| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
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| 41 | EUVマスク検査システムの光学系の波面収差計測 | JP2015530007 | 2013-08-28 | JP6312682B2 | 2018-04-18 | ジャーン チアーン; リウ イエンウェイ; セジナー アブドゥラフマン(アポ) |
| 42 | 高度な薬物開発及び製造 | JP2014123249 | 2014-06-16 | JP5913441B2 | 2016-04-27 | エバ・アール・バーンボーム; アンドリュー・ティー・コピシュ; シャロン・エム・ボールドウィン; ベンジャミン・ピー・ワーナー; マーク・ティー・マクレスキー; ジェニファー・エイ・バーガー; ジェフリー・ジェイ・スチュアート; マイケル・エヌ・ハリス; アンソニー・ケイ・バレル |
| 43 | 高アスペクト比X線ターゲットおよびその使用 | JP2015085117 | 2015-04-17 | JP2015207559A | 2015-11-19 | エヌ・ウィリアム・パーカー; マーク・ダブリュー・ウトロート; ローレンス・フランツ・タームス・クワクマン; トーマス・ジー・ミラー |
| 【課題】X線ターゲット、該X線ターゲットを使用する方法、および該X線ターゲットを使用する方法を実行するための命令を含むコンピュータ・プログラム製品を提供すること。 【解決手段】このX線ターゲットは、軟X線生成材料から作られた基板と、硬X線生成材料から作られた高アスペクト比構造体とを含む。硬X線生成材料は、基板に埋め込まれており、または基板上に形成されており、または基板の縁から外へ片持ち梁式に突き出ており、またはこれらの任意の組合せである。高アスペクト比構造体は、1つまたは複数のグリッドまたはアレイとして配列された複数の高アスペクト比構造体を含み、その1つまたは複数のグリッドまたはアレイのうちの1つの中の高アスペクト比構造体は、アダマール行列構造体を形成するように配列されている。 【選択図】図3A |
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| 44 | ＥＵＶマスク検査システムの光学系の波面収差計測 | JP2015530007 | 2013-08-28 | JP2015529855A | 2015-10-08 | チアーン ジャーン; イエンウェイ リウ; アブドゥラフマン（アポ） セジナー |
| 極端紫外線(EUV)検査システムの波面収差を測定するためのテスト構造が開示される。テスト構造は、EUV光に実質的に反射性を有さない素材から形成される基板および、柱などの、基板上に形成され、EUV光を反射するように異なる屈折率を有する層の複数の交互の対を備える多層膜(ML)スタック部を含む。対の数は15以下である。 | ||||||
| 45 | X線顕微鏡用試料収容セルおよびX線顕微鏡像の観察方法 | JP2011197097 | 2011-09-09 | JP5750763B2 | 2015-07-22 | 小椋 俊彦; 高橋 通 |
| 46 | 円形格子を用いる差分位相コントラスト撮像 | JP2012501436 | 2010-03-15 | JP5705826B2 | 2015-04-22 | レッスル エヴァルト; コーレル トマス; マルテンス ゲルハルト |
| 47 | カンチレバー、製造方法、検査装置及び検査方法 | JP2013089367 | 2013-04-22 | JP2014215038A | 2014-11-17 | UMEHARA YASUTOSHI; YAMANISHI YOSHIKI |
| 【課題】精度良くサンプルとX線ターゲット間の距離を制御すること。【解決手段】開示のカンチレバー210は、実施形態の一例において、X線ターゲット部212が埋め込まれる。また、開示のカンチレバー210は、実施形態の一例において、X線ターゲット部212がカンチレバー210の探針211に埋め込まれる。また、開示のカンチレバーは、実施形態の一例において、カンチレバー210の探針211がSiより軽い元素を含む材料にて形成される。また、開示のカンチレバー210は、実施形態の一例において、X線ターゲット部212からX線が照射される照射線上を除く部分に導電層213を有する。【選択図】図1 | ||||||
| 48 | X-ray irradiation apparatus and analysis apparatus | JP2012508093 | 2011-03-30 | JP5550082B2 | 2014-07-16 | 拡路 山瑞; 啓介 小林; 秀夫 岩井; 小畠 雅明 |
| 49 | Light stimulus and cryopreservation device of biologica sample | JP2013040538 | 2013-03-01 | JP2013181987A | 2013-09-12 | LIHL REINHARDT DR; RAINER WOGRITSCH; PLANK HEINZ |
| PROBLEM TO BE SOLVED: To provide light stimulus and a cryopreservation device of a biological sample.SOLUTION: In a device (1) which performs rapid high pressure freezing of a water-containing sample (3) such as a biological sample, a pressurized coolant can be supplied to the inside of a high pressure chamber (11) into which a holder (30) which accommodates the sample (3) is inserted, and which is sealed by a pressure-resistant sealing material, toward a position of a sample holder (30) held in it. The high pressure chamber (11) includes observation window structure (2) having a pressure-resistant window (20), and can orient light from the outside to the sample (3) inside the sample holder (30) through the observation window structure. The window (20) may include a transparent material element to be manufactured from the high pressure-resistant material, and a window element (20) is held by pressure-resistant and heat-resistant window support means installed in the high pressure chamber. | ||||||
