制成的芯体(2)，在一个实施例中，所述材料包含镍磷合金或者由镍磷合金制成，所述芯体(2)至少局部地涂覆金或金合金的表面层(3)，以改善芯体在包括所述金或金合金的表面层(3)的区域(4)中的摩擦学性能，所述钟表部件(1)通过包括以下步骤的制造方法制成：‑制备适于通过LIGA或电成型技术形成实心芯体(2)的组合物；‑通过LIGA或电成型技术来成形实心芯体(2)；‑至少局部地在经受摩擦的区域(4)中对实心芯体(2)涂覆金或金合金的表面层(3)。 | ||||||
| 4 | 一种同心环型拓扑超透镜及其结构获取方法、制作方法 | CN201611178153.0 | 2016-12-19 | CN106443845A | 2017-02-22 | 邓永波; 吴一辉; 刘永顺 |
| 本发明公开了一种同心环型拓扑超透镜及其结构获取方法、制作方法，其中，结构获取方法包括：以预定数值孔径对应的焦点位置处光波电场能量密度极大化为目标，进行以圆极化波或辐射极化波为激励、置于指定基底上、具有旋转对称性的超透镜主体推导，在超透镜主体的对称面内，建立无损耗二氧化钛的插值函数，通过迭代方式求解出以焦点处的光波场能量密度极大为目标的横磁波的赫姆霍兹方程，获得收敛的超透镜主体的面型结构；将收敛的超透镜主体的面型结构绕对称轴旋转，获得同心环型拓扑超透镜主体。通过采用逆推的方式，推导出超透镜主体结构，使得超透镜的数值孔径可根据需求自由指定，超透镜体积小，工艺简单，制造成本低，易于集成和阵列化。 | ||||||
| 5 | 制造包括至少两个不同的功能性高度的一体式微机械构件的方法 | CN201410049720.7 | 2014-02-13 | CN103979483B | 2017-01-18 | A·弗辛格; M·斯特兰策尔 |
| 本发明涉及一种制造包括至少两个不同的功能性高度的一体式微机械构件（31，41，61，91）的方法。根据本发明，所述方法（1）包括在单个高度上的LIGA工艺以及对直接在衬底（2）上的LIGA沉积物进行机加工的工艺。 | ||||||
| 6 | 微通孔列阵癌细胞检测芯片紫外压印制作方法 | CN201610490298.8 | 2016-06-29 | CN106115609A | 2016-11-16 | 张东; 张为国; 张之胜; 王赟姣; 高明友; 夏良平; 史浩飞; 杜春雷 |
| 本发明提供一种微通孔列阵癌细胞检测芯片紫外压印制作方法，隶属微纳加工领域，该方法采用紫外压印的技术，在高分子薄膜材料上制作出微通孔列阵。该方法的思路为在透明印模的突出部分镀金属掩蔽层作为挡光膜，在紫外压印时挡光处理，使其不能固化，而其余部分固化成孔壁结构，脱模后清洗殘胶制得通孔膜层即为检测芯片。利用该芯片可过滤出正常细胞，阻挡住体积较大的癌变细胞，然后可进一步利用现有成熟病理分析手段，甄别癌细胞及其类别。该方法可批量化低成本的制作出癌细胞检测芯片，为早期癌症的检测提供一种有效手段。 | ||||||
| 7 | 钝化组合物及其应用 | CN201410027459.0 | 2014-01-21 | CN103772727B | 2016-10-05 | 陈威凯; 吴督宜 |
| 一种钝化组合物以及使用该组合物以形成导电图案的方法，其中该组合物包含一氧化剂、一具通式M(OH)n的无机碱以及一溶剂，其中M为金属离子且n为该金属离子的价数，该方法包含以下步骤：（a）于一基材上形成一聚合物导电层，以提供一导电基材，其中该聚合物导电层包括一对应于导电图案的导电区域的第一区域及一对应于导电图案的非导电区域的第二区域；以及（b）使用该钝化组合物对该第二区域进行一钝化处理，以降低该第二区域的导电度。 | ||||||
