1.一种发光均匀度校正设备，适用于对曝光机的一发光模块进行发光均匀度校正，且该发光模块具有多个发光单元以产生一面光源，其特征在于，该发光均匀度校正设备包含：
一感测模块，与该发光模块的发光面相对设置，并于对应该发光面的多个取样位置上对该发光面进行光强度感测，且根据于各该取样位置所感测的光线的强度而分别产生对应的一光强度讯号；
一移动模块，根据一取样位置信息讯号，使该感测模块与该发光模块的间产生相对位移以于各该取样位置间进行移动；
一处理模块，与该感测模块及该移动模块相耦接，并输出该取样位置信息讯号且接收该感测模块于各该取样位置所产生的光强度讯号，并于该发光面的发光均匀度不符合一均匀度标准时产生对应的一校正讯号；及
一调整模块，与该处理模块及该发光模块相耦接，根据该校正讯号对应地调整这些发光单元中的至少一者的发光强度。
2.如权利要求1所述的发光均匀度校正设备，其中该调整模块系根据该校正讯号分别调整对这些发光单元中的至少一者的供电量，以分别改变被调整的各该发光单元的发光强度。
3.如权利要求1所述的发光均匀度校正设备，其特征在于，该处理模块取得该面光源上具有异常光强度的区块的一异常坐标位置信息及一异常光强度信息，并将该异常坐标位置信息及该异常光强度信息搭载于该校正讯号来输出。
4.如权利要求3所述的发光均匀度校正设备，其特征在于，该调整模块根据该异常坐标位置信息来定位出发光异常的发光单元，并根据该异常光强度信息来调整被定位的发光单元的发光强度。
5.如权利要求1至4中任一项所述的发光均匀度校正设备，其特征在于，该感测模块为光电转换器。
6.如权利要求5所述的发光均匀度校正设备，其特征在于，该光电转换器具有光电二极管。
7.一种发光均匀度校正方法，使用如权利要求1至4中任一项所述的发光均匀度校正设备来对曝光机的发光模块进行发光均匀度校正，其特征在于，该发光均匀度校正方法包含：
S10：分辨率设定步骤，设定该曝光机的发光模块的多个取样位置的数量及坐标；
S12：光强度感测步骤，分别于这些取样位置上对该曝光机的发光模块的发光面进行光强度感测；
S14：均匀度分析步骤，根据各该取样位置的光强度进行分析并判断各该取样位置的光强度是否符合该均匀度标准，若不符合进入步骤S16，若符合则结束该校正方法；及S16：均匀度校正步骤，根据光强度异常的取样位置取得对应该取样位置的发光单元，并对该发光单元的发光强度进行调整。
8.如权利要求7中所述的发光均匀度校正方法，其特征在于，步骤S16后还包含：
S18：均匀度确保步骤，再次分别于这些取样位置上对该发光面进行光强度感测，并判断各该取样位置的光强度是否符合该均匀度标准，若不符合进入步骤S16，若符合则结束该校正方法。