| 50 | Advanced drug development and manufacturing | JP2009532446 | 2007-10-10 | JP5143841B2 | 2013-02-13 | バーンボーム，エバ・アール; コピシユ，アンドリユー・テイー; ボールドウイン，シヤロン・エム; ワーナー，ベンジヤミン・ピー; マクレスキー，マーク・テイー; バーガー，ジエニフアー・エイ; スチユアート，ジエフリー・ジエイ; ハリス，マイケル・エヌ; バレル，アンソニー・ケイ |
| 51 | Advanced drug development and manufacture | JP2012122988 | 2012-05-30 | JP2012230109A | 2012-11-22 | EVA R BIRNBAUM; ANDREW T KOPPISCH; SHARON M BALDWIN; BENJAMIN P WARNER; MARK MCCLESKEY T; JENNIFER A BERGER; JEFFREY J STEWART; MICHAEL N HARRIS; ANTHONY K BURRELL |
| PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an apparatus including a security system applicable to biometric analysis based on protein characteristic measurement by an X-ray fluorescence (XRF) spectrometer.SOLUTION: An X-ray fluorescence (XRF) spectrometer is used for detecting binding events between proteins and small molecules and measuring the binding selectivity between chemicals and receptors. The XRF may also be used for determining protein purity to estimate the therapeutic index of a chemical, for estimating the binding selectivity of a chemical versus chemical analogs to measure post-translational modifications of proteins, and for drug manufacturing, as well as for security systems. | ||||||
| 52 | X-ray microscopy and x-ray microscopic method | JP2008520103 | 2006-06-02 | JP4826632B2 | 2011-11-30 | 義弘 阿南; 雅成 高口 |
| 53 | Inspection system for inspecting an object at a wavelength ≦ 100nm | JP2004504243 | 2003-05-08 | JP4639352B2 | 2011-02-23 | ヴィルヘルム ウルリヒ，; トーマス エンゲル，; アクセル ジボルド，; ウド ディンガー，; ディーター パオシンガー，; ヴォルフガング ハルニッシュ，; マルコ ベドウスキー，; ハンス−ユルゲン マン，; ヴォルフガング ライネケ， |
| 54 | The method of observing the scanning x-ray microscope and scanning x-ray microscope image | JP2009018290 | 2009-01-29 | JP4565168B2 | 2010-10-20 | 俊彦 小椋 |
| 55 | X-RAY MICROSCOPE OF REFLECTOR TYPE AND INSPECTION SYSTEM WHICH INSPECT OBJECT ON WAVELENGTH ≤100 nm | JP2009255986 | 2009-11-09 | JP2010032542A | 2010-02-12 | MANN HANS-JUERGEN; DINGER UDO; ULRICH WILHELM; REINECKE WOLFGANG; ENGEL THOMAS; ZIBOLD AXEL; HARNISCH WOLFGANG; WEDOWSKI MARCO; PAUSCHINGER DIETER |