| 8 | 一种微流体离子源芯片及其制备方法 | CN201610149298.1 | 2016-03-16 | CN105797791A | 2016-07-27 | 钱翔; 于赐龙; 王晓浩; 余泉; 倪凯 |
| 本发明公开了微流体离子源芯片及及其制备方法，微流体离子源芯片包括离散相层、第一连续相层和喷雾口，离散相层包括离散相储存池和离散相流道，第一连续相层包括第一连续相储存池和第一连续相流道，第一连续相流道始于第一连续相储存池并于设定位置分成两条第一连续相流道支路，两条第一连续相流道支路汇合于喷雾口，离散相流道连通离散相储存池和喷雾口，离散相流道位于两条第一连续相流道支路之间。本方法制备的超音速自动进样微流体离子源芯片使得连续相在喷雾口形成负压，实现样品的自动进样和离子化功能。超音速自动进样微流体离子源芯片可以应用在喷墨打印、生物制药、微纤维纺丝、质谱仪等需要自动进样喷雾的领域。 | ||||||
| 9 | 一种去除石墨烯的方法 | CN201610155520.9 | 2016-03-18 | CN105719953A | 2016-06-29 | 王炜; 谭化兵; 刘海滨; 秦喜超 |
| 本发明公开了一种去除石墨烯的方法，是采用特定波长的紫外光，在特定环境中，处理石墨烯薄膜，将指定区域的石墨烯去除掉，适用于单层或多层石墨烯薄膜的去除或图案化工艺。本发明的有益效果为：1、本发明采用特定波长的紫外光，在特定环境中刻蚀处理石墨烯薄膜，相比现有工艺，方法简单，效率高，成本低；2、本发明可以实现高精度的石墨烯图案化制作，且可选用的掩膜范围广，可以实现低成本掩膜，适合于石墨烯薄膜在不同领域不同行业的加工应用；3、本发明采用的处理方法容易应用到大规模工业化生产中。 | ||||||
| 10 | 固化型组合物、使用其的固化涂膜和印刷电路板 | CN201480060680.4 | 2014-11-04 | CN105705529A | 2016-06-22 | 志村优之; 古田佳之; 汤本昌男 |
| 本发明提供能够兼顾对印刷电路板、特别是柔性基板等良好的密合性和高硬度的固化型组合物、其保护涂膜、以及具有其保护图案的印刷电路板。一种固化型组合物，其包含：(A)光产碱剂、(B-1)具有环氧基的(甲基)丙烯酸酯化合物或(B-2)具有羧基的(甲基)丙烯酸酯化合物、(C)光聚合引发剂、和(D-1)热固化成分(除(B-1)具有环氧基的(甲基)丙烯酸酯化合物以外)或(D-2)热固化成分(除(B-1)具有羧基的(甲基)丙烯酸酯化合物以外)。 | ||||||
| 11 | 定向自组装模板转移方法 | CN201610067780.0 | 2016-01-29 | CN105565261A | 2016-05-11 | 孟令款; 闫江 |
| 本发明提供了一种定向自组装模板转移方法，包括：提供半导体衬底，在所述半导体衬底上形成掩模层；在所述掩模层上形成缓冲层；在所述缓冲层上形成嵌段共聚物；对所述嵌段共聚物进行定向自组装，分别形成由所述嵌段共聚物的第一组分和第二组分构成的第一区域和第二区域；选择性去除所述第一区域并保留所述第二区域以形成预定图案；利用所述预定图案对所述缓冲层进行刻蚀以形成缓冲层图案；以及以所述缓冲层图案为掩模，对所述掩模层进行刻蚀，以形成掩模层图案。在本发明的定向自组装模板转移方法中引入了由非晶硅或多晶硅构成的缓冲层，降低了刻蚀过程中对嵌段共聚物分子弱刻蚀特性的高度依赖，因此能够得到高保真和重复性好的刻蚀结构。 | ||||||
