| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
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| 1 | 利用圆形光栅进行差分相衬成像 | CN201080013839.9 | 2010-03-15 | CN102365052B | 2015-05-13 | E·勒斯尔; T·克勒; G·马滕斯 |
| 本发明涉及X射线差分相衬成像系统，其具有三个圆形光栅。圆形光栅与辐射束的光轴对准，并且沿具有焦斑、相位光栅和/或吸收光栅的光轴执行相位偏移。测得的信号是远离光轴的径向方向上的相位梯度。 | ||||||
| 2 | 微细结构体检查方法、微细结构体检查装置 | CN200980109275.6 | 2009-03-19 | CN101978241B | 2013-05-29 | 米仓勋; 波木井秀充 |
| 一种微细结构体检查方法，用于检查样品微细结构图案的侧壁角度，其特征在于，具有：在多个SEM条件下拍摄所述样品微细结构图案的SEM照片的工序；测定所述SEM照片中的所述样品微细结构图案的边缘部位的白色带宽度的工序；基于所述白色带宽度随着所述多个SEM条件间的变化产生的变化量，计算出所述样品微细结构图案的侧壁角度的工序。 | ||||||
| 3 | X射线显微镜 | CN02828468.2 | 2002-03-05 | CN1280835C | 2006-10-18 | 姆拉丁·阿布比奇罗维奇·库马科夫 |
| 一种X射线显微镜，包括扩展X射线源，以及用于放置测试物体3的装置以及记录装置，且它们之间设置了X射线毛细透镜。后者的通道向记录装置发散。用于放置测试物体的装置被设置于扩展X射线源和X射线毛细透镜的较小端侧之间。该装置的特点是用于辐射传输的通道(14，16)的壁具有涂层或者由吸收或散射X射线辐射的材料制成，并具有截锥或截棱锥的侧向表面形状，或者圆柱或棱柱的侧向表面形状。采用具体选择的材料，可以排除总外部反射的现象，同时通道的纵向轴的直线性确保它们用作准直器。因此，通道仅获取来自准确地位于其入口对面的测试物体3的片段的辐射。与已知装置相比，排除了总外部反射的以从零到临界角度θc的角度进入通道18的辐射获取。由此，分辨率完全由通道入口的降低尺寸的技术可能性确定。使用扩展X射线的能力允许充分降低曝光时间同时降低X射线管的功率。 | ||||||
| 4 | 极细小物体的高分辨率X射线成像 | CN98803984.2 | 1998-04-08 | CN1175430C | 2004-11-10 | 斯蒂芬·威廉·威尔金斯 |
| 一种用于X射线成像的样品室(10)，它包括形成一样品腔(12)的装置(11)，以及装在该装置上的可被合适的入射束(5)激发产生X射线辐射(6)的物质体(20)，该样品室如此设置，使得在使用时，至少一部分所述X射线辐射穿过所述样品腔(12)而照射到其中的样品(7)，然后穿出所述装置接受探测(35)。 | ||||||
| 5 | X射线源 | CN86105121 | 1986-08-21 | CN1008671B | 1990-07-04 | 副岛启义 |
| 本发明把大量微孔的管捆成端面为平面的一块平板，把X射线靶子紧贴在平板的一个端面上，并用电子束照射贴有X射线靶的端面，使X射线靶产生的X射线从平板的另一端面发射出来；平板的另一端吸收电子，但几乎不吸收X射线靶发出的X射线。 | ||||||
| 6 | 掩模检测系统的照明光学单元和具有这种照明光学单元的掩模检测系统 | CN201480013545.4 | 2014-02-28 | CN105190777A | 2015-12-23 | M.德冈瑟; T.科布 |
| 一种掩模检测系统的照明光学单元(1)，用于EUV光(2)下。照明光学单元(1)的中空波导(9)用于引导照明光(2)。中空波导(9)具有照明光(2)的入射开口(7)和照明光(2)的出射开口(10)。成像反射镜光学单元(11)设置在中空波导(9)的下游，用于将出射开口(10)成像于照明场(4)中。这导致通量针对EUV照明光优化的照明光学单元。 | ||||||
| 7 | 傅立叶重叠关联成像系统、设备和方法 | CN201380068831.6 | 2013-10-28 | CN104885187A | 2015-09-02 | 郑国安; 杨昌辉; 罗克·霍斯特迈耶 |
| 傅立叶重叠关联成像设备包括用于从多个入射角度向样本提供照射的可变照射器；用于过滤从样本发出的照射的光学元件；用于基于由所述光学元件过滤的光获得所述样本的多个经变化照射的、低分辨率强度图像的检测器；以及通过用所述经变化照射的、低分辨率强度图像迭代更新傅立叶空间中的重叠区域来以计算方式重构样本的高分辨率图像的处理器。 | ||||||
| 8 | 利用圆形光栅进行差分相衬成像 | CN201080013839.9 | 2010-03-15 | CN102365052A | 2012-02-29 | E·勒斯尔; T·克勒; G·马滕斯 |
