子分类：
- G03F1/00： 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜,光罩;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
- G03F3/00： 分色;色调值的校正(一般照相复制设备入G03B)
- G03F5/00： 网屏印刷法;其所用网屏
- G03F7/00： 图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备(用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置,例如,B44C,H01L,例如,H01L21/00,H05K)
- G03F9/00： 原版、蒙片、片框、照片、图纹表面的对准或定位,例如自动地(G03F7/22优先;照相蒙片的制备入G03F1/00;在复制用的照相印片设备中的入G03B27/00)注意: 从2012年1月1日起,G03F9/70 - G03F9/00T26组不再用于新文献分类。以前文献正逐步转移到下面新的组: - G03F9/70转入G03F9/70 - G03F9/00T12转入G03F9/7003 - G03F9/00T14转入G03F9/7049 - G03F9/00T16转入G03F9/7065 - G03F9/00T18转入G03F9/7069 - G03F9/00T20转入G03F9/7073 - G03F9/00T22转入G03F9/7088 - G03F9/00T24转入G03F9/7092 - G03F9/00T26转入G03F9/7096
| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
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| 141 | 光刻对准标记和用于半导体制造的器件 | CN201610858785.5 | 2016-09-28 | CN107015446A | 2017-08-04 | 陈庆煌; 林书宏; 吕奎亮; 张雅惠; 谢弘璋 |
| 用于半导体制造的器件包括衬底和形成在衬底上方的层，其中，层包括对准标记。对准标记包括沿着第一方向纵向定向的多个第一纵长构件，并且该多个第一纵长构件沿着第二方向分布。对准标记还包括沿着与第一方向垂直的第三方向纵向定向的多个第二纵长构件，并且该多个第二纵长构件沿着第二方向分布，其中第二方向与第一方向和第三方向中的每一个都不同。本发明还提供了光刻对准标记。 | ||||||
| 142 | 用于蚀刻包含铜和钼的多层膜的液体组合物以及使用其的蚀刻方法 | CN201310123603.6 | 2013-04-10 | CN103361644B | 2017-08-04 | 夕部邦夫; 玉井聪 |
| 本发明提供用于蚀刻包含铜和钼的多层膜的液体组合物以及使用其的蚀刻方法。一种液体组合物，其包含(A)过硫酸根离子供给源、(B)铜离子供给源以及(C)选自由氨、铵离子、胺和烷基铵离子组成的组中的至少一种氮化合物供给源，所述液体组合物的pH为3.5～9。 | ||||||
| 143 | 表膜及其制造方法 | CN201611255242.0 | 2016-12-30 | CN106997847A | 2017-08-01 | 马正鑫; 吴小真; 杨棋铭; 陈其贤; 林志诚; 林云跃 |
| 本发明实施例揭示一种表膜及其制造方法。制造表膜的方法包括：提供支撑衬底；形成氧化物层于支撑衬底上方；形成金属层于氧化物层上方；形成石墨烯层于金属层上方；以及去除支撑衬底与氧化物层的至少一部分。一种相关的方法包括：提供支撑衬底；形成第一碳化硅SiC层或钻石层于支撑衬底上方；形成石墨烯层于SiC层或钻石层上方；以及去除支撑衬底与第一碳化硅SiC或钻石层的至少一部分；其中表膜对于极紫外EUV辐射为具有至少部分可穿透性。本揭露还提供相关的表膜。 | ||||||
| 144 | 一种低刚度的磁悬浮重力补偿器及微动台结构 | CN201710371037.9 | 2017-05-24 | CN106997155A | 2017-08-01 | 陈学东; 陈冬郎; 曾理湛; 赵鹏程; 胡兰雄 |
