子分类：
- C23C2/00：用熔融态覆层材料且不影响形状的热浸镀工艺；其所用的设备
- C23C4/00：熔融态覆层材料喷镀法，例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
- C23C6/00：基体上浇铸熔融材料的镀覆
- C23C8/00：金属材料表面中仅渗入非金属元素的固渗
- C23C10/00：金属材料表面中仅渗入金属元素或硅的固渗
- C23C12/00：金属材料表面中至少渗入一种硅以外的非金属元素及至少一种金属元素或硅的固渗
- C23C14/00：通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
- C23C16/00：通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
- C23C18/00：通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆（表面化学反应的入C23C 8/00、C23C 22/00）；接触镀
- C23C20/00：通过固态覆层化合物抑或覆层形成化合物悬浮液分解且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
- C23C22/00：表面与反应液反应、覆层中留存表面材料反应产物的金属材料表面化学处理，例如转化层、金属的钝化
- C23C24/00：自无机粉末起始的镀覆
- C23C26/00：不包含在C23C 2/00至C23C 24/00各组中的镀覆
- C23C28/00：用不包含在C23C 2/00至C23C 26/00各大组中单一组的方法，或用包含在C23C小类的方法与C25D小类中方法的组合以获得至少二层叠加层的镀覆
- C23C30/00：仅以金属材料组成为特征的金属材料镀覆，即不以镀覆工艺为特征
| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
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| 81 | 一种过轨辊子的修复方法 | CN202410168952.8 | 2024-02-06 | CN117987827A | 2024-05-07 | 徐博翰; 黄健; 王枫; 朱晖朝 |
| 本发明公开了一种过轨辊子的修复方法，包括以下步骤：步骤1：将待修补辊进行打磨光亮并清洗，干燥后进行预热；步骤2：打底粉末干燥处理，并倒入送粉系统，将待修补辊上进行激光熔覆，待修补辊表面得到打底层；步骤3：激光熔覆涂层粉末混合后干燥处理，并倒入送粉系统，在待修补辊上进行激光熔覆，待修补辊表面得到第一修补层；步骤4：对待修补辊进行激光熔覆，待修补辊表面得到第二修补层；步骤5：对待修补辊进行打磨至形成光面。本发明不仅可以解决传统激光熔覆过程中，过轨辊子表面裂纹多、气泡多的问题，还可以解决了修复后的过轨辊子的高温硬度较低、耐腐蚀性能和耐磨性能较差，难以达到使用要求的问题。 | ||||||
| 82 | 一种铜合金表面激光熔覆材料、覆层、制备方法和合金 | CN202410152607.5 | 2024-02-03 | CN117987826A | 2024-05-07 | 蔡圳阳; 李艳苗; 肖来荣; 刘赛男; 赵小军 |
| 本发明属于对金属材料的镀覆技术领域，具体涉及一种铜合金表面激光熔覆材料、覆层、制备方法和合金；包括如下各组分的原料，Cu：0‑90%，YSi2：10‑100%，所述Y为Cr、Mo、W中的一种或多种；所述覆层硬度高，导热性好，耐磨损，抗热冲击、抗氧化、抗电弧烧蚀好。 | ||||||