| 12 | 泵系统、二氧化碳供给系统、抽取系统、光刻设备和器件制造方法 | CN201210548141.8 | 2012-12-17 | CN103176367B | 2016-02-03 | M·L·范德盖格; L·H·范德霍伊维尔; A·H·J·A·马登斯; F·J·J·范鲍克斯台尔 |
| 本发明公开了一种泵系统、一种二氧化碳供给系统、一种抽取系统、一种光刻设备和一种器件制造方法。所述抽取系统包括：泵，用于将气体沿着管道泵送至止回阀，所述止回阀配置成在上游压强高于一定的幅值时打开；压强传感器，用于生成指示在泵和止回阀之间的气压的信号；和控制器，所述控制器配置成在来自压强传感器的信号指示在泵和止回阀之间的气压低于一定的幅值的情况下生成停止信号。 | ||||||
| 13 | LED面板灯用扩散板的制备方法 | CN201510701825.0 | 2015-10-26 | CN105242335A | 2016-01-13 | 蒋建华; 张科; 黄慧诗; 张琦; 李睿; 承铁冶 |
| 本发明涉及一种LED面板灯用扩散板的制备方法，其包括如下步骤：a、提供母盘衬底，并在所述母盘衬底的正面设置双层掩膜层；b、在上述双层掩膜层上制作所需的刻蚀窗口；c、进行纵向刻蚀，以在所述母盘衬底内得到沟槽；d、进行横向刻蚀，以得到若干母盘微凸结构；e、并对母盘衬底的背面进行减薄；f、对上述的母盘衬底进行切割，以得到所需的母盘；g、将上述金属母盘装入注塑机内，利用常规的注塑工艺制备与光盘相似的扩散板，所述扩散板的中心区设有贯通扩散板的扩散板圆孔，且在扩散板内形成于与母盘微凸结构相对应的导光微结构。本发明工艺简单，与现有半导体工艺相兼容，能确保扩散板的正面出光效果，安全可靠。 | ||||||
| 14 | 大面积微纳图形化的装置和方法 | CN201510654336.4 | 2015-10-10 | CN105159029A | 2015-12-16 | 兰馨然; 兰红波 |
| 本发明公开了一种大面积微纳图形化的方法和装置，该装置机架、工作台、承片台、衬底、压印材料、软模具、滚轮、紫外光光源、压印机构、真空管路、压力管路。基于该装置实现大面积微纳图形化的方法：(1)预处理；(2)压印和固化；(3)脱模；(4)后处理。该方法充分结合了平板型纳米压印和滚轮型纳米压印工艺的优势，通过滚轮、软模具、工作台和气路系统的密切配合，完成大面积压印和脱模操作。实现在超大尺寸、非平整刚性衬底(硬质基材或基板)、或易碎衬底上高效、低成本规模化制造大面积微纳米结构，解决了米级尺度超大尺寸刚性衬底的大面积微纳米图形化难题。具有结构和工艺简单、效率高、成本低、压印图形精度高和缺陷率低的特点。 | ||||||
| 15 | 平版印刷产生的特征 | CN201480018102.4 | 2014-02-25 | CN105051605A | 2015-11-11 | I·布莱基; Y-M·庄; A·K·惠塔克尔; K·S·杰克 |
| 本发明涉及一种改性材料中平版印刷产生的特征上的线边缘粗糙度的方法，所述方法包括将嵌段共聚物施用到具有线边缘粗糙度的特征上的区域，所述嵌段共聚物包含带电的亲水聚合物嵌段和非带电的亲水聚合物嵌段。 | ||||||
| 16 | 一种显示装置、阵列基板及其制作方法 | CN201310082081.X | 2013-03-14 | CN103151359B | 2015-11-11 | 崔承镇; 刘圣烈; 宋泳锡 |
