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极紫外光刻
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标题 发布/更新时间 阅读量
Method to adjust multilayer film stress induced deformation of optics 2021-03-29 651
Reflective optical imaging system with balanced distortion 2021-04-01 160
Passivating overcoat bilayer for multilayer reflective coatings for extreme ultraviolet lithography 2021-04-02 351
Cleaning process for EUV optical substrates 2021-04-03 340
Critical illumination condenser for x-ray lithography 2021-05-12 773
Photoresist composition for extreme ultraviolet lithography 2021-03-31 863
Four mirror EUV projection optics 2021-04-04 743
Maskless, reticle-free, lithography 2021-05-13 651
Efficient narrow spectral width soft-X-ray discharge sources 2021-05-14 932
Method and apparatus for X-ray and extreme ultraviolet inspection of lithography masks and other objects 2021-03-30 591
High numerical aperture ring field optical reduction system 2021-04-14 238
A lithographic process for device fabrication using a multilayer mask 2021-04-10 641
Four mirror EUV projection optics 2021-04-13 458
REFLECTIVE OPTICAL IMAGING SYSTEM 2021-04-05 229
FILTER FOR EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY 2021-04-06 380
MO-SI MULTILAYER COATING 2021-04-08 612
METHOD TO ADJUST MULTILAYER FILM STRESS INDUCED DEFORMATION OF OPTICS 2021-04-07 193
DISCHARGE LAMP SOURCES APPARATUS AND METHODS 2021-04-09 112
METHOD AND DEVICE FOR PRODUCING EXTREME ULTRAVIOLET AND SOFT X-RAYS FROM A GASEOUS DISCHARGE 2021-04-11 803
EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY MASK BLANK AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR 2021-04-12 247
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