| 83 | 一种激光熔覆工艺及其使用的镶块和粉末 | CN202211359531.0 | 2022-11-02 | CN117987824A | 2024-05-07 | 左光旭 |
| 本发明提供一种激光熔覆工艺及其使用的镶块和粉末，包括1、以下步骤：制作成型模具用镶块，并进行粗加工；对基材熔覆表面进行预处理；采用火焰喷馀或等离子喷涂的基材表面或非喷涂表面，进行除油和喷砂处理；将整个基体或基体表面进行加热；送料激光熔化；采用输送器将合金材料直接送入激光作用区，粉末到达熔区前先经过光束，被加热到红热状态，落入熔区后随即熔化，随基材的移动和粉末的连续送入形成合金熔覆层；后热处理，对激光熔覆后的镶块进行去应力处理；对模具型面进行精加工到位，获得成品。本发明采用高碳钢粉末作为涂层，加载在熔覆用镶块上，通过激光熔覆的工艺，提升表面涂层的硬度，达到了适应热成形的工况的效果。 | ||||||
| 84 | 一种热成形模具镶块的二次成型方法 | CN202211359528.9 | 2022-11-02 | CN117987823A | 2024-05-07 | 金飞 |
| 本发明提供一种热成形模具镶块的二次成型方法，包括以下步骤：制作成型模具用镶块；在镶块的圆角区域进行打磨，降低高度，形成降刻圆角区；对降刻圆角区进行表面预处理；对镶块进行加热，以适应熔覆工艺的要求；将镶块输送至激光熔化，熔覆材料熔合在降刻圆角区，两者之间形成熔合区，位于降刻圆角区上形成复熔层区；对复熔层区进行精加工，形成二次加工后的圆角区域。本发明提供的二次成型方法能够针对零件成形过程中各个位置性能需求可灵活调整，避免因性能不达标导致镶块出现拉毛、开裂、变形等一系列生产问题，实际操作中也无需较大功耗的热处理设备，成本降低，工序简单，效果高。 | ||||||
| 85 | 一种BCC+Laves纳米片层双相共晶高熵合金涂层的可控制备方法 | CN202211337066.0 | 2022-10-28 | CN117987822A | 2024-05-07 | 匡世华; 周芳; 郑世松 |
| 本发明属于刀具涂层制备技术领域，具体涉及一种BCC+Laves纳米片层双相共晶高熵合金涂层的可控制备方法；通过激光熔覆技术在高速钢表面制备一层BCC+Laves纳米片层双相共晶高熵合金涂层；由于基体材料和涂层为冶金结合，因此表现良好结合强度，同时基体中C元素渗透到涂层中与强碳元素Nb结合形成NbC颗粒，在一定程度上能提升涂层的硬度和耐磨性，同时Fe‑Cr型BCC固溶体相本身也表现出较高的硬度和耐磨性，因此在高速钢刀具表面改性领域有较大的发展前景，能较大的延长高速切削用刀具使用寿命，降低制造成本。 | ||||||
| 86 | 一种氮化工件用喷淋槽 | CN202211346690.7 | 2022-10-31 | CN117987821A | 2024-05-07 | 魏国方; 沈喜军 |
| 本发明涉及氮化工件技术领域，尤其涉及一种氮化工件用喷淋槽。其技术方案包括：第一喷淋槽、固定板和固定块，第一喷淋槽一侧固定连接有第二喷淋槽，第二喷淋槽一侧固定连接有第三喷淋槽，第一喷淋槽内部设置有滑轨，滑轨内部滑动安装有滑块，滑块之间固定连接有滤板，滤板内部固定连接有滤网，第一喷淋槽内部固定连接有固定块，固定块之间固定连接有滑杆。本发明通过在第一喷淋槽一侧固定连接有第二喷淋槽，当装置进行使用时，装置可通过滤网对装置内部喷淋进行过滤，另外，当过滤完成后，工作人员拉动固定板带动滤板两侧安装的滑块在滑轨内部进行滑动，此时可将滤网取出进行清洁，提升了装置使用的便捷效果。 | ||||||
| 87 | 一种铸件酸洗钝化方法 | CN202410162712.7 | 2024-02-05 | CN117987819A | 2024-05-07 | 王宜震; 鲁岽; 李峰; 陈强; 杨明; 王群; 曹波 |
