子分类：
- C23C2/00：用熔融态覆层材料且不影响形状的热浸镀工艺；其所用的设备
- C23C4/00：熔融态覆层材料喷镀法，例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
- C23C6/00：基体上浇铸熔融材料的镀覆
- C23C8/00：金属材料表面中仅渗入非金属元素的固渗
- C23C10/00：金属材料表面中仅渗入金属元素或硅的固渗
- C23C12/00：金属材料表面中至少渗入一种硅以外的非金属元素及至少一种金属元素或硅的固渗
- C23C14/00：通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
- C23C16/00：通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
- C23C18/00：通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆（表面化学反应的入C23C 8/00、C23C 22/00）；接触镀
- C23C20/00：通过固态覆层化合物抑或覆层形成化合物悬浮液分解且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
- C23C22/00：表面与反应液反应、覆层中留存表面材料反应产物的金属材料表面化学处理，例如转化层、金属的钝化
- C23C24/00：自无机粉末起始的镀覆
- C23C26/00：不包含在C23C 2/00至C23C 24/00各组中的镀覆
- C23C28/00：用不包含在C23C 2/00至C23C 26/00各大组中单一组的方法，或用包含在C23C小类的方法与C25D小类中方法的组合以获得至少二层叠加层的镀覆
- C23C30/00：仅以金属材料组成为特征的金属材料镀覆，即不以镀覆工艺为特征
| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
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| 201 | 一种微孔薄膜表面沉积装置及方法 | CN201910975888.3 | 2019-10-15 | CN110791748B | 2024-05-28 | 王晓明; 魏凤杰 |
| 本申请公开了一种微孔薄膜表面沉积工装置及方法，涉及二次电池用隔膜制造领域。本申请通过在箱体内划分若干不同的区域，并在不同区域中通入特定气体，使微孔薄膜在穿过箱体的移动过程中，第一通气管、第一通气管对微孔薄膜表面的不同部分同时进行通气，即可实现一种连续、高效的ALD处理方式。 | ||||||
| 202 | 可变孔径坩埚和OLED成膜系统 | CN201910995115.1 | 2019-10-18 | CN110551980B | 2024-05-28 | 张冲森 |
| 本发明的实施例提供了一种可变孔径坩埚和OLED成膜系统，涉及显示技术领域。该可变孔径坩埚包括坩埚本体、分散板组和移动组件，坩埚本体具有容置腔室和与容置腔室连通的蒸镀孔，分散板组可活动地设置于坩埚本体，并用于遮盖蒸镀孔，移动组件与分散板组传动连接，用于带动分散板组运动，以调节分散板组遮挡蒸镀孔的面积。上述的可变孔径坩埚和OLED成膜系统具有结构简单和使用方便的特点，能够适用于不同成膜材料成膜厚度和成膜速度，平衡蒸镀速率稳定性和均匀性。 | ||||||
| 203 | 一种防止前驱体液滴进入管线或腔体的源瓶 | CN201910017774.8 | 2019-01-09 | CN109440082B | 2024-05-28 | 请求不公布姓名 |