| 本发明属于重力补偿结构相关技术领域，其公开了一种低刚度的磁悬浮重力补偿器，其包括动子结构及定子结构，动子结构包括外永磁阵列环、内永磁阵列环及动子支撑框架，外永磁阵列环及内永磁阵列环分别设置在动子支撑架的环形槽相对的两个侧壁上，内永磁阵列环的厚度大于外永磁阵列环的厚度；定子结构包括收容于环形槽内的线圈支架及嵌设在线圈支架上的定子永磁环，所述定子永磁环的高度大于厚度，定子永磁环与内永磁阵列环的间距小于定子永磁环与外永磁阵列环的间距。本发明还提供了具有上述的磁悬浮重力补偿器的微动台结构。本发明实现了动子结构在较宽运动范围内的近零刚度磁力悬浮，且结构简单，适用范围广。 | ||||||
| 145 | 着色固化性树脂组合物、滤色器和包含该滤色器的显示装置 | CN201710050393.0 | 2017-01-23 | CN106997149A | 2017-08-01 | 中野骏; 冈本信之; 寺川贵清 |
| 一种着色固化性树脂组合物，其包含着色剂(A)、树脂(B)、聚合性化合物(C)和聚合引发剂(D)，包含具有呫吨骨架的染料作为上述着色剂(A)，包含羟值为100mgKOH/g以上的聚合性化合物作为上述聚合性化合物(C)。 | ||||||
| 146 | 着色组合物与其用途及着色化合物 | CN201480053273.0 | 2014-09-25 | CN105593246B | 2017-07-28 | 藤田明徳; 樋口聡; 加藤隆志; 石绵靖宏; 冈部孝太郎 |
| 本发明提供一种耐热性、耐溶剂性及电压保持率优异的着色组合物与其用途及着色化合物。本发明的着色组合物包括含有如下的重复单元与反荷阴离子的着色剂以及聚合性化合物，所述重复单元具有包含阳离子的三芳基甲烷结构。 | ||||||
| 147 | 偏振光分束器、基板处理装置、器件制造系统及器件制造方法 | CN201380067898.8 | 2013-11-05 | CN104885012B | 2017-07-28 | 加藤正纪; 铃木哲男; 镰田刚忠; 荒井正范; 北纮典 |
| 具备：保持反射型的光罩(M)的光罩保持筒(21)；将入射的照明光束(EL1)朝向光罩(M)反射、并且使照明光束(EL1)被光罩(M)反射而得到的投影光束(EL2)透射的分束器(PBS)；使照明光束(EL1)向分束器(PBS)入射的照明光学组件(ILM)；和将透射过了分束器(PBS)的投影光束(EL2)投影曝光至基板(P)的投影光学组件(PLM)，照明光学组件(ILM)及分束器(PBS)设于光罩(M)与投影光学组件(PLM)之间。另外，分束器(PBS)具备第1棱镜、第2棱镜和偏振膜，偏振膜(93)是将二氧化硅的第1膜体与氧化铪的第2膜体在膜厚方向层叠而成的。 | ||||||
| 148 | EUV微光刻的投射镜头、膜元件及制造包含膜元件的投射镜头的方法 | CN201380008896.1 | 2013-02-08 | CN104136999B | 2017-07-28 | B.比特纳; N.瓦布拉; S.施耐德; R.施耐德; H.瓦格纳; C.沃尔德; R.伊利尤; T.希克坦兹; T.格鲁纳; W.保罗斯; H.施密特 |
| 一种投射镜头(PO)，该投射镜头利用具有来自极紫外范围(EUV)的工作波长λ的电磁辐射，将布置在该投射镜头的物平面(OS)中的图案成像于该投射镜头的像平面(IS)中，该投射镜头包含多个反射镜(M1‑M6)，该多个反射镜具有反射镜表面，该反射镜表面布置在该物平面及该像平面之间的投射光束路径中，使得可利用该反射镜将布置在该物平面中的图案成像于该像平面中。分配的波前校正装置(WFC)包含膜元件(FE)，该膜元件具有一膜，该膜在波前校正装置的操作模式中布置在投射光束路径中且在工作波长λ透射照在光学使用区中的EUV辐射的主要部分。该膜元件包含：第一层，其由具有第一复数折射率n1＝(1‑δ1)+iβ1的第一层材料构成且具有在使用区上根据第一层厚度分布局部改变的第一光学层厚度；以及第二层，其由具有第二复数折射率n2＝(1‑δ2)+iβ2的第二层材料构成且具有在使用区上根据第二层厚度分布局部改变的第二光学层厚度，其中该第一层厚度分布与该第二层厚度分布不同。第一折射率的实部与1的偏差δ1相对于第一层材料的吸收系数β1较大，第二折射率的实部与1的偏差δ2相对于第二层材料的吸收系数β2较小。 | ||||||
| 149 | 可光固化组合物、包含其的阻挡层和包含该层的封装设备 | CN201380070093.9 | 2013-09-30 | CN104903384B | 2017-07-25 | 禹昌秀; 张胜宇; 田桓承; 崔承集 |
| 本发明涉及：可光固化组合物，其包含具有由化学式A表示的重复单元(具有1至15碳数的直链或支链的亚烷基氧化物)和可光固化官能团的硅基化合物；还涉及包含该组合物的阻挡层；和包含该阻挡层的封装设备。 | ||||||