| 本发明提供了一种铸件酸洗钝化方法，属于铸件表面处理技术领域。本发明采用放气振壳方式将金属铸件进行振壳清砂后，将所得铸件在钝化液中进行钝化处理。本发明先采用放气振壳方式进行振壳清砂，清除掉铸件表面本体以外的多余部分，打磨精整铸件内外表面，然后采用特定组分的钝化液通过钝化酸洗处理，钝化效果优异，使钝化更均匀、钝化层致密度高，可以大大提高铸件的防腐蚀能力。本发明的工艺简单，能耗低，处理试剂利用率高，无污染。 | ||||||
| 88 | 一种镁合金用自修复无铬钝化液及其制备方法 | CN202410398483.9 | 2024-04-03 | CN117987817A | 2024-05-07 | 黄昕; 解明帅 |
| 本发明公开了一种镁合金用自修复无铬钝化液及其制备方法，属于材料表面处理与金属防护技术领域。该镁合金用自修复无铬钝化液包括植酸溶液1，功能化纳米聚吡咯水分散液，钒酸盐，硅烷偶联剂，去离子水。功能化纳米聚吡咯水分散液是由去离子水、聚乙烯醇、尿素、植酸溶液2、吡咯、过硫酸铵水溶液制备而成。该钝化液有效地解决了六价铬钝化对环境有污染问题；同时该钝化液含有植酸、硅烷偶联剂、纳米聚吡咯及偏钒酸钠，能够通过协同作用，提高了无铬钝化技术耐腐蚀性能等级，改善了涂层的结合力及提高了经钝化处理后的镁合金具有自修复的能力。同时，该钝化液槽液稳定，使用寿命长，处理工艺简单，适用于规模化工业生产。 | ||||||
| 89 | 一种自动定位传输系统 | CN202410167683.3 | 2024-02-06 | CN117987813A | 2024-05-07 | 王紫恒; 浩瀚; 赵新田; 周勋 |
| 本申请公开了一种自动定位传输系统，包括适于进出反应腔室的传输设备和设置于传输设备上的至少一个定位器，反应腔室内在传输设备的传输路径上形成有至少一个感应部，定位器适于跟随传输设备经过感应部，定位器适于感应与感应部之间的距离，定位器配置有预设距离，传输设备适于在定位器感应到与感应部之间的距离为预设距离时停止，本申请具有实施方便、适用性高、能够实现精准传输的特点。 | ||||||
| 90 | MPCVD设备中衬底支架的定位装置及定位方法 | CN202311648347.2 | 2023-12-05 | CN117987810A | 2024-05-07 | 张勇; 胡常青 |
| 本发明提出了一种MPCVD设备中衬底支架的定位装置及定位方法，该装置包括：固定支架，用于定位衬底支架，为圆环结构，其内圆环面嵌套到基台的外圆环面上，衬底支架位于固定支架的镂空区域；至少3个定位单元，沿着固定支架的周向分布，每个定位单元的移动端均可沿固定支架的径向移动，每个移动端均高于基台；当每个移动端与衬底支架的外圆环面外切时，实现对衬底支架的定位。本发明中定位单元与衬底支架相切的端面自由贴合，不存在过盈配合或者配合间隙过大过小的问题；且可以调节衬底支架相对基台中心的位置，即衬底支架的偏心调节，以适应等离子球体的偏心。 | ||||||
| 91 | 一种气体分配件、气体输送装置和薄膜处理装置 | CN202211336298.4 | 2022-10-28 | CN117987806A | 2024-05-07 | 龚岳俊; 李雪子 |
| 本发明公开了一种气体分配件、气体输送装置和薄膜处理装置，该气体分配件内设置有气体扩散通道以及位于气体扩散通道外围的边缘进气通道，所述气体扩散通道包括一底面凸出于气体分配件底面的凹陷部，所述凹陷部将气体分配件底面下方的区域分割为内部区域和外围区域，所述凹陷部包括环绕内部区域的第一侧壁和第二侧壁，第一侧壁和第二侧壁上分别开设有进气通道以分别与内部区域和外围区域连通，边缘进气通道与外围区域连通。其优点是：该气体分配件通过气体扩散通道向内部区域输送工艺气体，并通过气体扩散通道和边缘进气通道同时向外围区域输送工艺气体，有效地补偿了边缘气流衰减效应，保证了工艺气体的流动和分布均匀性以及高流速状态的维持。 | ||||||