| 本发明提供一种防止前驱体液滴进入管线或腔体的源瓶，在源瓶中用增加隔板形成隔离区，隔离区成为一个过渡缓冲空间，收集前一步骤产生的液体并可释放前驱体蒸汽到反应腔体中，从而有效避免或减少前驱体液体被带入气体管路或反应腔体。 | ||||||
| 204 | 精细金属掩模板 | CN202280067349.X | 2022-08-17 | CN118077332A | 2024-05-24 | 柳明勋; 金宰范; 崔珉亨; 车池雄 |
| 精细金属掩模板的一实施例可包括：基片；掩模片，形成在基片，具有形成有多个单元的图案区域；以及切割区域，形成在基片与掩模片之间，切割区域包括：切割线，形成多个；以及桥部，配置在多个切割线中每个切割线的两端，形成多个并相互隔开，用于连接基片与掩模片。 | ||||||
| 205 | 溅射靶部件、溅射靶组件、以及成膜方法 | CN202280068236.1 | 2022-09-22 | CN118077006A | 2024-05-24 | 小庄孝志; 岩渊靖幸 |
| 本发明提供一种能够抑制微粒的产生的磁记录层用溅射靶部件。该磁记录层用溅射靶部件，含有：10～70mol％的Co，5～30mol％的Pt，1.5～10mol％的碳化物，并且，合计含有0～30mol％的从碳、氧化物、氮化物以及碳氮化物中选择的一种或两种以上的非磁性材料。 | ||||||
| 206 | 用于氟化钙光学部件的源自原子层沉积的保护性涂层 | CN202280067915.7 | 2022-09-27 | CN118076764A | 2024-05-24 | D·E·阿伦; G·P·考克斯; K·J·多纳休; 黄明煌; 金勋; 王珏 |
| 一种涂覆的光学部件，包括光学部件和敷形涂层。所述光学部件是晶体氟化钙，以及所述敷形涂层是与光学部件的表面接触的原子层沉积(ALD)涂层。ALD涂层包括的金属氟化物ALD涂层具有不同于钙的金属。ALD涂层可以包括其他金属氧化物或类金属氧化物ALD涂层。用于制造该涂覆的光学部件的方法包括在光学部件的表面上沉积原子层沉积(ALD)涂层，其中ALD涂层可以是类金属氧化物、金属氧化物、具有不同于钙的金属的金属氟化物或这些的组合。在ALD工艺中使用六氟化硫作为氟源。 | ||||||
| 207 | 具有旋转底座的倾斜PVD源 | CN202280067462.8 | 2022-08-24 | CN118076763A | 2024-05-24 | H·潘梅斯撒; H·S·杨; S·帕兰尼萨米 |
| 本文提供在物理气相沉积(PVD)工艺中提高膜均匀性的装置和方法。在一些实施例中，PVD腔室包含：底座，所述底座设置在PVD腔室的处理区域内，所述底座具有被配置成在其上支撑基板的上表面；第一电机，所述第一电机耦接至底座；盖组件，所述盖组件包含第一靶；第一磁控管，所述第一磁控管设置在第一靶的一部分上方并且在盖组件的维持在大气压下的区域中；第一致动器，所述第一致动器被配置成在第一方向上平移第一磁控管；第二致动器，所述第二致动器被配置成在第二方向上平移第一磁控管；以及系统控制器，所述系统控制器被配置成通过使第一致动器和第二致动器同时平移第一磁控管来使第一磁控管沿第一路径的至少一部分平移。 | ||||||
| 208 | 铁素体类不锈钢及其制造方法 | CN202280067974.4 | 2022-12-01 | CN118076759A | 2024-05-24 | 藤村佳幸; 滨田尊任; 滨田纯一 |
| 本发明的一方案的铁素体类不锈钢，以质量％计含有C：0.030％以下、Si：0.01～1.5％、Mn：0.01～1.00％、P：0.050％以下、S：0.005％以下、Cr：15.0～25.0％、Al：2.0～4.0％、Ni：1.00％以下、Nb：0.01～0.70％、N：0.030％以下、B：0.0003～0.01％、REM：0.01～0.20％，剩余部分由Fe及不可避免的杂质构成，在表面具有8nm以上且小于20nm的Al系氧化皮膜。 | ||||||