| 本发明涉及X射线差分相衬成像系统，其具有三个圆形光栅。圆形光栅与辐射束的光轴对准，并且沿具有焦斑、相位光栅和/或吸收光栅的光轴执行相位偏移。测得的信号是远离光轴的径向方向上的相位梯度。 | ||||||
| 9 | 包含具有双峰粒度分布的超吸收材料的合成物及其制造方法 | CN02818998.1 | 2002-06-03 | CN1275654C | 2006-09-20 | M·J·尼迈尔; R·N·多奇二世; S·朗加纳坦 |
| 一种含有超吸收材料的吸收合成物，超吸收材料为具有双峰粒度分布的超吸收颗粒的形式。在吸收物结构中使用具有双峰粒度分布的超吸收材料导致吸收合成物的增强的流体分布和流体吸入。该吸收制品可使用在成一次性个人护理制品。 | ||||||
| 10 | X射线显微镜 | CN02828468.2 | 2002-03-05 | CN1623209A | 2005-06-01 | 姆拉丁·阿布比奇罗维奇·库马科夫 |
| 一种X射线显微镜，包括扩展X射线源，以及用于放置测试物体3的装置以及记录装置，且它们之间设置了X射线毛细透镜。后者的通道向记录装置发散。用于放置测试物体的装置被设置于扩展X射线源和X射线毛细透镜的较小端侧之间。该装置的特点是用于辐射传输的通道(14，16)的壁具有涂层或者由吸收或散射X射线辐射的材料制成，并具有截锥或截棱锥的侧向表面形状，或者圆柱或棱柱的侧向表面形状。采用具体选择的材料，可以排除总外部反射的现象，同时通道的纵向轴的直线性确保它们用作准直器。因此，通道仅获取来自准确地位于其入口对面的测试物体3的片段的辐射。与已知装置相比，排除了总外部反射的以从零到临界角度θc的角度进入通道18的辐射获取。由此，分辨率完全由通道入口的降低尺寸的技术可能性确定。使用扩展X射线的能力允许充分降低曝光时间同时降低X射线管的功率。 | ||||||
| 11 | 极细小物体的高分辨率X射线成像 | CN98803984.2 | 1998-04-08 | CN1252158A | 2000-05-03 | 斯蒂芬·威廉·威尔金斯 |
| 一种用于X射线成像的样品室(10),它包括形成一样品腔(12)的装置(11),以及装在该装置上的可被合适的入射束(5)激发产生X射线辐射(6)的物质体(20),该样品室如此设置,使得在使用时,至少一部分所述X射线辐射穿过所述样品腔(12)而照射到其中的样品(7),然后穿出所述装置接受探测(35)。 | ||||||
| 12 | 多能量X射线显微镜数据采集及图像重建系统及方法 | CN201480008362.3 | 2014-01-15 | CN104995690B | 2017-11-17 | 托马斯·A·凯斯; 苏珊·坎德尔; 斯里瓦特桑·瑟哈德里; 保罗·麦吉尼斯 |
| 一种多能量，如双能量(DE)，X射线成像系统数据采集和图像重建系统和方法可最优化样本的图像对比度。使用该DE X射线成像系统及其相关用户界面应用程序，操作者可对利用相同量的样品进行低能(LE)和高能(HE)X射线扫描。该系统通过低能投影创建低能重建断层体数据集，并通过高能投影创建高能重建断层体数据集。这使得操作者可控制被选择片的图像对比度，并将与所述最优化该被选择片的对比度的相关信息应用到断层体数据集的所有片中。这创建了来自LE和HE体数据集的组合体数据集。 | ||||||
| 13 | 多能量X射线显微镜数据采集及图像重建系统及方法 | CN201480008362.3 | 2014-01-15 | CN104995690A | 2015-10-21 | 托马斯·A·凯斯; 苏珊·坎德尔; 斯里瓦特桑·瑟哈德里; 保罗·麦吉尼斯 |
| 一种多能量，如双能量(DE)，X射线成像系统数据采集和图像重建系统和方法可最优化样本的图像对比度。使用该DE X射线成像系统及其相关用户界面应用程序，操作者可对利用相同量的样品进行低能(LE)和高能(HE)X射线扫描。该系统通过低能投影创建低能重建断层体数据集，并通过高能投影创建高能重建断层体数据集。这使得操作者可控制被选择片的图像对比度，并将与所述最优化该被选择片的对比度的相关信息应用到断层体数据集的所有片中。这创建了来自LE和HE体数据集的组合体数据集。 | ||||||
| 14 | EUV掩模检验系统的光学器件的波前像差度量 | CN201380052647.2 | 2013-08-28 | CN104755909A | 2015-07-01 | 张强; 刘燕维; 阿卜杜勒拉赫曼(阿波)·塞兹吉内尔 |
| 本发明揭示一种用于测量极紫外光EUV检验系统的波前像差的测试结构。所述测试结构包含：衬底，其由对EUV光实质上无反射性的材料形成；及多层ML堆叠部分(例如柱)，其形成于所述衬底上且包括具有不同折射率以反射EUV光的多个交替层对。所述对具有等于或小于15的计数。 | ||||||
| 15 | 用于X射线的源光栅、用于X射线相衬图像的成像装置和X射线计算层析成像系统 | CN200980112851.2 | 2009-04-13 | CN102047344B | 2013-11-06 | 伊藤英之助; 市村好克; 中村高士; 今田彩 |