| 92 | 预加热系统及其控制方法 | CN202211322798.2 | 2022-10-27 | CN117987803A | 2024-05-07 | 张围顺 |
| 本公开提供一种预加热系统及其控制方法，涉及半导体技术领域。其中，预加热系统应用于半导体设备，预加热系统包括：储液装置，用于贮存液体；至少一个气化装置，与储液装置连通；加热装置，设置于储液装置，加热装置用于对储液装置中的液体进行预加热；温度检测装置，与储液装置连接，用于检测储液装置内的液体的第一温度参数；控制装置，分别与储液装置、加热装置以及温度检测装置电连接，控制装置用于根据第一温度参数控制加热装置进行预加热并控制储液装置向气化装置输送经过预加热的液体。本公开提供的预加热系统，降低了液体在气化装置的进出口端的温度差，提高了液体的气化效果，改善了化学气相沉积的薄膜质量，提升了产品良率。 | ||||||
| 93 | 一种超大尺寸化学气相沉积炉 | CN202311869554.0 | 2023-12-28 | CN117987801A | 2024-05-07 | 啜艳明; 赵尚节; 刘杰; 惠志浩 |
| 本申请涉及一种超大尺寸化学气相沉积炉，其包括沉积炉本体，沉积炉本体包括内胆和外筒，内胆和外筒中间形成空腔，内胆内部为沉积室，内胆内部还设置贯穿底壁的加热腔，加热腔沿内胆中心轴设置，并于内胆中心轴重合；加热装置，加热装置包含主加热件、底部加热件和中心加热件，主加热件沿内胆外壁周向设置在空腔内，并实现对整个炉内空间的加热，底部加热件设置在内胆底部的空腔内，通过底部加热件实现对底部碳源气体的加热，中心加热件设置在加热腔内，实现对沉积炉本体内部中心位置的加热。本申请具有实现中心区域温场均匀性和稳定性，提升产品沉积效果，进而增加装料量，适应规模化生产。 | ||||||
| 94 | 表面处理方法 | CN202211341456.5 | 2022-10-27 | CN117987796A | 2024-05-07 | 祁延刚 |
| 本发明的表面处理方法，包括：对待处理表面进行超声波预清洗；所述待处理表面置于真空室进行局部抽真空及加热并采用离子轰击清洗；在所述待处理表面上沉积形成类金刚石碳层；在所述类金刚石碳层上掺杂氟离子形成包含类金刚石碳和氟离子的掺杂层，继续沉积氟离子以在所述掺杂层上形成氟离子层。经处理后的半导体表面层体具有良好附着力、高硬度、高耐磨性以及较低表面能量，从而获得优异的表面性能。 | ||||||
| 95 | 一种烟具加热针涂层工艺用工装及涂层装置 | CN202410146509.0 | 2024-02-01 | CN117987793A | 2024-05-07 | 岳明飞; 李涛; 杨帆; 温升波; 宋时浩; 张书铭; 张从跃; 王辉; 张开超; 李文仆; 张项瑜 |
| 本发明涉及加热涂层工艺技术领域，特别涉及一种烟具加热针涂层工艺用工装及涂层装置，涂层工艺用工装包括载具和分布于载具上的多个夹持组件，夹持组件包括用于夹持烟具加热针的夹持部和能够使夹持组件安装在载具上并进行自转的可转动安装部。通过本发明充分提升了加热针涂层的均匀性和同一批次加热针之间的一致性，提高生产工艺良率。 | ||||||
| 96 | 连续镀膜设备自动化上下料系统及控制方法 | CN202311842889.3 | 2023-12-28 | CN117987789A | 2024-05-07 | 梁红; 祝海生; 孙桂红; 黄国兴; 陈立; 李俊杰; 李新栓; 寇立; 薛闯; 桂丹; 黄乐 |
