子分类：
| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
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| 1 | 一种超导回旋加速器的低温恒温器的密封结构 | CN201610617112.0 | 2016-07-29 | CN106132066A | 2016-11-16 | 尹蒙; 王川; 张素平 |
| 本发明属于超导回旋加速器技术领域，具体涉及一种超导回旋加速器的低温恒温器的密封结构，低温恒温器是由内筒体、外筒体、上法兰、下法兰共同构成用于放置超导线圈的环形密封仓，还包括设置在上法兰、下法兰上的悬挂系统上支撑筒、悬挂系统下支撑筒；设置在外筒体上的静电偏转板引出电极支撑筒、束流引出系统支撑筒、径向束流探测靶支撑筒、悬挂系统横向支撑筒；密封结构包括：上法兰、下法兰与内筒体、外筒体之间的密封结构。该密封结构能够拆装检修，密封效果稳定，能够保证超导线圈在真空环境中进行调整定位。 | ||||||
| 2 | 一种在高真空状态下可调节离子源位置的装置及调节方法 | CN201610412969.9 | 2016-06-14 | CN105873351A | 2016-08-17 | 刘尔祥; 龙继东; 陈宇航; 刘平 |
| 本发明公开了一种在高真空状态下可调节离子源位置的装置及调节方法，包括设置在壳体中的离子源，所述壳体内部中空且一端开口，在壳体中设置有伸缩调节装置，且伸缩调节装置完全封闭壳体的开口端，伸缩调节装置与离子源连接，且伸缩调节装置能够沿着壳体的轴线方向带动离子源在壳体中移动。该装置及方法结构牢固，能够对离子源的整体长度进行精确调节，调节范围大，并且离子源上的部件也容易拆卸更换，降低更换成本。 | ||||||
| 3 | 具有分隔屏蔽的同位素产生系统 | CN201410221639.2 | 2010-06-03 | CN103997844A | 2014-08-20 | J.诺尔林; T.埃里克松 |
| 一种同位素产生系统，包括具有围绕加速室的磁轭的回旋加速器。回旋加速器配置成定向来自加速室的粒子束通过磁轭。同位素产生系统还包括在磁轭附近定位的靶系统。靶系统配置成保持靶材料，并且包括在磁轭与靶位置之间延伸的辐射屏蔽。辐射屏蔽的大小和形状配置成衰减从靶材料朝向磁轭发射的伽马射线和/或中子。同位素产生系统还包括从加速室延伸到靶位置的束通道。束通道至少部分由磁轭以及靶系统的辐射屏蔽形成。 | ||||||
| 4 | 能够对至少两种粒子进行加速的回旋加速器 | CN201180035515.X | 2011-06-28 | CN103004292A | 2013-03-27 | M·阿比斯 |
| 本发明涉及一种用于回旋加速器的双频谐振腔（6），该双频谐振腔（6）包括D形电极（10）、柱形物（20）以及包围所述柱形物和所述D形电极的导电罩（40），所述柱形物的一端刚性地连接到所述导电罩的底部，而所述柱形物（20）的相反端支撑所述D形电极（10）。所述导电罩和所述柱形物形成包括至少三个部分（20a，20b，20c）的传输线，各部分具有特性阻抗（Zc1，Zc2，Zc3）。所述中间部分（20b）的特性阻抗Zc2大致低于其他两部分（20a，20b）的特性阻抗Zc1和Zc3，这使得腔可以以两种模式谐振，以产生两个不同的频率，而无需利用诸如滑动短路或移动板的移动组件。本发明还涉及用于基于使用电磁和射频模拟工具来设计这样的谐振腔的方法。 | ||||||
| 5 | 放射性同位素制造装置及放射性同位素的制造方法 | CN200880019360.9 | 2008-04-09 | CN101681689B | 2012-07-04 | 小笠原毅; 矢岛晓; 佐野正美 |
| 本发明能够兼顾提高靶的耐压性和提高靶液的冷却效果，充分抑制靶液的沸腾。放射性同位素制造装置具备：照射放射线的回旋加速器、具有收容靶液(L)的收容凹部(40)的靶(20)。收容凹部(40)包括：用于导入从回旋加速器照射的放射线的开口部(44)；朝向离开开口部(44)的方向凹陷，以具有顶部(58)的球面状的底面(48)。靶(20)配置成从回旋加速器照射的放射线的照射轴(X)和底面(48)之间的相交位置在顶部(58)的正下方。 | ||||||