| 209 | 一种用于通过高速热喷涂优化轧制轧辊的粗糙度的方法 | CN202280067545.7 | 2022-10-03 | CN118076446A | 2024-05-24 | 格雷戈里奥·丰特维拉·迪亚兹 |
| 本发明涉及一种通过借助于喷涂柱对粉末热喷涂来涂覆轧辊以在所述轧辊的表面上形成各向同性粗糙度(Ra)的方法，其中所述轧辊绕其纵向轴线以速度(Vr)旋转，喷涂柱以速度(Vt)平移移动，从而以螺旋方式沉积材料。在建立待喷涂的粉末的粒度(G)、涂层的目标粗糙度(Ra)和目标厚度(t)之后，在经验表中确定粉末的相应供给流量(Fr)，所述经验表显示了根据预先建立的公式基于供给流量(Fr)和粒度(G)的目标粗糙度(Ra)，之后根据将目标涂层厚度(t)相关作为限定的供给流量(Fr)、平移速度(Vt)和旋转速度(Vr)的函数的等式来限定旋转速度(Vr)和平移速度(Vt)。 | ||||||
| 210 | 一种钙钛矿电池及其生产方法 | CN202410210924.8 | 2024-02-26 | CN118076194A | 2024-05-24 | 李子佳; 陈寇成; 杜振星; 王艳敏; 王清清; 王树茂 |
| 本发明涉及钙钛矿电池领域，特别是涉及一种钙钛矿电池及其生产方法，通过在衬底上沉积钙钛矿层；在所述钙钛矿层上设置电子传输前置层；在所述钙钛矿层上通过镜像磁控溅射生长氧化锡层；所述镜像磁控溅射的第一溅射靶材及第二溅射靶材为金属锡靶；在所述氧化锡层上设置后续外延层，并设置电池片表面电极，得到钙钛矿电池。本发明通过镜像磁控溅射过程中使用金属锡靶，制备氧化锡层，进而可以做到在相对较低成本投入且保证工艺灵活的情况之下既能提升生产效率，满足钙钛矿较高的产能需求，也可以做到不损伤钙钛矿层的情况之下制备高质量氧化锡薄膜，无损的钙钛矿层表面之上的氧化锡层能够提供优异的电子传输性能，提高钙钛矿电池的光电转换效率。 | ||||||
| 211 | 一种透明叠层钝化膜结构及其制备方法和应用 | CN202410044219.5 | 2024-01-12 | CN118073430A | 2024-05-24 | 曾俞衡; 刘尊珂; 叶继春; 欧亚梨; 周鸿凯; 廖明墩; 刘伟 |
| 本发明提供一种透明叠层钝化膜结构及其制备方法和应用，透明叠层钝化膜结构包括依次层叠设置在硅衬底表面的第一钝化层、第二钝化层和第三钝化层，所述第一钝化层的材料为氢化氧化硅薄膜，所述第二钝化层的材料选自氢化碳氮硅薄膜、氢化碳硅薄膜、氢化氮硅薄膜、氢化碳氮氧硅薄膜、氢化碳氧硅薄膜、氢化氮氧硅薄膜中的一种，所述第三钝化层的材料选自氢化氧化铝薄膜、氢化氮化硅薄膜、氢化氧化硅薄膜中的一种或多种叠层薄膜。本发明的透明叠层钝化膜结构具有优异的表面钝化和体钝化效果，可显著降低硅片表面和提高硅片体寿命，有利于提升硅基半导体器件性能。 | ||||||
| 212 | 带钢喷气热交换装置设计与控制方法及其应用 | CN202410193724.6 | 2024-02-21 | CN118070449A | 2024-05-24 | 许正; 许秀飞 |
| 本发明属于钢铁生产技术领域，提供一种带钢喷气热交换装置设计与控制方法及其应用，该方法包括进行近零阻力溢流设计，为通过背向溢流，以避免溢流与射流形成干扰，为在带钢喷气热交换装置中设计一个溢流通道，以引导溢流在流动过程中从初始流动方向逐渐转向至预设流动方向，预设流动方向与射流方向相反。本发明利用溢流，解决现有带钢镀后冷却风箱能耗高，带钢表面受力不均匀，带钢偏离正确运动轨迹，热交换效果差的问题。 | ||||||
