| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
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| 21 | 包含具有双峰粒度分布的超吸收材料的合成物及其制造方法 | CN02818998.1 | 2002-06-03 | CN1558780A | 2004-12-29 | M·J·尼迈尔; R·N·多奇二世; S·朗加纳坦 |
| 一种含有超吸收材料的吸收合成物，超吸收材料为具有双峰粒度分布的超吸收颗粒的形式。在吸收物结构中使用具有双峰粒度分布的超吸收材料导致吸收合成物的增强的流体分布和流体吸入。该吸收制品可使用在成一次性个人护理制品。 | ||||||
| 22 | X射线源 | CN86105121 | 1986-08-21 | CN86105121A | 1987-02-18 | 副岛启义 |
| 本发明把大量微孔的管捆成端面为平面的一块平板，把X射线靶子紧贴在平板的一个端面上，并用电子束照射贴有X射线靶的端面，使X射线靶产生的X射线从平板的另一端面发射出来；平板的另一端吸收电子，但几乎不吸收X射线靶发出的X射线。 | ||||||
| 23 | ADVANCED DRUG DEVELOPMENT AND MANUFACTURING | PCT/US2007021888 | 2007-10-10 | WO2008127291A2 | 2008-10-23 | BIRNBAUM EVA R; KOPPISCH ANDREW T; BALDWIN SHARON M; WARNER BENJAMIN P; MCCLESKEY MARK T; BERGER JENNIFER A; STEWART JEFFREY J; HARRIS MICHAEL N; BURRELL ANTHONY K |
| X-ray fluorescence (XRF) spectrometry has been used for detecting binding events and measuring binding selectivities between chemicals and receptors. XRF may also be used for estimating the therapeutic index of a chemical, for estimating the binding selectivity of a chemical versus chemical analogs, for measuring post-translational modifications of proteins, and for drug manufacturing. | ||||||
| 24 | COMPOSITES COMPRISING SUPERABSORBENT MATERIALS HAVING A BIMODAL PARTICLE SIZE DISTRIBUTION AND METHODS OF MAKING THE SAME | PCT/US0217624 | 2002-06-03 | WO03030955A8 | 2004-06-24 | NIEMEYER MICHAEL JOHN; DODGE II RICHARD NORRIS; RANGANATHAN SRIDHAR |
| The present invention is directed to an absorbent composite containing superabsorbent material. The superabsorbent material is in the form of superabsorbent particles having a bimodal particle size distribution. Use of superabsorbent material having a bimodal particle size distribution in the absorbent structure results in enhanced fluid distribution and fluid intake of the absorbent composite. The absorbent composite of the present invention is useful in disposable personal care products. | ||||||
| 25 | X선 현미경 | KR20187007977 | 2016-09-23 | KR20180041224A | 2018-04-23 | MATSUYAMA SATOSHI; YAMADA JUMPEI |