| 本发明公开了一种连续镀膜设备自动化上下料系统，包括：入料台，用于输入和存放待镀膜玻片；出料台，用于接纳和输出已镀膜玻片；载片架和上下片站，所述上下片站为所述载片架提供上下料位置，并检测是否有载片架进站，所述载片架用于在镀膜设备与上下片站之间传送所述镀膜玻片；机械手，用于将入料台上的待镀膜玻片装载至载片架，将载片架上的已镀膜玻片卸载至出料台。控制方法包括进站检测、玻片卸载、玻片装载、传送镀膜等步骤。该连续镀膜设备自动化上下料系统及控制方法具有可提高工作效率与产品质量、减少人为损耗的优点。 | ||||||
| 97 | 柔性钙钛矿闪烁体厚膜的制备方法、闪烁体厚膜及装置 | CN202311815826.9 | 2023-12-27 | CN117987779A | 2024-05-07 | 牛广达; 唐江; 张澳; 徐凌; 郑志平 |
| 本发明提供了一种柔性钙钛矿闪烁体厚膜的制备方法、闪烁体厚膜及装置，属于基本电器元件领域。所述方法包括：S1、在第一设定真空度下将全无机卤素钙钛矿加热至第一设定温度，并将柔性基底加热至第二设定温度，以使一部分所述全无机卤素钙钛矿生长在所述柔性基底上，得到种子层；S2、在第二设定真空度下将剩余部分所述全无机卤素钙钛矿加热至第三设定温度，并将所述种子层冷却至第四设定温度，以使剩余部分所述全无机卤素钙钛矿部分生长在所述种子层上；S3、多次重复步骤S2，以使剩余部分所述全无机卤素钙钛矿全部生长在所述种子层上，在所述种子层上形成自上而下的厚膜柱状晶，得到钙钛矿闪烁体厚膜。 | ||||||
| 98 | 铜合金溅射膜及制造方法、铜合金溅射靶及制造方法 | CN202311440962.4 | 2023-11-01 | CN117987777A | 2024-05-07 | 山岸浩一; 渡边宏幸 |
| 本发明提供膜硬度高的铜合金溅射膜及其制造方法。另外，本发明还提供适于所述溅射膜的成膜的铜合金溅射靶及其制造方法。一种铜合金溅射膜，其中，具有以5.0质量％以上且30.0质量％以下的比例包含银(Ag)且剩余部分由铜(Cu)及不可避免的杂质构成的组成，所述铜合金溅射膜的微晶尺寸为30nm以下。 | ||||||
| 99 | 一种用于电力金具表面防护的镀层方法及装置 | CN202410193208.3 | 2024-02-21 | CN117987774A | 2024-05-07 | 任永琼; 郑革; 陈敏; 方伟 |
| 本发明公开了一种用于电力金具表面防护的镀层方法及装置，属于涂层技术技术领域，本方案通过复合镀层的应用，提供了卓越的表面保护，增加了电力金具的耐磨性，延长了使用寿命，采用电弧离子镀和磁控溅射，包括CrSiN/ZrN或CrW/CrN材料的交替沉积，缓解膜层应力，提高了电力金具的抗腐蚀性能，有助于在恶劣环境中长期稳定运行，多靶同时沉积和闭合磁场设计提高了镀层效率，闭合磁场可以向工件前方延伸，又可以向周边延伸。提高镀膜空间的等离子体密度，膜层粒子的整体能量高，有利于镀制优异的薄膜材料，同时增加灯丝辅助，发射电子，有效提高了磁控溅射离化率，使得整个过程更加高效。 | ||||||
| 100 | 一种耐磨低摩擦涂层活塞环及其制备方法 | CN202410147549.7 | 2024-02-01 | CN117987773A | 2024-05-07 | 李开顺; 刘千喜; 石关飞 |
| 本发明属于活塞环表面处理技术领域，公开了一种耐磨低摩擦涂层活塞环及其制备方法。本发明外圆面类金刚石镀层依次为第一金属打底层、第二金属打底层、梯度DLC层、高/低硬度交替DLC层、外层磨合DLC层；端面类金刚石镀层依次为金属打底层、梯度DLC层、高/低硬度交替DLC层。本发明采用物理气相沉积，在活塞环的外圆面和端面先后沉积复合DLC镀层，镀层为四面体非晶碳结构，具有良好的厚度均匀性，镀层晶粒细腻，提高了活塞环外圆面及端面的耐磨性能，降低了活塞环端面对活塞环槽的攻击性，同时避免了活塞环与活塞环槽之间产生粘着。 | ||||||
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