| 本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种显示装置、阵列基板及其制作方法。该阵列基板包括：基板，所述基板上依次设有薄膜晶体管、钝化层和透明电极层，所述树钝化层上形成凹槽，所述透明电极层设置于凹槽内。本发明提供的显示装置、阵列基板及其制作方法，制作工艺简单，采用具有凹槽的钝化层，利用光刻胶进行灰化工艺形成透明电极层，从而省略制备透明电极的掩模板，可最大程度降低制造成本。 | ||||||
| 17 | 一种微型吸盘及其吸附方法 | CN201410152099.7 | 2014-04-15 | CN105020240A | 2015-11-04 | 陈惠芬 |
| 本发明公开一种微型吸盘，包括一个吸附面，所述吸附面（1）上设置有若干微细的空心吸盘（2）阵列。本发明还公开这种微型吸盘的吸附方法。本发明微型吸盘采用微细制造和仿生学的原理制得，可以组成爬墙机器人的足，从而在机构和微型真空抽吸系统的作用下，实现任何状态的吸附；本发明可以适用任何状态的接触，同时可以利用刚毛吸附的机制完善吸附效果。 | ||||||
| 18 | 柔性版印刷前体及制造方法 | CN201180017311.3 | 2011-03-23 | CN102821959B | 2015-07-29 | O.梅拉梅德; I.加多; L.达汉 |
| 高分子量EPDM橡胶与低分子量(液体)EPDM橡胶的混合物提供高度有用的激光可烧蚀柔性版印刷胶版前体配制物。所述配制物通过纳入诸如炭黑等吸收IR的化合物而对红外辐射敏感。所述液体EPDM橡胶的包括避免了制造期间对于诸如操作油等增塑剂的需要，并提供提高的图像敏感度、印刷质量及运转时间。柔性版印刷胶版及印刷套筒二者均可使用所述EPDM橡胶的混合物来制得。 | ||||||
| 19 | 纳米尺寸图形化衬底的制备方法 | CN201310705579.7 | 2013-12-19 | CN104733569A | 2015-06-24 | 刘海鹰 |
| 本发明提供了一种纳米尺寸图形化衬底的制备方法，包括以下步骤：在蓝宝石衬底上涂覆一层光刻胶，作为第一光刻胶层；在第一光刻胶层上生长硬掩膜；在硬掩膜上涂覆一层光刻胶，作为第二光刻胶层；利用纳米压印技术，将第二光刻胶层图形化；刻蚀硬掩膜，将硬掩膜图形化；刻蚀第一光刻胶层，将第一光刻胶层图形化；进行蓝宝石衬底的刻蚀，将蓝宝石衬底图形化。其有效降低了底部残留胶对蓝宝石衬底形貌的影响；且在进行蓝宝石衬底的刻蚀中，掩膜为金属/介质+光刻胶的双层复合结构，可获得较高尺寸的衬底图形；同时，相对于纯金属的掩膜，金属/介质+光刻胶的双层复合结构具有相对较低的选择比，可形成三角锥形的蓝宝石衬底图形。 | ||||||
| 20 | 彩膜基板、彩膜基板的制备方法及液晶显示器 | CN201510119984.X | 2015-03-18 | CN104698673A | 2015-06-10 | 谢畅 |
| 本发明提供一种彩膜基板、彩膜基板的制备方法及液晶显示器，包括：在玻璃基板上制备黑矩阵；在黑矩阵上依次生成多种颜色的色阻以形成彩膜层，所述色阻包括主体部和延长部，且所述主体部呈矩形，所述延长部位于所述主体部的矩形各顶点处向所述矩形的相对侧延伸。本发明通过在所述彩膜层的各色阻上设置延长部，使其制备的液晶显示器避免了漏光的现象，且制备工艺简单、成本低廉。 | ||||||
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