| 경로길이를단축하여, 실내반입사이즈의 X선현미경을제공하기위해, X선원(1)과, 시료보유지지부(3)와, 오목면 KB 미러(4)와, 볼록면 KB 미러(5)와, 시료보유지지부(3)의위치와결상관계의위치에있는수광부(8)를, 광축을따라차례로, 적어도하나씩갖는 X선현미경을제작한다. | ||||||
| 26 | 임의의 입사각에서의 코히어런트 회절 영상 | KR1020177008361 | 2015-08-28 | KR1020170082505A | 2017-07-14 | 장,보셩; 시버그,매튜,디.; 아담스,다니엘,이.; KAPTEYN,Henry,C.; 머네인,마가렛,엠. |
| 입사조명(20, 21)의임의의각도(17)에서의코히어런트회절영상을위한장치및 방법은검출기픽셀어레이(초기그리드)(27)로부터, 재매핑된패턴상에서의 FFT를가능하게하도록선택되는균일한공간주파수그리드(최종그리드(202)로검출된회절강도패턴(212)을고속매핑하는방법을이용한다. 이는공간주파수에서선형인최종그리드를생성하도록선택된중간그리드에초기그리드를재매핑함으로써달성된다. 초기그리드는최종그리드에대응하도록계산된중간그리드로재매핑(일반적으로보간법에의해)된다. 일반적으로, 초기그리드(x,y)는공간적으로균일하고, 중간그리드는공간주파수가비균일하며, 최종그리드는공간주파수가균일하다. | ||||||
| 27 | 리소그래피 마스크의 3D 에어리얼 이미지를 3차원으로 측정하는 방법 | KR1020177004990 | 2015-07-21 | KR1020170039215A | 2017-04-10 | 마테이카,율리히; 허스만,크리스토프; 루오프,요하네스; 펠리츠,사샤; 만,한스-위르겐 |
| 오브젝트평면(4)에배열된리소그래피마스크(5)의이미징동안이미지평면주변의영역의 3D 에어리얼이미지를 3차원으로측정하는방법에서, 상호수직방향(x, y)으로선택가능한이미징스케일비가고려된다. 이러한목적으로, 이미징광(1)의전자기파면은리소그래피마스크(5)와의상호작용후에복원된다. 이미징스케일비에상응하는영향변수가포함된다. 최종적으로, 영향변수의포함에의해측정된 3D 에어리얼이미지가출력된다. 이것은투영노광동안애너모픽투영광학유닛에의해사용되기에최적화된리소그래피마스크가또한측정될수 있는측정방법을야기한다. | ||||||
| 28 | 미세 구조체 검사 방법, 미세 구조체 검사 장치, 및 미세 구조체 검사 프로그램 기록 매체 | KR1020107020751 | 2009-03-19 | KR101137045B1 | 2012-04-19 | 요네꾸라,이사오; 하끼이,히데미쯔 |
| 샘플 미세 구조 패턴의 측벽 각도를 검사하는 미세 구조체 검사 방법으로서, 복수의 SEM 조건 하에서 상기 샘플 미세 구조 패턴의 SEM 사진을 촬상하는 공정과, 상기 SEM 사진에서의 상기 샘플 미세 구조 패턴의 엣지 부위의 화이트 밴드 폭을 측정하는 공정과, 상기 복수의 SEM 조건간의 변화에 수반하는 상기 화이트 밴드 폭의 변화량에 기초하여, 상기 샘플 미세 구조 패턴의 측벽 각도를 산출하는 공정을 구비하는 것을 특징으로 하는 미세 구조체 검사 방법이다.
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| 29 | 주사광원 엑스선 현미경 시스템 | KR1020070008316 | 2007-01-26 | KR100849139B1 | 2008-07-31 | 김기호 |
| 본 발명은 엑스선 현미경 시스템 및 이를 이용한 관찰방법에 관한 것으로, 구체적으로 레이저빔을 발생시키는 레이저발생부; 레이저발생부에서 입사된 레이저빔의 출력각도를 시간의 흐름에 따라 소정 각도 변화시켜 출력하는 스캐닝부; 스캐닝부로부터 출력된 레이저빔을 레이저빔의 입사각도에 따라 정하여지는 초첨면 상의 한 지점에 집광시키는 레이저집광부; 레이저집광부로부터 출력된 레이저빔이 조사되는 경우 엑스선이 발생될 수 있도록 상기 레이저집광부의 초점면 상에 엑스선을 발생시키기 위한 소정의 엑스선발생타겟을 구비하는 엑스선발생부; 엑스선발생부에서 발생된 엑스선을 발생된 위치에 따라 초점면 상의 서로 다른 위치에 집광시키는 엑스선 집광부; 엑스선 집광부의 초첨면 상에 설치되며, 관찰하고자 하는 시료를 설치하기 위한 시료설치부; 시료설치부의 후단에 설치되며, 시료설치부에 설치된 시료에 집광되어 투과된 엑스선의 양을 전기적신호로 변환하는 엑스선측정부; 시간의 흐름에 따라 엑스선측정부에서 측정된 전기적신호를 공간적 신호로 변환하는 엑스선이미지형성부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 엑스선현미경시스템 및 이를 이용한 관찰방법에 관한 것이다. 본 발명에 따르면, 엑스선을 감지할 수 있는 고가의 2차원CCD 장비와 초정밀 운동 기구가 필요 없고, 장비의 크기가 소형화될 수 있는 장점이 있다 | ||||||
