子分类：
- H05H1/00： 等离子体的产生;等离子体的处理
- H05H11/00： 磁感应加速器,例如电子磁感应加速器
- H05H13/00： 磁共振加速器;回旋加速器{(strophotrons管, turbine管入H01J25/62)}
- H05H15/00： 其他类目不包含的用于带电粒子加速的方法或设备
- H05H2240/00： 检测
- H05H2242/00： 辅助系统
- H05H2245/00： 检测
- H05H2277/00： 应用
- H05H3/00： 中性粒子束,例如分子束或原子束,的产生或加速
- H05H5/00： 直流电压加速器;应用单脉冲的加速器(H05H3/06优先)
- H05H6/00： 用于产生核反应的靶(靶或被辐照目标物的支架入G21K5/08){氚的准备入 C01B4/00};{ 靶,例如通过激光或放电粒子束喷射进行聚变反应的小球入 H05H1/22}
- H05H7/00： H05H9/00,H01H11/00,H05H13/00各组包含的各种装置的零部件
- H05H9/00： 线性加速器
| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
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| 241 | 微波电浆发生装置及其操作方法 | CN201380032280.8 | 2013-04-16 | CN104380429A | 2015-02-25 | J·迈; H·施勒姆 |
| 本发明涉及一种具有电浆室的微波电浆发生装置。在所述电浆室外部设有至少一个微波发生装置，并且所述微波发生装置的微波被至少一个微波接入装置接入到所述电浆室中。所述微波接入装置具有穿过所述电浆室的至少一个室壁而伸入所述电浆室中的内导体、包围所述内导体并且将所述内导体与所述电浆室的内腔间隔开的绝缘管、和至少一个穿过所述至少一个室壁而伸入所述电浆室中的外导体，所述外导体与所述内导体同轴地布置但并不包围所述内导体的整个圆周。所述外导体在所述电浆室中具有至少一个外导体末端。所述内导体与所述外导体形成微波导线，其中在所述电浆室中，微波可以从所述微波导线中外泄出，以便在所述电浆室的内腔中产生微波电浆。根据本发明，在所述电浆室的内腔中设有至少一个与所述内导体同轴布置且与所述室壁电绝缘的电浆电极，该电浆电极可被施加有直流电压、低频电压或高频电压，所述微波电浆可与该电浆电极电接触，使得所述微波电浆可以至少部分地承担所述外导体的作用。本发明还涉及一种操作该微波电浆发生装置的方法。 | ||||||
| 242 | 灭菌处理装置及使用该装置的灭菌处理方法 | CN201380027446.7 | 2013-05-22 | CN104349795A | 2015-02-11 | 板良敷朝将; 鬼塚典夫 |
| 一种灭菌处理装置，其特征在于，具备：反应容器，收容灭菌处理对象物并实施灭菌处理；试剂供给机构，向所述反应容器内供给至少含有过乙酸的过氧化剂作为灭菌处理用试剂；减压机构，对所述反应容器内进行减压；换气机构，对所述反应容器内进行换气；以及等离子体生成机构，在从所述灭菌处理对象物在所述反应容器内的收容位置及其附近到装置的外部的流体路径的规定部位产生等离子体。在利用所述试剂的灭菌处理后对所述反应容器内进行减压的过程中，以使所述规定部位保持在产生等离子体的状态下的方式控制所述减压机构和等离子体生成机构。 | ||||||
| 243 | 涂覆有钝化层的硅晶片 | CN201380027106.4 | 2013-04-25 | CN104335325A | 2015-02-04 | 赛义德·萨尔曼·阿萨德; G·博卡恩; 皮埃尔·德斯坎普斯; 文森特·凯撒; 帕特里克·里姆波尔 |
| 本发明涉及生产涂覆有钝化层的硅晶片。经涂覆的硅晶片可适用于将照射在电池正面的光的能量转换成电能的光伏电池。 | ||||||
| 244 | 高频电力供给装置以及点火电压选定方法 | CN201380028343.2 | 2013-06-03 | CN104322153A | 2015-01-28 | 让原逸男; 相川谕; 国玉博史 |
| 使负载端电压为高电压，选定等离子体负载的负载端电压为用于产生等离子体放电充分高的点火电压。在从高频电源通过供电部进行的向负载的高频电力的供给中，(a)使高频电源部的内部阻抗为比供电部的特性阻抗低的阻抗，(b)将连接高频电源和负载供给高频电力的供电部的电长度LE相对于高频交流的基本波长λ被选定为预定的关系，由此使负载端电压为高电压。关于供电部的电长度LE的选定，使作为负载的输入端的负载端为开路状态时的电长度LE相对于高频交流的基本波长λ为(2n－1)·(λ/4)－k·λ≤LE≤(2n－1)·(λ/4)+k·λ，n为整数，k为{π－2·cos－1(1/K)}/(4π)。 | ||||||