| 213 | 遮光膜及其制作方法 | CN202211468647.8 | 2022-11-22 | CN118068468A | 2024-05-24 | 高娜; 陈田祥; 曹杰葳; 徐玉朋; 何会林 |
| 本公开提供了一种遮光膜及其制作方法，涉及X射线探测技术领域。遮光膜包括：镁膜，具有相对的第一表面及第二表面；自支撑聚酰亚胺膜，设置于镁膜的第一表面；铝膜，设置于镁膜的第二表面。本公开实施例中镁膜作为过渡层改善了铝膜直接沉积在聚酰亚胺膜上的岛状结构，增强了铝膜的致密性，提高了遮光膜的光学性能。 | ||||||
| 214 | 一种基于硅基底超宽带红外增透膜片、制备方法及其应用 | CN202410383977.X | 2024-03-29 | CN118068460A | 2024-05-24 | 李茂云; 廖育民; 郑昱 |
| 本发明涉及一种基于硅基底超宽带红外增透膜片、制备方法及其应用，基于硅基底超宽带红外增透膜片包括硅基底，以及设于所述硅基底两侧的第一膜系和第二膜系；所述第一膜系的结构和所述第二膜系的结构均SI|1.74M/1.79H/3.87M/1.06H/8.9M/1.92L/1.72M/6.97L/0.19M|AIR；其中，M为λ0/4光学厚度ZnS膜层，H为λ0/4光学厚度Ge膜层，L为λ0/4光学厚度YbF3膜层，λ0为中心波长，SI表示硅基底材料；AIR表示空气；M、H、L前的数字分别为对应膜层的厚度比例系数，该红外增透膜片牢固性强、硬度大，在波段2‑14μm光的透过率平均在75％以上，具有很好的应用前景。 | ||||||
| 215 | 一种兼顾低透低反和低透高反的膜层结构及其制备方法 | CN202410120947.X | 2024-01-29 | CN118068459A | 2024-05-24 | 王刚; 张亚星 |
| 本发明提供一种兼顾低透低反和低透高反的膜层结构及其制备方法，该膜层结构包括膜面部分和基底部分，所述膜面部分具有低透低反功能，所述基底部分具有低透高反功能，所述基底部分的膜层结构包括基板层和基底金属层，所述基底金属层设置在所述基板层与所述膜面部分之间，所述膜面部分的膜层结构包括介质膜和膜面金属层，所述膜面金属层设置在所述介质膜与所述基底部分之间。根据各层需要的原料材质，在30℃‑500℃，镀膜真空3.0×10‑3Pa以上，以速率0.1A‑100A/S进行镀膜即可。本发明性能优越，满足了膜层结构适用于环境多样场景，应用广泛。 | ||||||
| 216 | 一种用于激光熔覆的加工间距测量系统及测量方法 | CN202311864507.7 | 2023-12-29 | CN118068341A | 2024-05-24 | 惠军; 贾亚仟; 关凯 |
| 本发明涉及一种用于激光熔覆的加工间距测量系统及测量方法，包括激光测距模块，用于加工间距数据的测量，并将测量数据反馈至数据处理模块；测距伸缩模块，用于激光测距模块和双激光定位模块的工位转换；双激光定位模块，用于采集激光测距模块发出的测距检测激光与加工激光的汇聚情况，并将双激光的偏离值反馈至数据处理模块；数据处理模块，分别与激光测距模块、双激光定位模块连接，用于接收各个反馈数据并将其分析转换为间距调整信息，并发送至数控系统，来完成间距调整、保持工作。本发明实现了加工间距的测量、双激光加工定位以及加工间距保持等功能，解决了传统方案无法实现的多种问题；测量系统结构简单，使用方便，具有很好的实用价值。 | ||||||
| 217 | 一种基于双棱镜的熔覆熔池表面高度测量系统 | CN202410253479.3 | 2024-03-06 | CN118067018A | 2024-05-24 | 龙雨; 黎华平; 胡林; 王方; 魏伟 |
