子分类：
| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
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| 121 | 专门用于胶印版的定位装置 | CN02828833.5 | 2002-04-26 | CN1625456A | 2005-06-08 | 巴特·沃廷 |
| 本发明涉及一种用来相对至少两个参考点(4a，4c)定位一个元件(2)的装置，其中所述装置作用在准备定位的元件(2)上的一个工作点上，并且包括一个连接在关于上述参考点(4a，4c)的固定铰接点(7)上的定位臂(5)，该定位臂包括两个互相铰接的部件(6a，6b)，这两个部件允许上述元件(2)向每个参考点(4a，4c)移动。本发明进一步涉及一种用于在预印刷设备的定位台(3)上定位至少一个胶印版的装置，包括在平行于定位台(3)的平面上将胶印版(2)移动到在定位台(3)上的至少一个参考点(4a)的部件(5)，所述部件(5)对位于定位台(3)上的胶印版(2)的支撑平面的工作点施加作用。 | ||||||
| 122 | 用于室温下低压微刻痕和毫微刻痕光刻的模板 | CN01820435.X | 2001-10-12 | CN1531668A | 2004-09-22 | 崔炳镇; S·V·斯里尼瓦桑; T·贝利; M·科尔伯恩; C·G·威尔森; J·埃克尔特 |
| 本发明公开刻痕光刻的模板、形成和使用该模板的方法，以及模板夹持器装置。一刻痕光刻模板可包括带有在本体表面上的多个下凹的本体。本体可以是对触发光基本透明的材料。多个下凹的至少一部分可形成具有特征尺寸约小于250nm的容貌。一模板可这样形成：获得基本上对于触发光透明的材料和在模板的表面上形成多个下凹。在某些实施例中，一模板还可包括至少一个对齐标志。在某些实施例中，一模板还可包括一间隙检测区域。一刻痕光刻模板可用来在衬底上的光致固化液体内形成一刻痕层。在使用过程中，模板可放置在一模板夹持器内。该模板夹持器可包括一带有构造成接纳模板的开口的本体、一支承板，以及连接到本体上的至少一个压电致动器。在使用中，压电致动器可构造成改变模板的物理尺寸。 | ||||||
| 123 | 掩模蒸镀方法及装置、掩模及其制造方法、显示板制造装置 | CN200310118794.3 | 2003-12-03 | CN1522098A | 2004-08-18 | 迹部光朗; 四谷真一 |
| 本发明提供一种掩模蒸镀方法及装置、掩模及其制造方法、显示板制造装置。本发明的掩模蒸镀方法包括由台架1的静电引力将成为被蒸镀对象的玻璃基板(20)吸引的工序；将被吸引的玻璃基板与蒸镀掩模(2)的位置进行对齐的工序；以及使成为蒸镀对象的电致发光元件的有机化合物蒸发、蒸镀在玻璃基板(20)上的工序。而且，根据情况使蒸镀掩模具有静电吸盘功能，以提高紧密接合性。 | ||||||
| 124 | 压印制版用的透明模板与衬底之间间隙和取向的高精度控测方法 | CN01815367.4 | 2001-08-01 | CN1454333A | 2003-11-05 | T·百利; B·J·周; M·科尔博恩; S·V·斯瑞尼瓦萨恩; C·G·威尔森; J·埃克德特 |
| 说明压印制版工艺中用的模板与衬底之间间隙和取向的高精度测量方法。这里提供的间隙和取向测量方法包括采用基于宽带光的测量技术。 | ||||||
| 125 | 用于支持平板曝光装置布线图的设备 | CN97111188.X | 1997-05-15 | CN1095095C | 2002-11-27 | 阿莱·索莱尔; 瑟格·查博尼尔 |
| 支持平板曝光装置布线图的设备，上述装置包含固定的水平支持结构。此设备包含由矩形框架和与其连成一体且适于承接布线图的玻璃所组成的布线图支持件、支持和提升支持件的适于使支持件在一给定平面内保持水平且适于产生支持件与支持结构之间基本上无磨擦的协同动作的装置、使支持结构暂时固定于支持件框架的可控装置、以及与支持结构连成一体以使支持件在水平平面内沿二个正交的方向相对于支持结构移动的位移装置。 | ||||||
| 126 | 具有微调游标的光掩模 | CN95102701.8 | 1995-03-20 | CN1074165C | 2001-10-31 | 黄俊 |
| 一种光掩模包括：一模区域和一限定模区域的划线区域；一用于测量自动图形套准的第一图形；一用于测量分步重复曝光系统的分辨率和聚焦的第二图形，其中第二图形包括由矩形方框构成的分辨率线条；一用于测量视觉图形套准的第三图形，其中，在划线之内限定一预定的区域，其中，第一，第二和第三图形形成在预定的区域内；第一图形为方框形图形，其投射在晶片的一位置，第二图形与第一图形相邻，第三图形包括多组，每组具有多个小方框图形；并且第一、第二和第三图形构成用于在半导体器件生产中测量各种特性的微调游标。本发明容易确保各种图形和微调游标所需的足够位置，并有效地利用划线，从而提高器件的集成度。 | ||||||
| 127 | 双面印刷电路板的曝光设备 | CN00124136.2 | 2000-07-07 | CN1280316A | 2001-01-17 | 吉勒斯·赫弗; 阿尔诺·勒伯谢 |
| 本发明涉及通过印板的双面印刷电路的曝光设备,它包括固定的第一印板支架(10),活动的第二印板支架(14),第二支架的垂直移动装置(26,28)和这些运动装置与第二支架的机械连接装置,第一和第二支架具有当它们处于工作位置时易配合的相对定位装置(12,24)。机械连接装置包括:与垂直移动装置(38,40,46,48)连接的第一水平连接面(42,44);与第二支架连接一体的第二个水平连接面(20,22);实现第一(42,44)和第二(20,22)水平连接面的基本无摩擦配合的支撑装置(50);第一和第二连接面的暂时连接可控装置(50)。 | ||||||