| 245 | 射流控制设备及方法 | CN201380026238.5 | 2013-04-04 | CN104321540A | 2015-01-28 | 维多利亚·苏波尼斯基; 桑德拉·朱斯蒂娜·巴尔斯基; J·迈克尔·G·拉伯齐; 道格拉斯·哈维·理查森; 彼得·莱谢克·科斯特卡 |
| 本发明描述了一种射流控制设备的示例。该射流控制设备可以包括射流偏转构件，该射流偏转构件构造成拦截自射流形成位置出现的高速射流和/或与该高速射流相撞。射流偏转构件与射流的相互作用可以促使高速射流散布成具有许多流动方向的多股射流，该许多流动方向相对于高速射流的初始方向可能是偏斜的。在一种实施方式中，偏转构件可以包括通过将流体射出出口喷嘴而形成的液体导引部，使得该液体导引部远离出口喷嘴纵向地延伸。在另一实施方式中，偏转构件可以包括沿高速射流出现的方向通过出口注射的固体颗粒的阵列，此阵列构造为与出现的射流相撞从而使该射流的初始方向偏转。 | ||||||
| 246 | 用于检测等离子处理室中激发步骤的电容耦合静电（CCE）探针装置及其方法 | CN201410422254.2 | 2009-07-07 | CN104320899A | 2015-01-28 | 杰-保罗·布斯; 道格拉斯·L·凯尔 |
| 提供一种识别等离子处理系统的处理室内稳定的等离子的方法。该方法包括在该处理室内执行激发步骤以生成等离子。该激发步骤包括在该处理室内施加相当高气压并在该处理室内维持低射频(RF)功率。该方法还包括采用探针头以采集一组激发步骤过程中的特性参数测量值，该探针头在处理室的表面上，其中该表面非常接近衬底表面。该方法进一步包括将该组特性参数测量值与预定的范围对比。如果该组特性参数测量值在预定的范围内，则存在稳定的等离子。 | ||||||
| 247 | 具有阻抗转换部的集成微波波导 | CN200880127027.X | 2008-01-30 | CN101946366B | 2015-01-21 | 迈克尔·W·斯托厄尔 |
| 描述了一种微波波导和一种关于微波波导的系统和方法。一个实施方式包括一集成微波波导，所述集成微波波导包括波导区块，在所述波导区块中的第一波导部分，在所述波导区块中的第二波导部分，与所述波导区块中的所述第一波导部分集成的第一阻抗转换部分，以及与所述波导区块中的所述第二波导部分集成的第二阻抗转换部分，其中所述第一阻抗部分包括具有第一端和第二端的第一导管，其中所述第一导管从第一端到第二端逐渐变细（tapered），其中所述第二阻抗部分包括具有第三端和第四端的第二导管，其中所述第二导管从第三端到第四端逐渐变细，并且其中所述第一阻抗转换部分的第二端与所述第二阻抗转换部分的第四端相连接。 | ||||||
| 248 | 线性质子加速器 | CN201410323833.1 | 2014-07-08 | CN104284507A | 2015-01-14 | 多纳泰拉·温加罗; 雅各布·纳尔杜利 |
| 一种线性质子加速器，该线性质子加速器包括一个接一个布置的多个加速部件(10)，并且包括质子源(11)以及多个加速单元(15,17)。该加速器进一步包括用于支撑加速器部件的网状的支撑结构(20)；该支撑结构成形为具有多边形截面的棱柱并且具有连接棱柱相对端部的多个侧面(21)。该支撑结构相对于加速器部件同心地布置。 | ||||||
| 249 | 氢等离子场发生方法及发生装置 | CN201380017694.3 | 2013-03-28 | CN104272880A | 2015-01-07 | 及川胤昭 |
| 本发明提供一种在常温、常压的电离氢水中发生氢等离子场的方法。本发明的氢等离子场发生方法包括：准备溶解有离子键合性氢化氢或正型的氢分子的电离氢水的工序、对所述溶液照射真空紫外线的工序。优选的是，真空紫外线含有193nm的波长。本发明的氢等离子场的发生方法通过应用于油的乳化的工序，通过对乳化的油照射太阳光能够使之细微化，从而能够进行雾粒子化。 | ||||||
| 250 | 导体组件和导体组件的制造方法 | CN201410453305.8 | 2008-10-01 | CN104269253A | 2015-01-07 | 雷纳·迈因克 |