| 本发明的一种基于双棱镜的熔覆熔池表面高度测量系统，该系统包括如下实现步骤：第一步，在光路第一次使用前，对高速相机进行张氏标定，以得到相机的畸变参数和投影矩阵，为三维成像计算做准备；第二步，加工时，加工激光熔化粉末和基板后在基板上形成熔池，然后使用808nm辅助照明激光对熔池区域进行补光，辅助照明激光的反射光经过二向色板、反射镜片、长焦微距镜头、双棱镜片、808nm带通滤波镜片、第一聚焦透镜到达高速相机；第三步，由于双棱镜片可以实现双目视觉的效果，因此高速相机可以拍摄到双目熔池图像，因而可以基于双目视觉三维成像的原理实现熔覆熔池表面形貌的三维成像，然后以基材为基平面，进而实现熔池表面的高度测量。 | ||||||
| 218 | 半导体工艺设备及其反应腔室 | CN202211478903.1 | 2022-11-23 | CN118066875A | 2024-05-24 | 舒鑫 |
| 本申请公开了一种半导体工艺设备及其反应腔室，属于半导体工艺技术领域。该反应腔室包括腔室主体、进气容腔以及排气容腔，进气容腔和排气容腔分别固设在腔室主体的两相对侧，且进气容腔和排气容腔均沿腔室主体的高度方向延伸；进气容腔的底部连接有进气口连接管，进气容腔靠近腔室主体的一侧开设有沿腔室主体的高度方向分布的腔室进气结构，以贯穿连通进气容腔与腔室主体的内部；排气容腔的底部连接有排气口连接管，排气容腔靠近腔室主体的一侧开设有沿腔室主体的高度方向延伸的排气狭缝，以贯穿连通排气容腔与腔室主体的内部。本技术方案，其可实现反应气体在反应腔室的内部均匀水平流动，以有效提升反应腔室的工艺质量。 | ||||||
| 219 | 一种隔热油管及其制备方法 | CN202211485492.9 | 2022-11-24 | CN118065825A | 2024-05-24 | 曹婧; 韩礼红; 杨尚谕; 王建军; 牟易升; 车永平; 闫炎 |
| 本发明涉及油田隔热技术领域，具体为一种隔热油管及其制备方法。制备的隔热油管包括依次设置在油管内部的化学镀层、复合气凝胶涂层和面漆层。化学镀层的设置可提升油管内壁的防腐蚀性能，提升油管的使用寿命；复合气凝胶涂层可防止涂层膨胀产生的破裂，可阻绝热传导、热辐射和热对流的热传导，起到隔热保温的作用；最后通过面漆层的设置提升隔热油管的强度，使其满足采井注入条件。以上各涂层的设置均在油管内部，在使用的过程中不受井筒尺寸的影响，且性能稳定，无需长期维护，成本低，强度高，适用于深井的作业要求。解决现有技术中存在传统保温油管由于受井筒尺寸限制及隔热油管强度和稳定性的限制，导致的保温效果不佳的问题。 | ||||||
| 220 | 一种用于铝电解用打壳气缸的保护层、制备方法及其应用 | CN202410196054.3 | 2024-02-22 | CN118064894A | 2024-05-24 | 刘丹; 李冬生; 侯光辉; 张亚楠; 张旭贵; 马军义; 李政伟; 王慧瑶 |
| 本发明公开了一种用于铝电解用打壳气缸的保护层、制备方法及其应用，所述保护层包括5‑35份Cu、10‑55份Fe、15‑65份Ni、0.1‑5份Co、0.1‑5份WC、0.05‑3份Ag、0.05‑3份Al、0.01‑1份Ce、0.01‑1份Nd中的三种或三种以上；制备方法为：将各组分充分混匀后，通过静电喷涂、冷喷涂、冷焊中的一种或几种方式，将混合组分喷涂在铝电解用打壳气缸本体上。将该保护层用于铝电解用打壳气缸表面，不仅能显著增强电解槽运行过程中抗磁场干扰的能力，还能明显提高气缸的耐磨、耐蚀性能，改善因气缸本体变形而带来的密封性下降的难题，大大降低关键部件的保养成本、提高零部件的使用寿命和效率，保证生产过程的顺利进行。 | ||||||
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