子分类：
- C23C2/00：用熔融态覆层材料且不影响形状的热浸镀工艺；其所用的设备
- C23C4/00：熔融态覆层材料喷镀法，例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
- C23C6/00：基体上浇铸熔融材料的镀覆
- C23C8/00：金属材料表面中仅渗入非金属元素的固渗
- C23C10/00：金属材料表面中仅渗入金属元素或硅的固渗
- C23C12/00：金属材料表面中至少渗入一种硅以外的非金属元素及至少一种金属元素或硅的固渗
- C23C14/00：通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
- C23C16/00：通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
- C23C18/00：通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆（表面化学反应的入C23C 8/00、C23C 22/00）；接触镀
- C23C20/00：通过固态覆层化合物抑或覆层形成化合物悬浮液分解且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
- C23C22/00：表面与反应液反应、覆层中留存表面材料反应产物的金属材料表面化学处理，例如转化层、金属的钝化
- C23C24/00：自无机粉末起始的镀覆
- C23C26/00：不包含在C23C 2/00至C23C 24/00各组中的镀覆
- C23C28/00：用不包含在C23C 2/00至C23C 26/00各大组中单一组的方法，或用包含在C23C小类的方法与C25D小类中方法的组合以获得至少二层叠加层的镀覆
- C23C30/00：仅以金属材料组成为特征的金属材料镀覆，即不以镀覆工艺为特征
| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
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| 141 | 硅前体材料、含硅膜和相关方法 | CN202280062185.1 | 2022-07-07 | CN117980531A | 2024-05-03 | 金伦楷; 赵诚实; 金焕洙; 朴基振 |
| 本发明的一些实施例涉及一种在衬底上沉积硅前体的方法。所述方法包含：获得包含至少一个硅氧烷键的硅前体材料和获得至少一种共反应物前体材料。使所述硅前体材料挥发以获得硅前体蒸气。使所述至少一种共反应物前体材料挥发以获得至少一种共反应物前体蒸气。使所述硅前体蒸气和所述至少一种共反应物前体蒸气在足以在所述衬底的表面上形成含硅膜的化学气相沉积条件下与所述衬底接触。一些实施例涉及用于化学气相沉积的硅前体材料。 | ||||||
| 142 | 用于物理气相沉积（PVD）腔室的遮盘 | CN202280059688.3 | 2022-09-01 | CN117980528A | 2024-05-03 | 王智勇; 哈伯特·冲; 艾琳娜·H·威索克; 雷建新; 汪荣军; 周磊; 克兰库玛尔·纽拉桑德拉·萨凡迪亚; S·R·V·雷迪 |
| 方法及装置减少物理气相(PVD)腔室中处理的基板中的缺陷。在一些实施方式中，清洁工艺腔室的内部容积中布置的工艺套件的方法包括：在PVD腔室的基板支撑件上安置非溅射遮盘；激发PVD腔室的内部容积中布置的含氧清洁气体，以产生可与碳基材料反应的等离子体；以及在曝露于等离子体时加热附着有碳基材料的工艺套件，以移除附着于工艺套件的碳基材料的至少一部分。 | ||||||
| 143 | 高强度压制硬化钢部件及其制造方法 | CN202280061807.9 | 2022-08-26 | CN117980509A | 2024-05-03 | 塞巴斯蒂安·科博; 爱丽丝·迪蒙; 帕斯卡尔·迪奇; 斯特凡妮·米绍 |