| 导体组件和导体组件的制造方法。该类型的导体组件在传导电流时生成磁场或者在存在变化磁场的情况下感生电压。在所述组件的一个实施例中，管形的第一层围绕轴形成，该轴包括弯曲部分，可沿该弯曲部分安置导体以限定第一导体路径。第一层也包括弯曲部分，第一层的弯曲部分具有包括沿轴的弯曲部分延伸的弯曲的形状。第一导体围绕第一层的弯曲部分以第一螺旋配置布置，这种配置包括螺旋形的并且围绕轴的弯曲部分形成的弯曲段。该配置能够承受具有沿所述轴的横向取向的多极分量的磁场。 | ||||||
| 251 | 利用磁场的等离子体的控制方法和使用它的排气处理装置 | CN201010154437.2 | 2010-04-02 | CN101856581B | 2015-01-07 | 淡路敏夫; 中山贵志; 田中敏夫 |
| 本发明提供一种排气处理装置中的利用磁场的等离子体的控制方法和使用它的排气处理装置，不会显著地增大能量的消耗量或降低处理的绝对量，而能够通过简单的方法和构造，提高通过等离子体进行的排气的处理效率。在通过在反应管(1)内产生的等离子体来对导入到反应管(1)内的排气进行分解而处理的排气处理装置中，通过在反应管(1)内产生磁场，来控制在反应管(1)内产生的等离子体的状态。 | ||||||
| 252 | 驻波电子直线加速器及集装箱/车辆检查系统 | CN201310249082.9 | 2013-06-21 | CN104244561A | 2014-12-24 | 孙尚民; 秦占峰; 姚胜; 喻卫丰; 宋李卫; 宗春光; 梁晋宁 |
| 提供一种驻波电子直线加速器和具有其的双通道快速集装箱/车辆检查系统、车载移动式集装箱/车辆检查系统、及组合移动式集装箱/车辆检查系统。所述直线加速器具备：产生射频微波用的调制器和磁控管；用于将电子加速的多个加速管；用于将微波馈入多个加速管的微波传送系统；向多个加速管内发射电子束的多个电子枪；被来自多个加速器的电子轰击而产生连续谱的X射线的多个靶；对由上述各靶产生的连续谱的X射线进行屏蔽的多个屏蔽设备，在所述微波传送系统的末端附近设置微波分配器，该微波分配器具有一个微波入口和多个微波出口，用于令微波传送系统中的微波向各个加速管分支。 | ||||||
| 253 | 具有分隔屏蔽的同位素产生系统 | CN201080038292.8 | 2010-06-03 | CN102484941B | 2014-12-24 | J·诺尔林; T·埃里克松 |
| 一种同位素产生系统，包括具有围绕加速室的磁轭的回旋加速器。回旋加速器配置成定向来自加速室的粒子束通过磁轭。同位素产生系统还包括在磁轭附近定位的靶系统。靶系统配置成保持靶材料，并且包括在磁轭与靶位置之间延伸的辐射屏蔽。辐射屏蔽的大小和形状配置成衰减从靶材料朝向磁轭发射的伽马射线和/或中子。同位素产生系统还包括从加速室延伸到靶位置的束通道。束通道至少部分由磁轭以及靶系统的辐射屏蔽形成。 | ||||||
| 254 | 分散式静电夹盘的冷却 | CN201380018935.6 | 2013-04-17 | CN104221476A | 2014-12-17 | F·斯李维亚; R·福韦尔; H·塔瓦索里 |
| 本发明的实施例包括在等离子体处理过程中用以冷却支撑工件的基座的设备、系统和方法。基座的实施例包括：底座，该工件是将被配置于该底座上方；数个喷嘴，用以从供应充气增压部供应流体来撞击于该底座的表面上；以及数个返回管道，用以将供应的流体送回到返回充气增压部。将由该数个喷嘴供应的流体可以在该数个喷嘴和该底座之间的空间内被喷射成一或更多个淹没于周围流体中的射流，或被喷射成从周围流体浮现的喷雾，以撞击于该底座的该表面上。 | ||||||
| 255 | 用于处理排放流体的装置 | CN201180063273.5 | 2011-12-27 | CN104220145A | 2014-12-17 | 李相润; 卢明根; 吴兴植 |
| 本发明提供一种用于处理排放流体的装置，其将在用于制造半导体、显示面板或太阳能电池的装置的处理室中产生的流体排放到外部，用于处理排放流体的所述装置包括：真空泵，其连接到所述处理室，将所述处理室的内部抽成真空，并且将在所述处理室中产生的所述流体排放到外部；以及等离子体反应器，在其中形成等离子体并且将在所述处理室中产生的流体分解，其中所述等离子体反应器包括：绝缘导管，其设置在所述处理室与所述真空泵之间并且设有所述流体在其中分解的空间；至少一个电极单元，其设置在所述导管的外周边表面上并且接收形成等离子体的电压；以及缓冲单元，其由导电弹性物质形成并且布置在所述导管与所述电极单元之间，以将所述导管与所述电极单元紧密地附接在一起。 | ||||||