| 30 | 엑스선 현미경 | KR1020047009298 | 2002-03-05 | KR100689308B1 | 2007-03-26 | 무라딘아부베케로비츠쿠마크호브 |
| X-ray microscope comprise extended X-ray source, as well as means for placement of test object 3 and recording means, and located between them X-ray capillary lens. Channels of the latter are diverging towards recording means. Means for placement of the test object is located between extended X-ray source and lesser end side of the X-ray capillary lens. The device is characterized in that the walls of the channels ( 14, 16 ) for radiation transmission have a coating or are made of material absorbing or scattering X-ray radiation, and have lateral surface shape of truncated cone or pyramid, or that of cylinder or prism. With specified choice of the material, phenomenon of total external reflection is excluded, while rectilinearity of longitudinal axes of the channels ensures their functioning as collimators. Therefore, channels capture radiation only from the fragments of the test object 3 situated exactly opposite their entrances. As compared with known device, possibility is excluded of radiation capture entering channel 18 at angles from zero to critical angle theta<SUB>c </SUB>of total external reflection. Due to this, resolution is fully determined by technological possibilities of decreasing dimension of the channel entrance. The ability of using extended X-ray source allows to reduce substantially time of exposure with simultaneous decrease in the X-ray tube power. | ||||||
| 31 | 극소형 대상물의 고 분해능 Ｘ-ray 이미징 | KR1019997009281 | 1998-04-08 | KR100606490B1 | 2006-07-31 | 윌킨스스티븐윌리엄 |
| X-ray 이미징에 사용되는 시료 셀(10)은, 시료(12)용 챔버를 형성하는 구조체(11) 및, 상기 구조체에 장착된 X-ray 방사선(6)을 발생시키는 적절한 입사빔(5)에 의해 여기가능한 물질체(20)를 포함하고, 이 셀은 사용시에 X-ray 방사선의 적어도 일부가 내부의 시료(7)를 조사하기 위하여 상기 챔버(12)를 가로지른 후, 검출(35)을 위해서 상기 구조를 빠져나가도록 배치된다. | ||||||
| 32 | 검사 장치, 검사 방법 및 제조 방법 | KR20187004493 | 2016-08-01 | KR20180030163A | 2018-03-21 | QUINTANILHA RICHARD |