| 128 | 曝光用掩模以及采用该曝光用掩模的曝光方法 | CN99105560.8 | 1999-04-12 | CN1235351A | 1999-11-17 | 佐藤俊彦; 岩崎纯; 池上正克; 小林政美; 横山雅春 |
| 在面积很大的透光部5A内设置校准键(标记)6。通过这种方法,为了对准位置,即使将曝光用掩模4上下、左右移动,滑块条1的薄膜元件3均能恰当地进入上述透光部5A内,可以容易地将曝光用掩模4的透光部5A与滑块条1的薄膜元件3的位置对准。 | ||||||
| 129 | 通过布线图曝光双面印刷电路板的装置 | CN97111563.X | 1997-05-14 | CN1170149A | 1998-01-14 | 阿莱·索莱尔; 瑟格·查博尼尔 |
| 通过配备有位置记号的布线图曝光双面印刷电路板的装置,包括固定在水平面内的第一(10)和第二支持结构、布线图(12)的支持件、探测电路与支持件定位误差的光学装置、垂直于其平面将一个支持件移向另一个的装置、排列在支持件与电路组成单元之外的用来使电路相对于支持结构而保持固定在其平面内的装置(26、28)、以及根据探测到的定位误差而使上述第一支持件(12)相对于上述电路以及上述第二支持件相对于上述电路独立地移动的装置(20、22)。 | ||||||
| 130 | 微调游标 | CN95102701.8 | 1995-03-20 | CN1117652A | 1996-02-28 | 黄俊 |
| 在半导体器件的生产中，用于测量各种特性的微调游标。在该微调游标中，用于测量自动图形套准的第一图形，用于测量分辨率和聚焦的第二图形，及用于测量视觉图形套准的第三图形彼此靠拢在一起，以使在晶片划线范围内预定位置各自所占区域的尺寸减至最小。所以，容易确保各种图形和微调游标所需的足够位置，并有效地利用划线，从而提高器件的集成度。 | ||||||
| 131 | 曝光印相用原版的制作方法 | CN89102822.6 | 1989-04-24 | CN1038357A | 1989-12-27 | 田中裕; 工藤诚 |
| 一种曝光印相用原版的制作方法，当在由面向或紧贴在板状被曝光部件的两面上所形成的感光膜而进行配置的第1、第2原版所组成的一对原版上形成同轴的负图形之际，就第1原版而言从用光绘图器绘出的负图形形成正或负图形，并通过紧贴印相从此图形形成原版的负图形；同时就第2原版而言，使用正型干板从用光绘图器绘出的负图形直接形成原版的负图形。此方法可用于制造高析象度的彩色显象管用荫罩。 | ||||||
| 132 | 套准分色软片的方法和装置 | CN85107228 | 1985-09-27 | CN85107228A | 1986-10-01 | 蒙蒂·R·威尔逊; 维克托·E·哈奇森; 威廉·J·本杜尔; 弗雷德里克·W·安德森 |
| 对于彩色图片印刷中使用的半色调分色软片进行套准的一种方法和装置。在每一张分色软片的两个套准点上分别取一个数字图象，用算法处理分析这些数字图象(可以包含套准规线)用以计算出套准半色调图片细节(或套准规线)所必须的移动量。根据计算的结果，用冲头在每一张软片上冲出一对套准孔，这两个套准孔的位置将保证在最终的翻印再现过程中，只要套准孔对准地套在销上，各分色片就是套准的。 | ||||||
| 133 | 光刻系统 | CN201621353213.3 | 2016-12-09 | CN206584158U | 2017-10-24 | B·M·约翰斯通; J·怀特; T·莱帝克 |
| 本实用新型提供一种光刻系统。在一个实施方式中，一种光刻系统包括：卡盘，所述卡盘具有基板接收表面；处理单元，所述处理单元设置在所述卡盘上方；一个或多个通气口，所述一个或多个通气口设置在所述处理单元上方；气源，所述气源耦接到所述一个或多个通气口；以及排放端口，所述排放端口设置在所述卡盘下方。 | ||||||
| 134 | 曝光系统、校准系统和光学引擎 | CN201220230558.5 | 2012-05-21 | CN202615113U | 2012-12-19 | 梅文辉; 杜卫冲; 曲鲁杰 |
| 本实用新型公开了一种曝光系统、校准系统和光学引擎。该曝光系统包括：第一光学引擎；第二光学引擎；光源系统，用于对该第一光学引擎和该第二光学引擎提供曝光光束；第一分束装置，设置在该第一侧，用于对经过该第一光学引擎的入射光束以及对经过该第二光学引擎的入射光束进行分光；第一视觉系统，设置在该第一侧，该第一视觉系统接收经过该第一光学引擎并由该第一分束装置反射的第一光束，以及接收经过该第二光学引擎并由该第一分束装置反射的第二光束，以用于校准该第一光学引擎和该第二光学引擎的光轴。本实用新型的曝光系统、校准系统和光学引擎，能够校准各光学引擎的光轴，从而能够提高曝光质量。 | ||||||
| 135 | APPARATUS AND METHODS FOR COMPENSATION OF CARRIER DISTORTION FROM MEASUREMENT MACHINES | PCT/IB2011002153 | 2011-09-15 | WO2012035419A9 | 2012-05-18 | WAHLSTEN MIKAEL |
| 136 | INTERFEROMETRIC ANALYSIS FOR THE MANUFACTURE OF NANO-SCALE DEVICES | PCT/US2005042638 | 2005-11-21 | WO2007046820A3 | 2007-10-18 | NIMMAKAYALA PAWAN K; RAFFERTY TOM H; AGHILI ALIREZA; CHOI BYUNG-JIN; SCHUMAKER PHILIP D; BABBS DANIEL A; TRUSKETT VAN N |