| 6 | 具有分隔屏蔽的同位素产生系统 | CN201080038292.8 | 2010-06-03 | CN102484941A | 2012-05-30 | J·诺尔林; T·埃里克松 |
| 一种同位素产生系统，包括具有围绕加速室的磁轭的回旋加速器。回旋加速器配置成定向来自加速室的粒子束通过磁轭。同位素产生系统还包括在磁轭附近定位的靶系统。靶系统配置成保持靶材料，并且包括在磁轭与靶位置之间延伸的辐射屏蔽。辐射屏蔽的大小和形状配置成衰减从靶材料朝向磁轭发射的伽马射线和/或中子。同位素产生系统还包括从加速室延伸到靶位置的束通道。束通道至少部分由磁轭以及靶系统的辐射屏蔽形成。 | ||||||
| 7 | 同位素生产系统和回旋加速器 | CN201080020362.7 | 2010-03-22 | CN102422724A | 2012-04-18 | J·诺尔林; T·埃里克松 |
| 一种回旋加速器，其包括磁轭，该磁轭具有围绕加速室的轭体。该回旋加速器还包括磁体组件以产生磁场以沿期望路径引导充电粒子。该磁体组件位于加速室中。磁场经加速室并在磁轭内传播，其中磁场的一部分作为杂散场逸出磁轭之外。该回旋加速器还包括与轭体直接联接的真空泵。该真空泵构造成将真空导入加速室。该磁轭尺寸设置为使得真空泵不会经受超过75高斯的磁场。 | ||||||
| 8 | 用于电子感应加速器的铅屏蔽和X射线检测设备 | CN200780040280.7 | 2007-09-06 | CN101530005B | 2012-03-28 | J·贝尔穆特; G·戈伊斯; G·赫斯; U·菲伯克 |
| 本发明涉及一种在X射线发生器中的电子感应加速器(2)的铅屏蔽(1)，由至少四个屏蔽部件(7、8、9、10)组成，其中两个部件(7、8)设计成半圆柱形并在其外壳面中配设有凹部(11、12)，其中半圆柱形的屏蔽部件(7、8)以其外壳面设置在其余屏蔽部件(9、10)的相应的凹部中，使得在外壳面中的凹部(11、12)在半圆柱形的屏蔽部件(7、8)和其余的屏蔽部件(9、10)之间形成空气通道。 | ||||||
| 9 | 用于调节从粒子加速器中提取的电子束的强度的装置和方法 | CN02811473.6 | 2002-06-03 | CN1247052C | 2006-03-22 | 布鲁诺·马克汉德; 伯特兰·保维尔 |
| 一种用于调节从诸如一个回旋加速器的粒子加速器中抽取的射束的强度的装置(10)，该装置用于例如质子疗法中，所述的粒子产生于一个离子源，其特征在于至少包括：比较器(90)，其确定在表示射束强度的数字信号IR和该射束强度的一个设定点值IC之间的差ε，该射束强度是在该加速器的出口测量的；一个施米特预测器(80)，其根据所述的差ε确定所述射束强度的一个修正值Ip；反向对应表(40)，其根据所述的射束强度的所述修正值Ip，为一个离子源(20)的电弧电流的供应提供设定点值IA。 | ||||||
| 10 | 改变从加速器中引出的粒子束的能量的装置 | CN99814854.7 | 1999-12-20 | CN1331903A | 2002-01-16 | 伊弗斯·约真; 文森特·婆勒耶 |
| 本发明涉及一种改变从粒子加速器中引出的粒子束的能量的装置,其特征在于它包括一降能器,该降能器实质由物质块组成的,该物质块的厚度(E1+E2)以一定的梯级不连续地变化,梯级的能量的间隔是可变化的并且是确定的,以使粒子束的强度的变化在两个连续梯级之间的边界上达到在所考虑的两个相邻的梯级的每个梯级的出口处获得的最大强度的最大15%,优选最大10%。 | ||||||
| 11 | 具有分隔屏蔽的同位素产生系统 | CN201410221639.2 | 2010-06-03 | CN103997844B | 2017-01-04 | J.诺尔林; T.埃里克松 |