| 本发明涉及压制硬化钢部件，其具有包含以下的组成：C：0.2重量％至0.34重量％，Mn：0.50重量％至1.24重量％，Si：0.5重量％至2重量％，P≤0.020重量％，S≤0.010重量％，N≤0.010重量％，以及所述组成任选地包含以下元素中的一种或更多种：Al≤0.2重量％，Cr≤0.8重量％，Nb≤0.06重量％，Ti≤0.06重量％，B≤0.005重量％，Mo≤0.35重量％，所述组成的剩余部分为铁和由熔炼产生的不可避免的杂质。所述压制硬化钢部件具有以表面分数计包含95％或更多的回火马氏体以及5％或更少的贝氏体、奥氏体或铁素体的显微组织。 | ||||||
| 144 | 用于物理气相沉积的具有大纵横比和高相对密度的高均匀性玻璃溅射靶材 | CN202280046951.5 | 2022-07-04 | CN117980277A | 2024-05-03 | J·马罗; 冈野吉雄; A·阿亚里克扬; W·普雷斯顿 |
| 本公开涉及一种具有大纵横比和高相对密度的高均匀性玻璃溅射靶材。该玻璃溅射靶材具有通过诸如溅射等物理气相沉积工艺以形成薄膜所需的特性。本发明还包括一种用于生产硫族玻璃溅射靶材的方法。 | ||||||
| 145 | 一种负极集流体、锂离子电池及其制备方法 | CN202410158562.2 | 2024-02-02 | CN117976914A | 2024-05-03 | 贺丹琪; 陈李莎; 赵文俞 |
| 本发明公开了一种负极集流体、锂离子电池及其制备方法，属于锂电池负极材料技术领域。所述负极集流体，包括基底层和设于所述基底层表面上的薄膜层，其中所述基底层为铜箔，所述薄膜层为钛酸钡。本发明通过在铜箔的表面涂覆钛酸钡，得到负极集流体。将该负极集流体应用于锂离子电池时，能够改善锂离子的不均匀沉积，避免锂枝晶生长，从而有效提高锂离子电池的库伦效率，而且能够提高锂离子电池的循环稳定性，在循环300次以上时，其库伦效率在90％以上，因此，在锂离子电池领域具有较好的应用前景。 | ||||||
| 146 | 一种负极材料及其制备方法和二次电池 | CN202410362923.5 | 2024-03-28 | CN117976888A | 2024-05-03 | 李婷; 史俊杰; 顾华清; 刘芳; 冯苏宁 |
| 本发明涉及电池技术领域，尤其是涉及一种负极材料及其制备方法和二次电池。本发明的一种负极材料，包括硅碳复合材料；所述硅碳复合材料包括多孔碳以及位于所述多孔碳的孔道中的纳米硅颗粒；所述多孔碳的端面面积占总面积的比值为A，基面面积占总面积的比值为B，缺陷面面积占总面积的比值为C，且满足如下关系式：A |
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| 147 | 一种ITO复合膜层的制备方法及LED倒装芯片 | CN202410371150.7 | 2024-03-29 | CN117976793A | 2024-05-03 | 曾智平; 李文涛; 邹燕玲; 孙嘉玉; 张星星; 林潇雄; 胡加辉; 金从龙; 顾伟 |
| 本发明公开了一种ITO复合膜层的制备方法及LED倒装芯片，所述方法包括：提供一沉积外延层，以Ar为工作气体，在预设的腔压环境中，通过磁控溅射方式在所述沉积外延层上溅射形成ITO第一子层，在ITO第一子层上溅射形成ITO第二子层，在ITO第二子层上溅射形成ITO第三子层，在ITO第三子层上溅射形成Al层；本发明中，通过磁控溅射ITO复合膜层，提升了载流子输运能力，同时对磁控溅射的靶材进行“消毒”的方式，去除了靶材表面的化合物，进而提升了产线磁控溅射ITO复合膜层的工艺。 | ||||||
| 148 | 大功率金属化陶瓷基板金属化方法 | CN202311513688.9 | 2023-11-14 | CN117976545A | 2024-05-03 | 施纯锡; 冯家伟 |