| 256 | 电源装置 | CN201080052841.7 | 2010-11-12 | CN102668722B | 2014-12-17 | 松原忍; 堀下芳邦; 小野敦 |
| 提供一种电源装置，其在有效限制与喷溅或颗粒的产生直接相关的电弧放电发生时的电流上升的同时，能够防止电弧处理结束时放电电压变得过大。本发明的电源装置E具有：直流电源部（2），其向与等离子体P接触的靶T施加直流电压；以及电弧处理部（3），其在该直流电源部的正负输出（5a、5b）上检测电极处发生的电弧放电，并且能进行该电弧放电的消弧处理。具有输出特性切换电路（6、SW2），通过电弧处理部检测得知电弧放电的发生，所述输出特性切换电路（6、SW2）为使消弧处理开始时给所述电极的输出具有恒流特性，到该消弧处理结束之前给所述电极的输出具有恒压特性，而进行所述输出的切换。 | ||||||
| 257 | 非消耗电极式弧焊设备 | CN201080049863.8 | 2010-11-04 | CN102596478B | 2014-12-17 | 西川清吾; 森本猛; 胜又直路 |
| 公开了一种非消耗电极式弧焊设备，该设备在起弧时不产生高频噪声、消除起动故障、并且能够减少电极末端的消耗。该非消耗电极式弧焊设备设有：焊炬(1)，焊炬设有电极部和喷嘴(1b)；供气装置(8，9)，该供气装置供给保护气体，该保护气体在电极部和喷嘴(1b)之间的间隙中流到焊炬(1)；第一电源(7)，第一电源对电极部和喷嘴(1b)之间施加电压并且产生维弧(14)；第二电源(6)，第二电源向电极部分和工件之间施加电压并且产生主弧；以及控制单元(5)，该控制单元控制第一电源(7)和第二电源(6)。电极部设有电极(1a)和电极保持部(13)，该电极保持部保持电极的基部。电极保持部(13)在喷嘴(1b)侧设有突起(13a)，突起朝喷嘴(1b)突出，且突起(13a)和喷嘴(1b)彼此接触和分离。 | ||||||
| 258 | 高压电路插入型放电元件 | CN200980151991.0 | 2009-12-21 | CN102265379B | 2014-12-10 | 米卡来·耶拉什; 崔东铉; 安模河 |
| 一种放电元件，包括：电介质，第一电极和第二电极，设置有介于其间的电介质，以及电路单元，第一电极和第二电极分别电连接至电路单元，用于产生施加至第一电极和第二电极的高压。电介质形成为管状或管道状，具有设置在其中的所述电路单元的内部。 | ||||||
| 259 | 具有可逆冷却剂流的缩回启动等离子体炬 | CN201080035272.5 | 2010-08-02 | CN102577630B | 2014-11-26 | W·S·赛弗伦斯; R·A·切科 |
| 本发明提供一种改进的等离子体炬和启动该炬的方法。所述炬包括主炬体，其具有联接至其中的活塞的电极组件。所述活塞和所述电极组件在该电极组件接触喷嘴的起始位置和该电极组件不接触该喷嘴的操作位置之间移动。所述活塞可通过引导流体沿偏压该活塞到所述起始位置的第一方向或沿偏压该活塞从而使所述电极组件缩回到所述操作位置的相反的第二方向移动穿过所述等离子体炬，所述引导流体可包括冷却剂。换向阀或可逆泵可被用于控制流体的流动方向。因此，冷却剂供给可被用于冷却所述炬并且控制该炬的启动和操作。 | ||||||
| 260 | 用于液体冷却的等离子枪的喷嘴和具有该喷嘴的等离子枪头 | CN201080029498.4 | 2010-05-31 | CN102474969B | 2014-11-26 | V·克林克; F·劳里施; T·格伦德克 |
| 用于液体冷却的等离子枪的喷嘴，其包括用于在喷嘴尖端上排出等离子气体射束的喷嘴孔、第一部分以及朝喷嘴尖端方向与第一部分紧接着的第二部分，该第一部分的外表面基本上是圆柱形的，该第二部分的外表面向喷嘴尖端那边基本上成锥形逐渐缩小，其中设置一个或多个液体流入槽和/或一个或多个液体回流槽并且它们在第二部分上在喷嘴(4)的外表面中向喷嘴尖端那边延伸，所述一个液体流入槽或所述多个液体流入槽中的至少一个和/或所述一个液体回流槽或所述多个液体回流槽中的至少一个也在第一部分的一部分上延伸，并且在第一部分中具有至少一个槽，其与所述一个液体流入槽或所述多个液体流入槽中的至少一个或与所述一个液体回流槽或所述多个液体回流槽中的至少一个处于连接。 | ||||||
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