| 제품구조체(407, 330')는결함(360-366)을가지고형성된다. 적어도부분간섭성인 EUV 방사선의스폿(S)이제품구조체(604) 상에제공되어상기제품구조체에의해산란된후에방사선에의해형성되는적어도하나의회절패턴(606)을캡쳐한다. 레퍼런스데이터(612)는공칭제품구조체를기술한다. 제품구조체의적어도하나의합성이미지(616)가캡쳐된이미지데이터로부터계산된다. 합성이미지로부터의데이터가레퍼런스데이터와비교되어제품구조체내의결함(660-666)을식별한다. 일실시예에서, 복수개의회절패턴이직렬중첩스폿(S(1)-S(N))을사용하여획득되고, 합성이미지는회절패턴및 상대변위에대한지식을사용하여계산된다. EUV 방사선은관심대상구조체의치수에가까운, 5 내지 50 nm의범위에속하는파장을가질수 있다. | ||||||
| 33 | 반도체 X-선 검출기 | KR1020177026648 | 2015-04-07 | KR1020170141196A | 2017-12-22 | 카오,페이얀; 리유,위룬 |
| X-선을검출하는데적합한장치가개시되며, 이러한장치는, 전극을포함하는 X-선흡수층(110); 그리고전자기기층(120)을포함하고, 여기서전자기기층(120)은, 제 1 표면(124) 및제 2 표면(128)을갖는기판(122); 기판(122) 내에혹은기판(122) 상에있는전자기기시스템(121); 제 1 표면(124) 상에있는전기적접촉부(125); 비아(126); 그리고제 2 표면(128) 상에있는재배선층(RDL)(123)을포함하고, RDL(123)은전송라인(127)을포함하고, 비아(126)는제 1 표면(124)으로부터제 2 표면(128)으로연장되고, 전극은전기적접촉부(125)에전기적으로연결되고, 전자기기시스템(121)은비아(126)를통해전기적접촉부(125) 및전송라인(127)에전기적으로연결된다. | ||||||
| 34 | 가변형 핀홀 콜리메이터 장치 및 이를 이용한 방사선 영상 장치 및 방사능 감지 장치 | KR1020150061557 | 2015-04-30 | KR101684780B1 | 2016-12-08 | 이학재; 배승빈; 이기성 |
| 본발명은가변형핀홀콜리메이터장치및 이를이용한방사선영상장치및 방사능감지장치에관한것이다. 본발명에따른가변형핀홀콜리메이터는각각의판면에상호상이한직경을갖는복수의관통홀이형성되고, 방사선의입사방향으로적층된복수의핀홀플레이트와; 각각의상기핀홀플레이트에형성된복수의상기관통홀중 하나씩이중첩영역에선택적으로위치하도록각각의상기핀홀플레이트를이동시켜상기중첩영역에핀홀을형성하는복수의구동모듈을포함하는것을특징으로한다. 이에따라, 감마카메라나단일광자방출전산화단층촬영장치와같은방사선영상장치에적용되는핀홀콜리메이터의화각이나홀 직경과같은핀홀콜리메이터의특성의변화가능하면서도, 보다얇은두께로구현이가능하게된다. | ||||||
| 35 | 가변형 핀홀 콜리메이터 장치 및 이를 이용한 방사선 영상 장치 및 방사능 감지 장치 | KR1020150061557 | 2015-04-30 | KR1020160129421A | 2016-11-09 | 이학재; 배승빈; 이기성 |
| 본발명은가변형핀홀콜리메이터장치및 이를이용한방사선영상장치및 방사능감지장치에관한것이다. 본발명에따른가변형핀홀콜리메이터는각각의판면에상호상이한직경을갖는복수의관통홀이형성되고, 방사선의입사방향으로적층된복수의핀홀플레이트와; 각각의상기핀홀플레이트에형성된복수의상기관통홀중 하나씩이중첩영역에선택적으로위치하도록각각의상기핀홀플레이트를이동시켜상기중첩영역에핀홀을형성하는복수의구동모듈을포함하는것을특징으로한다. 이에따라, 감마카메라나단일광자방출전산화단층촬영장치와같은방사선영상장치에적용되는핀홀콜리메이터의화각이나홀 직경과같은핀홀콜리메이터의특성의변화가능하면서도, 보다얇은두께로구현이가능하게된다. | ||||||
| 36 | 고배율 현미경의 팁 고정장치 | KR1020140013236 | 2014-02-05 | KR1020150092636A | 2015-08-13 | 김영헌; 김주황; 안상정 |
| 본 발명은 고배율 현미경의 팁 고정장치에 관한 것으로, 고배율 현미경에서 전자 방출원으로 사용되는 팁이 안착되는 팁홀더, 상기 팁홀더에 안착되는 팁을 덮는 커버, 및 상기 커버를 상기 팁홀더에 고정시키는 고정수단을 포함하여, 피검사체인 고배율 현미경의 팁을 견고하게 고정시킴으로써 팁을 움직여가면서 다양한 각도에서 관찰할 수 있게 된다.