| 本发明涉及大功率金属化陶瓷基板金属化方法，属于陶瓷基板金属化技术，包括原料预处理、金属粉一次喷涂、分离膜敷贴、局部热熔、二次喷涂、高温烧结、冷却后处理和性能检测，将陶瓷基板表面清洗，去除油污和杂质，然后干燥去除多余的水分，在陶瓷基板表面喷涂金属粉末，在陶瓷基板上敷贴一张可在高温条件下分解的分离膜，根据所需要的电路结构形状，在陶瓷基板上进行局部的热熔处理，向分离膜的凹陷区进行第二次的金属粉末喷涂，喷涂完成后将分离膜撕下，再对陶瓷基板进行高温烧结，冷却至室温，然后进行清洗、磨光和抛光处理，本发明在两层金属覆盖工艺之间穿插了分离膜的铺设与热熔，具有更高容错，成本低廉，易于操作，加工效率更高。 | ||||||
| 149 | 一种氧化镓薄膜外延方法 | CN202311844103.1 | 2023-12-27 | CN117976518A | 2024-05-03 | 陈端阳; 齐红基; 杨珍妮 |
| 本发明涉及半导体技术领域，尤其涉及一种氧化镓薄膜外延方法。该方法包括步骤：在衬底上外延生长GaN薄膜；对GaN薄膜进行表面氧化处理，使表面的GaN薄膜氧化为Ga2O3缓冲层；对Ga2O3缓冲层进行表面刻蚀处理，得到具有纳米孔结构的Ga2O3缓冲层；在具有纳米孔结构的Ga2O3缓冲层上外延生长氧化镓薄膜。本发明使用Si或蓝宝石等衬底，无需采用昂贵的氧化镓单晶衬底，大幅降低了外延的成本；采用具有纳米孔结构的氧化镓薄膜作为氧化镓薄膜外延的缓冲层，并利用该纳米孔结构易于选择性生长的特点实现横向外延，有效提高了外延氧化镓薄膜的晶体质量；可实现薄膜的原位外延生长，避免了杂质污染，获得高质量外延氧化镓薄膜。 | ||||||
| 150 | 晶圆驱动结构及取件调节方法 | CN202410390428.5 | 2024-04-02 | CN117976510A | 2024-05-03 | 曹建伟; 朱凌锋; 郭丽兵; 寿康力; 汪志杰; 陶梦竹; 罗通 |
| 本申请公开了一种晶圆驱动结构及取件调节方法，该晶圆驱动结构包括基座、旋转机构、升降机构、调节块和驱动电机。基座用于承载晶圆，旋转机构用于支撑基座；旋转机构和升降机构均沿竖直方向延伸，升降机构包括穿设于基座的伸缩件；调节块用于连接旋转机构与升降机构；驱动电机用于驱动升降机构移动；当旋转机构通过调节块与升降机构连接时，驱动电机驱动旋转机构与升降机构同步运动；当调节块与升降机构和/或旋转机构分离时，驱动电机驱动升降机构沿竖直方向与旋转机构相对运动，以使伸缩件至少部分向基座的上方伸出。通过上述设置，以便于调整晶圆的位置并拾取晶圆，且上述两种拾取方式通过调节块快速切换，从而提高晶圆驱动装置的调节性能。 | ||||||
| 151 | 一种含有螺旋状连续石墨烯层的高导电铜线制备方法 | CN202410253030.7 | 2024-03-05 | CN117976319A | 2024-05-03 | 朱彦武; 郑呈凤; 常玉; 叶传仁; 王飞; 谭化兵; 瞿研 |
| 本发明提供了一种含有螺旋状连续石墨烯层的导电铜线的制备方法，首先将石墨烯‑铜复合箔卷绕成石墨烯‑铜复合箔卷，然后经过热挤压成型进行拉拔挤出，得到含有连续石墨烯层的导电铜线前驱体线材；然后将上述步骤得到的含有连续石墨烯层的导电铜线前驱体线材经过热处理后，得到含有螺旋状连续石墨烯层的导电铜线。本发明实现了含有石墨烯的铜箔向复合铜线的一步成型转化，采用螺旋式的绕卷方式以及后续热挤压成型的工艺，最大尺度的保证了成型时横向尺寸的稳定性，即保证了石墨烯在铜线内的连续性，而且实现了铜箔向铜线的连续化生产。本发明所制备的高导电复合铜线明显提高了铜线电导、有利于降低电网传输损耗，符合国家长期绿色发展的目标。 | ||||||
| 152 | 一种磁控溅射制备高质量六方氮化硼薄膜及其晶相调制方法 | CN202410079257.4 | 2024-01-19 | CN117966265A | 2024-05-03 | 崔福彬 |