| 提供用于X射线等的源光栅，所述用于X射线等的源光栅可增强空间相干性并且被用于X射线相衬成像。用于X射线的源光栅被放置在X射线源和被检对象之间，并被用于X射线相衬成像。用于X射线的源光栅包含由以恒定的间隔(A′)周期性地布置的突出部分形成的多个子光栅(130、120)，所述突出部分各自具有屏蔽X射线(110)的厚度(140)。通过使多个子光栅进行偏移(1/2A′)来多层地层叠所述多个子光栅。 | ||||||
| 16 | 采用点聚焦、弯曲单色光学器件的X射线成像系统 | CN200680036327.8 | 2006-07-31 | CN101356589B | 2013-02-27 | C·A·麦克唐纳; N·马伊; 陈泽武 |
| 一种X射线成像系统，包括具有至少一个将从X射线源300发出的X射线引向焦点360的点聚焦、弯曲单色光学器件320的光学设备。该至少一个点聚焦、弯曲单色光学器件提供指向焦点的聚焦单色X射线束，并且探测器350与该聚焦单色X射线对准。当对象340置于聚焦单色X射线束范围内的光学设备和探测器之间时，该光学设备有助于进行对象的X射线成像。在各种实施例中：每个点聚焦、弯曲单色光学器件具有双弯曲的光学表面；该光学设备有助于根据对象和探测器相对于焦点的放置进行被动式的图像缩小或者放大；并且可采用至少一个第二点聚焦、弯曲单色光学器件以有助于进行对象的折射率或者偏振束成像。 | ||||||
| 17 | 用于X射线的源光栅、用于X射线相衬图像的成像装置和X射线计算层析成像系统 | CN200980112851.2 | 2009-04-13 | CN102047344A | 2011-05-04 | 伊藤英之助; 市村好克; 中村高士; 今田彩 |
| 提供用于X射线等的源光栅，所述用于X射线等的源光栅可增强空间相干性并且被用于X射线相衬成像。用于X射线的源光栅被放置在X射线源和被检对象之间，并被用于X射线相衬成像。用于X射线的源光栅包含由以恒定的间隔(A′)周期性地布置的突出部分形成的多个子光栅(130、120)，所述突出部分各自具有屏蔽X射线(110)的厚度(140)。通过使多个子光栅进行偏移(1/2A′)来多层地层叠所述多个子光栅。 | ||||||
| 18 | 试样夹持器组件 | CN200980117115.6 | 2009-03-16 | CN102027562A | 2011-04-20 | G·默布斯; G·魏; X·徐; J·J·王; R·盖; A·J·罗克伍德; B·因克森 |
| 一种适合于在透射电子显微镜中断层照相检验试样的试样夹持器组件(500)，包括：主体部分(501)，该主体部分(501)取细长构件的形式，所述细长构件安排成可移动地插入显微镜的支柱中；和操纵器部分，该操纵器部分具有第一轴线，操纵器部分包括：试样安装部分(510)，该试样安装部分(510)配置成支承试样；试样平移组件(530)，该试样平移组可操纵，以便相对于主体部分平移试样安装部分；和试样旋转组件(540)，该试样旋转组件(540)结合到主体部分和试样平移组件(530)上，试样旋转组件可操纵，以便绕第一轴线相对于主体部分旋转试样平移组件。 | ||||||
| 19 | 微细结构体检查方法、微细结构体检查装置和微细结构体检查程序 | CN200980109275.6 | 2009-03-19 | CN101978241A | 2011-02-16 | 米仓勋; 波木井秀充 |
| 一种微细结构体检查方法，用于检查样品微细结构图案的侧壁角度，其特征在于，具有：在多个SEM条件下拍摄所述样品微细结构图案的SEM照片的工序；测定所述SEM照片中的所述样品微细结构图案的边缘部位的白色带宽度的工序；基于所述白色带宽度随着所述多个SEM条件间的变化产生的变化量，计算出所述样品微细结构图案的侧壁角度的工序。 | ||||||
| 20 | 采用点聚焦、弯曲单色光学器件的X射线成像系统 | CN200680036327.8 | 2006-07-31 | CN101356589A | 2009-01-28 | C·A·麦克唐纳; N·马伊; 陈泽武 |
| 一种X射线成像系统，包括具有至少一个将从X射线源300发出的X射线引向焦点360的点聚焦、弯曲单色光学器件320的光学设备。该至少一个点聚焦、弯曲单色光学器件提供指向焦点的聚焦单色X射线束，并且探测器350与该聚焦单色X射线对准。当对象340置于聚焦单色X射线束范围内的光学设备和探测器之间时，该光学设备有助于进行对象的X射线成像。在各种实施例中：每个点聚焦、弯曲单色光学器件具有双弯曲的光学表面；该光学设备有助于根据对象和探测器相对于焦点的放置进行被动式的图像缩小或者放大；并且可采用至少一个第二点聚焦、弯曲单色光学器件以有助于进行对象的折射率或者偏振束成像。 | ||||||
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