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| 37 | X선 거울을 이용한 3차원 X선 현미경 및 X선 거울의 제조방법 | KR1020100116733 | 2010-11-23 | KR101031675B1 | 2011-04-29 | 전인수 |
| PURPOSE: A three dimensional X-ray microscope using an X-ray mirror and a method for manufacturing the X-ray mirror are provided to obtain high clearance tomographic image and precisely reform the three dimensional shape of a sample. CONSTITUTION: A source(115) generates X-ray. Parallel X-ray with single wavelength is extracted. A filtering unit(145) filters the parallel X-ray with the single wavelength transmitted through a measuring target. Elastic scattering is eliminated. A thin film scintillator(160) filtered parallel X-ray into visible ray. A reflector mirror(170) reflects the visible ray. An image detector(180) records the visible ray reflected by the reflector mirror. | ||||||
| 38 | 엑스선 현미경 | KR1020047009298 | 2002-03-05 | KR1020040061039A | 2004-07-06 | 무라딘아부베케로비츠쿠마크호브 |
| 엑스선 현미경은, 확대된 엑스선 소스(extended X-ray source)(1), 실험 물체(3)가 위치하는 매체(4) 및 기록 매체(8), 상기 둘 사이에 위치하며 기록 매체(8) 쪽으로 발산하는 방사(radiation)를 전달하기 위한 채널을 가진 엑스선 모세관 렌즈(capillary lens)(7), 확대된 방사 소스(1)와 엑스선 모세관 렌즈(7)의 더 적은 끝편(lesser end side)(5) 사이에 설치된 실험 물체를 위치시키기 위한 매체(4) 로 구성된다. 상기 장치는, 엑스선 모세관 렌즈(1)의 방사 전달(radiation transmission)을 위한 채널들(channels)(14, 16)의 벽이, 총 외부 반사(total external reflection)의 현상을 배체하기 위해 코팅이 되어있거나, 엑스선 방사를 흡수하거나 흩어지게하는 물질로 이루어지며, 절단된 원추(truncated cone) 또는 피라미드(pyramid) 또는 실린더(cylinder) 또는 프리즘(prism)의 바깥 표면 형태를 가지는 것을 특징으로 한다. 특정된 물질을 선택함으로써, 총 외부 반사의 현상이 배제되며, 채널의 경도 축(longitudinal axes)이 직선(rectilinearity)이므로 분광기(collimators)로서 기능하는 것이 보장된다. 따라서, 채널들(channels)은 채널의 입구 정확히 반대편에 위치한 실험 물체 3의 단편으로부터 오는 방사(radiation)를 잡는다(capture). 공지된 장치와 비교할 때, 총 외부 반사의 0 에서 임계각 θ c 까지의 각으로 채널 18을들어오는 방사 캡쳐(radiation capture)의 가능성이 배제된다. 이로 인해, 해상도는 완전히 채널 입구의 면적을 감소시키는 기술적 가능성에 의해 정해진다. 확대된 엑스선 소스(extended X-ray source)를 사용할 수 있음은, 엑스선 튜브 출력(X-ray tube power)의 감소를 수반하여, 실질적으로 노출 시간(exposure time)을 감소시키게 한다. | ||||||
| 39 | X線イメージングの統計的分析 | JP2017231516 | 2017-12-01 | JP2018116046A | 2018-07-26 | フラガー ウィルフレッド ケルシャム; キングストン アンドリュー マウリス; マイヤーズ グレン ロバート; パズィレシュ マーサ; ヴァルスロト トロン カーステン |
| 【課題】X線を用いて試料を分析する方法を提供する。 【解決手段】入力X線で前記試料を照射するステップと、前記照射に応答して前記試料から放出される出力X線の線束を検出するために検出器を用いるステップと、を備え、当該方法はさらに以下のステップを備える:前記試料の少なくとも部分のピクセル化されたイメージの集合を生成するように前記線束の少なくとも一部を妨害するために検出器を用いるステップ。各イメージの各画素について、蓄積された信号強度を求め、従って関連する信号強度の集合を生成するステップ。画素位置当たりの平均信号強度、分散を算出ステップ。画素当たりの平均X線格子エネルギーのマップを生成するために、これらの値を使用するステップ。 【選択図】図1B |
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| 40 | X線トモグラフィーのための配置 | JP2017196495 | 2017-10-10 | JP6359166B2 | 2018-07-18 | パベル ステヤスカル; マレク アンコヴスキー; トマース ヴィスタベール; アラン フランク デ ヨング; バート ブイス; ピエール,ブルーエ |
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