| 本发明公开了一种磁控溅射制备高质量六方氮化硼薄膜及其晶相调制方法。铜镍衬底上制得的氮化硼为多层氮化硼薄膜，且氮化硼取向高度一致，同向率最高达到87.79％，并且认为通过此方法可以进一步制得完全取向一致的多层单晶氮化硼薄膜。制备六方氮化硼薄膜的过程中制备制备温度相比于其他在铜/镍衬底上制备氮化硼的报道，具有更低的制备温度，从而使得整个制备过程所需要的加热能量更少，提高了整体薄膜在制备过程中的节能环保性，同时本发明中在衬底表面制备横向较薄的六方氮化硼薄膜；本发明的制备条件简单、成本低廉、对环境友好、生长参数的窗口较宽，从而提高了整个制备过程中的操作便捷性，提高了产品的质量。 | ||||||
| 153 | 一种液压管件防锈处理设备及其操作方法 | CN202410092247.4 | 2024-01-23 | CN117966172A | 2024-05-03 | 桑铁刚; 王妍丹 |
| 本发明公开一种液压管件防锈处理设备及其操作方法，涉及液压管件防锈处理领域。该液压管件防锈处理设备包括酸洗槽和安装在酸洗槽顶部的运输机构，酸洗槽的内部设置有防下落机构，酸洗板设置在酸洗槽的内部；运输板滑动连接在酸洗板的内部；限位板转动连接在酸洗板的内部；第一滑轮转动连接在酸洗板的两侧，第二滑轮固定连接在限位板的两端，第一滑轮和第二滑轮之间连接有连接索；齿轮固定连接在第一滑轮的底部，齿轮啮合有齿板。该液压管件防锈处理设备中的限位板能对运输板的位置进行限定，进而运输板不会从酸洗板的表面滑出，同时液压管件酸洗时，使用者不需要调节液压管件角度进入酸洗槽的角度，减少了液压管件在酸液上方的操作时间。 | ||||||
| 154 | 表面有磷皂化膜的易钝化金属冷镦线材 | CN202311812372.X | 2023-12-27 | CN117966162A | 2024-05-03 | 徐纳; 曹光喜; 刘丹丹; 吴玉爱 |
| 本发明提供表面有磷皂化膜的易钝化金属冷镦线材，该线材包括金属线材及其表面的磷皂化膜，所述金属线材表面呈凹凸不平状；所述磷皂化膜包含磷化膜和皂化膜；所述磷化膜为锌系磷化膜，内部含有金属锌，外表面为磷酸锌；所述皂化膜为硬脂酸盐；所述表面有磷皂化膜的易钝化金属线材适用于冷镦成型实现了不锈钢等易钝化金属线材在冷镦成型上的大规模应用。将喷砂处理和特殊的锌与磷酸锌的混合涂层结合极大增加了磷化膜与基底之间的结合力，实现了不锈钢金属线材在冷镦成型上的大规模应用。 | ||||||
| 155 | 基于物联网的键合金丝镀层系统调整方法及系统 | CN202311865307.3 | 2023-12-29 | CN117966158A | 2024-05-03 | 李盛伟; 李妍琼 |
| 本发明涉及物联网技术领域，尤其涉及一种基于物联网的键合金丝镀层系统调整方法及系统，通过采集目标镀层的图像，并将图像与预设的参考图像进行比对，得到图像比对结果；通过预设的温度传感器采集目标镀层在预设的感应电流作用下的温度，进行比对，得到温度比对结果；确定镀层权重；判断镀层权重是否大于预设的权重阈值；若大于，则在速度大于预设的速度阈值时，通过预设的调速器进行速度调节；若不大于，则采集键合金丝镀层系统中各组件的位置坐标，在异常时输出组件异常警报；在涂料颗粒度大于预设的参考颗粒度时，将键合金丝镀层系统的涂料替换成备用涂料，从而解决了无法对键合金丝镀层系统进行自动调整的问题。 | ||||||
| 156 | 一种氧化钆改性TiB2-TiC-GH4169复合涂层的制备方法 | CN202410313889.2 | 2024-03-19 | CN117966155A | 2024-05-03 | 赵汉卿; 胡明; 王飞宇; 高正华; 孟玲玉; 邸可新 |