| The present invention features a system and method to determine relative spatial parameters between two coordinate systems, which may be a mold and a region of a substrate in which mold is employed to generate a pattern. To that end, relative alignment between the two coordinate systems at multiple points is sensed to determine relative spatial parameters therebetween. The relative spatial parameters include a relative area and a relative shape. | ||||||
| 137 | METHOD AND SYSTEM TO CONTROL MOVEMENT OF A BODY FOR NANO-SCALE MANUFACTURING | PCT/US2005018862 | 2005-05-27 | WO2005119395A3 | 2007-03-08 | CHOI BYUNG-JIN; SREENIVASAN SIDLGATA V |
| The present invention is directed towards a method and system of controlling movement of a body coupled to an actuation system that features translating movement of the body in a plane extending by imparting angular motion in the actuation system with respect to two spaced-apart axes. Specifically, rotational motion is generated in two spaced-apart planes, one of which extending parallel to the plane in which the body translates. This facilitates proper orientation of body with respect to a surface spaced-apart therefrom. | ||||||
| 138 | IMPRINT LITHOGRAPHIC APPARATUS, DEVICE MANUFACTURING METHOD AND DEVICE MANUFACTURED THEREBY | PCT/IB2005002359 | 2005-06-30 | WO2006024908A2 | 2006-03-09 | TEN BERGE PETER |
| An imprint lithography apparatus comprising a template (34), a substrate table (31) and an alignment system. (35, 36, 37) arranged to align. the template (34) to a substrate alignment t mark (39; 39`) provided on a substrate (30). The substrate table (31) is arranged to support the substrate (30) having a first surface (32) to be imprinted andd a second surface (50) facing the substrate table (31). The apparatus is characterised in that the substrate alignment mark (39; 39') is provided on the second surface (50) of the substrate (30), and that the substrate table (31) further comprises a substrate table optical. system for allowing the substrate alignment mark (39; 39') to be viewed by the alignment system. (35. 36, 37). The invention further extends to a device manufacturing method and a device manufactured thereby. | ||||||
| 139 | APPARATUS AND METHOD FOR ALIGNING SURFACES | PCT/EP2004052656 | 2004-10-25 | WO2005040932A2 | 2005-05-06 | MONTELIUS LARS; BECK MARC; CARLBERG PATRICK; WAHLSTROEM CLAES-GOERAN; PERSSON ANDERS; ANDERSSON-ENGELS STEFAN |