| <P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a microscope of a reflector type which makes it possible to inspect an object for microlithography and has a short entire length. <P>SOLUTION: In an X-ray microscope of a reflector type to inspect an object in an object plane, the object is illuminated with a light ray on a wavelength <100 nm, especially <30 nm, and an image is expanded and formed on an image plane. The microscope includes a first subsystem including first and second mirrors and located in an optical path from the object plane to the image plane. The X-ray microscope of the reflector type is characterized by including a second subsystem having a third mirror, situated downstream of the first subsystem in the optical path. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT | ||||||
| 56 | X-ray image magnifying device | JP2002080947 | 2002-03-22 | JP4220170B2 | 2009-02-04 | 昌 大庭; 忍 小野田; 優 杉山 |
| 57 | フレネルゾーンプレート及び該フレネルゾーンプレートを使用したＸ線顕微鏡 | JP2007514601 | 2006-04-18 | JPWO2006115114A1 | 2008-12-18 | 久満 遠藤 |
| 【課題】最外周の不透明帯の幅を小さくすることができない場合でも、分解能を向上させることができる複合照射機能をもつフレネルゾーンプレート及び該フレネルゾーンプレートを使用したX線顕微鏡を提供すること。【解決手段】本発明の複合照射機能をもつフレネルゾーンプレート1は、平板状の透明基板2上に、中心から半径方向に向けて同心円状に不透明帯3と透明帯4とを交互に配し、上面に垂直照射された平面波の一部が、散乱することなくフレネルゾーンプレート1の下方に配設された試料6にそのまま垂直入射するように、透過窓7を形成したものである。【選択図】図2 | ||||||
| 58 | X-ray target and apparatus using the same | JP2006512158 | 2005-04-08 | JP4189770B2 | 2008-12-03 | 仁平 原田; 建一 大嶋 |
| 59 | Reflective X-ray microscope and an inspection system for inspecting an object at a wavelength ≦ 100nm | JP2004504243 | 2003-05-08 | JP2005525565A | 2005-08-25 | ヴィルヘルム ウルリヒ，; トーマス エンゲル，; アクセル ジボルド，; ウド ディンガー，; ディーター パオシンガー，; ヴォルフガング ハルニッシュ，; マルコ ベドウスキー，; ハンス−ユルゲン マン，; ヴォルフガング ライネケ， |
| 本発明は、物体平面内での物体を検査する反射型Ｘ線顕微鏡において、物体は、波長＜１００ｎｍ、特に、＜３０ｎｍの光線で照明され、像平面に拡大して結像され、第１鏡と第２鏡とを含み、物体平面から像平面までの光路内に配置される第１副系とを備える。 本発明は、反射型Ｘ線顕微鏡が光路内で第１副系に後置されて少なくとも第３鏡を有する第２副系を含むことにより特徴付けられる。 | ||||||
| 60 | X-ray image magnifying device | JP2002080947 | 2002-03-22 | JP2003279693A | 2003-10-02 | OBA AKIRA; SUGIYAMA MASARU; ONODA SHINOBU |
| <P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an X-ray image magnifying device capable of changing an imaging magnification by using an oblique incidence mirror having no wavelength selectivity. <P>SOLUTION: This X-ray image magnifying device is characterized by being provided with an illumination optical system 3 for irradiating the X-ray emitted from an X-ray source to a sample 4, an objective lens 5 configurated by an oblique incidence mirror composed of a rotary hyperboloidal face and a rotary ellipsoidal face for magnifying and focusing the X-ray penetrating through the sample 4 onto a predetermined position, an X-ray image detecting means 6 for detecting the focused X-ray image, and a focusing magnification adjusting means for adjusting the focusing magnification of the X-ray image by axially moving at least one of the X-ray image detecting means 6, the sample 4 and the illumination optical system 3. Thereby, in the device using the oblique incidence mirror as the objective lens, the imaging magnification can be changed without exchanging the oblique incidence mirror in the X-ray image magnifying device. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO | ||||||
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