| 150 | 感光性树脂组合物、使用了该树脂组合物的图案固化膜的制造方法以及电子部件 | CN201280021079.5 | 2012-06-13 | CN103502889B | 2017-07-21 | 峰岸知典; 加藤木茂树 |
| 一种感光性树脂组合物，其含有：（a）聚苯并噁唑前体、（b）感光剂、（c）溶剂、（d）交联剂、和（e）在分子内具有羟基、烷氧基或羧基的杂环状化合物。 | ||||||
| 151 | 自发射型感光树脂组合物、由其制备的颜色转换层及含颜色转换层的图像显示装置 | CN201611223467.8 | 2016-12-27 | CN106959583A | 2017-07-18 | 吴龙虎; 朴廷烋; 李宗洙; 张虎振 |
| 根据本发明的一种自发射型感光树脂组合物包括由下式1表示的荧光染料：[式1]其中，取代基如说明书中定义。 | ||||||
| 152 | 着色感光树脂组合物及包括其的柱状间隔物 | CN201611175262.7 | 2016-12-19 | CN106959580A | 2017-07-18 | 李贤普; 金勋植 |
| 本发明提供了一种着色感光树脂组合物，包括着色剂、粘合剂树脂、光聚合性化合物、光聚合引发剂和溶剂，其中基于该组合物的总固体含量，所述着色剂的量为30‑55重量％，且基于该组合物的总固体含量，所述光聚合引发剂的量为0.8‑3.5重量％；以及包括该着色感光树脂组合物的柱状间隔物和液晶显示装置。根据本发明的着色感光树脂组合物能够改善柱状间隔物的角度(CS‑角度)以确保视角。 | ||||||
| 153 | 微光刻投射曝光设备的光学系统 | CN201380065563.2 | 2013-12-03 | CN104854510B | 2017-07-18 | M.莫尔 |
| 本发明涉及一种用于尤其在EUV中操作的微光刻投射曝光设备的光学系统，包含：反射镜装置(200)，由多个可相互独立调节的反射镜元件组成；以及至少一个偏振影响装置(100)，相对于光传播方向布置在所述反射镜装置(200)的上游，其中，所述偏振影响装置(100)具有一组第一反射表面(111、112、...)和一组第二反射表面(121、122、...)，其中，所述第一反射表面(111、112、...)能够彼此独立地倾斜，并且其中，在所述光学系统操作期间，取决于所述第一反射表面(111、112、...)的倾斜，经由所述第二反射表面(121、122、...)的相应不同一个可以将在所述第一反射表面(111、112、...)的相应一个处反射的光引导至所述反射镜装置(200)。 | ||||||
| 154 | 一种对位曝光方法 | CN201510249494.1 | 2015-05-15 | CN104808451B | 2017-07-18 | 余学权; 吴斌; 李坤; 任立志; 沈文俊; 高亚东 |
| 本发明公开一种对位曝光方法，涉及显示面板制造技术领域，为解决使用现有的对位曝光方法无法实现对大于掩膜板尺寸的透明基板进行曝光的问题。所述对位曝光方法，包括一次对位曝光过程和二次对位曝光过程，一次对位曝光过程中在透明基板的至少一侧边缘形成多对对位标记，二次对位曝光过程中使用的掩膜板的至少一侧边缘上设有一对标记孔；在二次对位曝光过程的多次掩膜板对位过程中，使掩膜板上的一对标记孔逐一与透明基板上对应侧的各对对位标记对正。本发明提供的对位曝光方法用于对大于掩膜板尺寸的透明基板进行多次拼接的二次曝光。所述对位曝光方法用于显示基板的制作。 | ||||||
| 155 | TFT的制造方法及阵列基板的制造方法 | CN201710153568.0 | 2017-03-15 | CN106952825A | 2017-07-14 | 蔡小龙 |
| 本发明公开一种TFT的制造方法及阵列基板的制造方法。所述方法包括：在衬底基材上形成交错间隔设置的中转层；在中转层上形成覆盖衬底基材的金属层；对中转层进行DIW脱膜制程，以将中转层及其上方的金属层从衬底基材上剥离，而未设置在中转层上方的金属层保留在衬底基材上而形成TFT的金属电极。基于此，本发明能够节省传统制程金属刻蚀溶液、图案中转层剥离(Stripper)溶液及二者废液处理的成本,同时能够有效避免传统制程铜刻蚀形成金属电极时刻蚀溶液中铜离子聚集而引起过热爆炸的风险。 | ||||||
| 156 | 一种改性聚氨酯丙烯酸酯共聚物、光刻胶及其制备方法 | CN201710194202.8 | 2017-03-28 | CN106947053A | 2017-07-14 | 陈未凤; 顾奇; 王胜林 |