| Method, apparatus and stamp for aligning a first surface (11) of a first object (10) with a second surface (22) of a second object (20), facing said first surface, wherein light of a predetermined wavelength is introduced into one (10) of said objects and caused to propagate by internal reflection therein. The first and second surfaces carry correlating structures (13,25) which, when arranged at close distance from each other, couple light from said one object to the other of said objects by near-field tunnelling, to a degree dependent on the overlap of said structures. A light detector (26) is devised to detect a signal which is dependent on the amount of light coupled between said objects, for producing an alignment control signal. The invention is suitable for use in nanoimprint lithography. | ||||||
| 140 | BINARY HALF TONE PHOTOMASKS AND MICROSCOPIC THREE-DIMENSIONAL DEVICES AND METHOD OF FABRICATING THE SAME | PCT/US2004001752 | 2004-01-22 | WO2004066358A3 | 2004-11-11 | PROGLER CHRISTOPHER J; RHYINS PETER |
| The present invention generally relates to improved binary half tone ("BHT") photomasks and microscopic three-dimensional structures (e.g., MEMS, micro-optics, photonics, micro-structures and other three-dimensional, microscopic devices) made from such BHT photomasks (See Fig. 13). More particularly, the present invention provides a method for designing a BHT photomask layout, transferring the layout to a BHT photomask and fabricating three-dimensional microscopic structures using the BHT photomask designed by the method of the present invention. In this regard, the method of designing a BHT photomask layout comprises the steps of generating at least two pixels, dividing each of the pixels into sub-pixels having a variable length in a first axis and fixed length in a second axis, and arraying the pixels to form a pattern for transmitting light through the pixels so as to form a continuous tone, aerial light image. The sub-pixels' area should be smaller than the minimum resolution of an optical system of an exposure tool with which the binary half tone photomask is intended to be used. By using this method, it is possible to design a BHT photomask to have continuous gray levels such that the change in light intensity between each gray level is both finite and linear. As a result, when this BHT photomask is used to make a three-dimensional microscopic structure, it is possible to produce a smoother and more linear profile on the object being made. | ||||||
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