| 一种同位素产生系统，包括具有围绕加速室的磁轭的回旋加速器。回旋加速器配置成定向来自加速室的粒子束通过磁轭。同位素产生系统还包括在磁轭附近定位的靶系统。靶系统配置成保持靶材料，并且包括在磁轭与靶位置之间延伸的辐射屏蔽。辐射屏蔽的大小和形状配置成衰减从靶材料朝向磁轭发射的伽马射线和/或中子。同位素产生系统还包括从加速室延伸到靶位置的束通道。束通道至少部分由磁轭以及靶系统的辐射屏蔽形成。 | ||||||
| 12 | 一种等时性回旋加速器射频腔体 | CN201610615111.2 | 2016-07-29 | CN106163072A | 2016-11-23 | 邢建升; 纪彬; 宋国芳; 曹学龙; 张素平; 张天爵; 温立鹏; 崔涛; 吕银龙; 尹蒙; 郑侠; 林军; 贾先禄 |
| 本发明涉及一种等时性回旋加速器射频腔体，所述腔体包括：D板、内杆及外导体圆筒、垫补垫A、垫补垫B、外导体；所述D板通过螺钉A与垫补垫A和内杆及外导体圆筒连接固定在一起，所述内杆及外导体圆筒通过螺钉B与垫补垫B、外导体和加速器主磁铁连接固定在一起，从而将射频腔体连接固定在加速器主磁铁上。通过测量腔体谐振频率得到的结果，修补垫补垫A和垫补垫B的厚度，使D板与内杆短路端的距离L发生改变，从而改变腔体射频谐振回路电感值，使腔体谐振频率随之改变而达到所需频率，完成等时性回旋加速器射频腔体谐振频率的垫补。该射频腔体谐振频率垫补方法操作简单、实施方便，基于该方法设计的射频腔体工作稳定可靠。 | ||||||
| 13 | 内离子源回旋加速器 | CN201610416387.8 | 2016-06-15 | CN105848403A | 2016-08-10 | 何小中; 赵良超; 庞健; 马超凡; 张开志; 邓建军; 石金水; 刘本玉; 章林文; 李雷; 李劲; 杨国君; 杨兴林; 杨振; 荆晓兵; 董攀; 杨安民; 江孝国; 唐蜜; 龙全红 |
| 本发明公开了一种内离子源回旋加速器，包括：相对于一平面上下对称设置的上磁极和下磁极；分别围绕上磁极和下磁极外周面的上线圈和下线圈；多个围绕上线圈布置的上磁轭，多个围绕下线圈布置的下磁轭；位于上磁极和下磁极之间，并与上磁极和下磁极连接的真空盒；上磁极开设有从上至下贯穿上磁极，且与真空盒连通的上通道；贯穿真空盒的壁，且出射端位于真空盒内的离子源；位于上磁极上方的分子泵，分子泵的输入端朝下设置，分子泵的输入端与上通道连通。分子泵的安装方向便于调整，从而能够将分子泵的输入端朝下设置，将分子泵的输入端从上方与上磁极的上通道连通，从而避免了分子泵在运行或维护过程中容易引入杂质的问题。 | ||||||
| 14 | 一口出多档能量电子束的花瓣型加速器 | CN201610119829.2 | 2016-03-03 | CN105578703A | 2016-05-11 | 罗应雄 |
| 本发明涉及一种一口出多档能量电子束的花瓣型加速器，现有花瓣型加速器采用9块磁铁，分别为一号磁铁、二号磁铁、三号磁铁、四号磁铁、五号磁铁、六号磁铁、七号磁铁、八号磁铁和九号磁铁。本发明是在七号磁铁和八号磁铁外侧各增设一块磁铁，用以改变电子轨道和进出加速腔的时间，使电子或受加速或受减速，从而改变电子在出口处的能量，实现一口出多档能量的目的。以增设一块或两块磁铁为代价，省去价格高昂的一套或三套束流引出系统，可以很好地满足实际应用的需要。 | ||||||
| 15 | 具有分隔屏蔽的同位素产生系统 | CN201080038292.8 | 2010-06-03 | CN102484941B | 2014-12-24 | J·诺尔林; T·埃里克松 |
| 一种同位素产生系统，包括具有围绕加速室的磁轭的回旋加速器。回旋加速器配置成定向来自加速室的粒子束通过磁轭。同位素产生系统还包括在磁轭附近定位的靶系统。靶系统配置成保持靶材料，并且包括在磁轭与靶位置之间延伸的辐射屏蔽。辐射屏蔽的大小和形状配置成衰减从靶材料朝向磁轭发射的伽马射线和/或中子。同位素产生系统还包括从加速室延伸到靶位置的束通道。束通道至少部分由磁轭以及靶系统的辐射屏蔽形成。 | ||||||