| 一种氧化钆改性TiB2‑TiC‑GH4169复合涂层的制备方法，涉及激光表面强化技术领域。方法：将Ti粉、B4C粉、GH4169合金粉和纳米Gd2O3粉装入行星球磨机中，球磨后进行干燥，得到混合粉体；采用同轴送粉激光熔覆的方式，并使用氩气作为送粉气体和保护气体，将混合粉体在预热后的H13钢基体表面原位自生，得到氧化钆改性TiB2‑TiC‑GH4169复合涂层。本发明可获得一种氧化钆改性TiB2‑TiC‑GH4169复合涂层的制备方法。 | ||||||
| 157 | 一种汽轮机叶片的激光熔覆强化工艺 | CN202410237820.6 | 2024-03-01 | CN117966154A | 2024-05-03 | 金硕; 王文涛; 黄腾; 何建群; 李进 |
| 本发明涉及激光熔覆技术领域，具体涉及一种汽轮机叶片的激光熔覆强化工艺，包括如下步骤：S1、对汽轮机叶片边缘待强化部位预处理；S2、通过定位工装将汽轮机叶片装夹至机器人主轴箱卡盘上；S3、通过机器人与主轴箱联动，示教出机器人激光熔覆头在汽轮机叶片边缘待强化部位的加工轨迹；S4、根据加工轨迹在待强化部位表面激光熔覆一层熔覆涂层；S5、待强化部位激光熔覆完毕后，将汽轮机叶片取下；S6、更换下一个汽轮机叶片，重复以上各步骤，直至批量加工完成。本发明工艺操作简单，且叶片易损部位强化后具有较强的硬度、较高的耐磨性以及良好的耐腐蚀性，提高了汽轮机叶片的使用寿命，降低了汽轮机叶片更换频率。 | ||||||
| 158 | 一种灰口铸铁激光熔覆粉体材料及应用 | CN202410213798.1 | 2024-02-27 | CN117966153A | 2024-05-03 | 周先飞; 陈彦利; 谢新宇; 胡淑尹; 雷鑫 |
| 本发明公开了一种灰口铸铁激光熔覆粉体材料及应用，该粉体材料包含以下重量百分比的金属材料：Ti 20～40％、La2O30.15～0.85％、Cu 0.15～0.85％、余量为Ni。该粉体材料在灰口铸铁表面激光熔覆，以修复灰口铸铁磨损表面，使铸铁重新使用。该粉体材料能有效降低灰口铸铁表层的碳含量，减小片状石墨尖端的应力集中，降低灰口铸铁与熔覆层界面的裂纹敏感性，使修复后的灰口铸铁模具具有更高的力学性能和摩擦磨损性能。 | ||||||
| 159 | 一种用于合金多性能的增材制造方法及装置 | CN202410005738.0 | 2024-01-03 | CN117966148A | 2024-05-03 | 任睿; 王禹; 王若达; 郑汉; 邢钦淞 |
| 本发明提供一种用于合金多性能的增材制造方法及装置，包括沉积系统、爆炸冲击系统、气体保护装置、检测装置和计算机；沉积系统包括第二机械臂，熔覆头，熔覆控制设备；熔覆头固定安装在第二机械臂的末端；爆炸冲击系统包括可燃气体喷嘴，点火装置，激光控制器，第一机械臂；点火装置固定安装在第一机械臂末端，可燃气体喷嘴安装在点火装置旁侧；气体保护装置包括氮气瓶，气体瓶，气体喷嘴，真空泵；检测装置包括红外测温仪和3D扫描仪；所述沉积系统、爆炸冲击系统、气体保护装置、检测装置均和计算机连接；本发明采用熔覆技术制造成型工件，在特定位置对冲击强度和喷射气体类型进行调控，实现不同部位不同性能的一体化成型。 | ||||||
| 160 | 一种CuCr基触头涂层的冷喷涂制备工艺 | CN202410216541.1 | 2024-02-27 | CN117966146A | 2024-05-03 | 张国顺; 张燕 |
| 本申请涉及一种冷喷涂工艺，具体用于制备CuCr基触头。通过对粉末原料进行预热，相对降低喷涂速度，降低对铜基材的影响，降低其热应力和热变形，并且能够保证涂层的致密度，不导致电阻升高。在CuCr合金涂层中添加T i能够降低其熔焊力，氧化镧在基体中起到弥散强化的作用提高了硬度，并且由于其弥散分布使得击穿点增加，单位面积下的电弧能量降低，使得触头的寿命显著提高。 | ||||||
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