| 一种改性聚氨酯丙烯酸酯共聚物，由按照质量份计算的下列组分制备而成：多异氰酸酯16.1～50.9份；聚醚多元醇15.4～40.2份；催化剂0.01～0.09份；羧基二元醇3.1～11.6份；环氧树脂5.3～20.8份；阻聚剂0.1～0.5份；含羟基的丙烯酸酯10.7～35.5份；溶剂10～80份；所述的多异氰酸酯为下列物质中的一种或多种的混合物：六亚甲基二异氰酸酯、甲苯二异氰酸酯、1,6‑己二异氰酸酯、异佛尔酮二异氰酸酯、二苯基甲烷二异氰酸酯、苯二亚甲基二异氰酸酯、多亚甲基多苯基多异氰酸酯。本发明操作简单，生产周期短，制备的改性聚氨酯丙烯酸酯共聚物酸值可调，耐热性好，抗蚀性强，对基材具有很好的附着力，性能稳定，制备的光刻胶综合性能良好，易于推广和应用。 | ||||||
| 157 | 图形化装置和形成抗刻蚀图形的方法 | CN201410025114.1 | 2014-01-20 | CN104793468B | 2017-07-14 | 伍强; 胡华勇; 刘畅; 居建华; 李国锋 |
| 本发明提供了一种图形化装置和形成抗刻蚀图形的方法，其中，所述图形化装置包括：一个或多个喷射单元，所述喷射单元适于沿扫描方向喷射抗刻蚀液体至晶圆表面；一个或多个光照单元，所述光照单元适于沿扫描方向照射晶圆表面的抗刻蚀液体，使得晶圆表面的抗刻蚀液体固化，形成抗刻蚀图形；控制模块，所述控制模块适于控制所述一个或多个喷射单元的运动和喷射状态、以及控制所述一个或多个光照单元的运动和照射状态。本发明图形化装置和形成抗刻蚀图形的方法的成本低，产量高。 | ||||||
| 158 | 感光性聚硅氧烷组成物、保护膜及具有保护膜的元件 | CN201310731751.6 | 2013-12-18 | CN103885294B | 2017-07-14 | 吴明儒; 施俊安 |
| 本发明涉及感光性聚硅氧烷组成物、保护膜及具有保护膜的元件。一种感光性聚硅氧烷组成物，包含聚硅氧烷高分子(A)、邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)、每分子具有至少含有六个(甲基)丙烯酰基的氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)，及溶剂(D)；由该感光性聚硅氧烷组成物所形成的保护膜具有良好的感度。 | ||||||
| 159 | 着色固化性树脂组合物 | CN201480033661.2 | 2014-06-23 | CN105683298B | 2017-07-11 | 织田胜成; 藤田拓麻 |
| 着色固化性树脂组合物，是包含着色剂、树脂、聚合性化合物、聚合引发剂和溶剂的着色固化性树脂组合物，着色剂包含由式(I)表示的化合物。(式中，L表示磺酰基等，X表示氧原子等，R7～R13各自独立地表示氢原子等，Z表示由式(Z1)：(式中，R1表示碳数1～20的烷基，构成该烷基的‑CH2‑可以被氧原子替换，R2～R6各自独立地表示氢原子等，＊表示键合端。)表示的基团或由式(Z2)：(式中，Ar1表示在邻位、间位或这两者具有碳数1～8的烷基的苯基，＊表示键合端。)表示的基团)。 | ||||||
| 160 | 曝光装置、曝光方法 | CN201480017126.8 | 2014-03-24 | CN105190444B | 2017-07-11 | 三宅健; 高木俊博 |
| 本发明提供能够以简单的结构遍及基板的曝光面整个区域稳定地成像的曝光技术。对柔性的带状基板S进行曝光的曝光装置具备：两个夹持部(20)，其具备由透光性的构件形成且具有呈平坦面的透过部、并且通过各个平坦面能够夹持基板的第一夹持部(20a)以及第二夹持部(20b)；第一移动部(50)，其使两个夹持部(20)在接近的方向以及远离的方向上移动；第一曝光部(30)，其在第一夹持部(20a)的一侧固定位置；第二曝光部(40)，其配置在第二夹持部(20b)的一侧；以及第二移动部(60)，其在基板的夹持状态下，使两个夹持部与两个曝光部相对移动。曝光装置在夹持状态下，在将两个夹持部(20)的各自的平坦面与两个曝光部的距离保持为固定的同时，使第一以及第二夹持部(20a、20b)移动，从而将基板在长度方向上搬运，并经由两个夹持部(20)的透过部在基板的两面上同时曝光。 | ||||||
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