| 16 | 冷却系统和方法 | CN201080007085.6 | 2010-02-09 | CN102308676B | 2014-08-20 | 迈克尔·科林·贝格; 弗雷德里克·托马斯·大卫·戈尔迪 |
| 一种离子治疗系统，包括安装在可旋转台架(2)上的粒子加速器(1)。所述粒子加速器包括当所述粒子加速器在使用中围绕所述台架的轴线旋转时围绕其轴线旋转的超导线圈(17)，以将输出束从不同方向朝向目标引导。所述粒子加速器能够旋转通过(180)度以使所述束沿对应的弧线移动。所述粒子加速器包括配置为当所述线圈旋转时冷却所述线圈的冷却系统。所述超导线圈(17)被安装在线圈支架(25)中。所述线圈被定位为从所述支架(25)的另一侧上的所述线圈(17)径向外部的制冷剂室(32)围绕。所述制冷剂室与制冷剂再凝结单元(29)流体连通，由此蒸发的制冷剂可以在使用中从制冷剂室(32)流动到所述制冷剂再凝结单元(29)，以在返回到所述制冷剂室之前被再凝结。热传导装置(40)被配置为在使用中利于热量从所述超导线圈(17)传递到所述制冷剂室(32)以使包含在所述制冷剂室(32)中的制冷剂蒸发，从而将热量从所述线圈移除。 | ||||||
| 17 | 加速器及回旋加速器 | CN201110059468.4 | 2011-03-11 | CN102264187B | 2014-06-25 | 筒井裕士 |
| 本发明的目的在于提供一种能够抑制导入至加速轨道的射束扩散的加速器及回旋加速器。本发明的回旋加速器具备使从离子源入射的射束通过并使之导入至加速轨道(T)的螺旋偏转器(21)，螺旋偏转器(21)具有在与射束的通过轨道(S)正交的截面中将缝隙设为不均一的正电极(23)及负电极(27)，作为收敛所通过的射束(B)的射束收敛机构。 | ||||||
| 18 | 同位素产生系统和具有减少的杂散磁场的回旋加速器 | CN201080031037.0 | 2010-03-25 | CN102461346B | 2014-03-05 | J·诺尔林; T·埃里克松 |
| 一种回旋加速器，其包括磁轭和磁体组件，该磁轭具有环绕加速室的轭体。该磁体组件配置成产生磁场来沿着期望的路径引导带电粒子。该磁体组件位于该加速室中。磁场传播通过该加速室并且在该磁轭内。磁场的一部分逃到该磁轭的外部作为杂散场。该磁轭尺寸适于使得杂散场在离外部边界1米的距离处不超出5高斯。 | ||||||
| 19 | 加速器及回旋加速器 | CN201110059468.4 | 2011-03-11 | CN102264187A | 2011-11-30 | 筒井裕士 |
| 本发明的目的在于提供一种能够抑制导入至加速轨道的射束扩散的加速器及回旋加速器。本发明的回旋加速器具备使从离子源入射的射束通过并使之导入至加速轨道(T)的螺旋偏转器(21)，螺旋偏转器(21)具有在与射束的通过轨道(S)正交的截面中将缝隙设为不均一的正电极(23)及负电极(27)，作为收敛所通过的射束(B)的射束收敛机构。 | ||||||
| 20 | 用于以回旋加速器生产粒子束的内部双离子源 | CN200980128125.X | 2009-05-29 | CN102100128A | 2011-06-15 | W·克里文; M·吉约特; M·阿比斯 |
| 本发明涉及包含用于生产相同粒子的两个内部离子源(1，2)的回旋加速器。第二离子源能够被用作后备离子源，这大大提高了回旋加速器的可用时间和可靠性并且减少了维护干预。有利地，回旋加速器的特征还在于回旋加速器内的不同元件的最优化的紧密几何图形。本发明的回旋加速器的特征还可以在于调整和最优化第一和第二内部离子源的形状以避免在加速的首次回转期间的粒子损失。回旋加速器的特征还可以在于调整和最优化反D形电极组件(4)的形状以及可能还有D形电极组件以便改进在间隙(5)中间的加速场。 | ||||||
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