子分类：
| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
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| 41 | 一种简易型自动台框结构 | CN201710114442.2 | 2017-02-28 | CN106647191A | 2017-05-10 | 刘闯; 黄玲玲 |
| 本发明公开了一种简易型自动台框结构，包括上框模组、下框模组、气缸开启模组、后钮座组，所述上框模组一侧面通过铰接连接下框模组，所述下框模组两侧均固定设置气缸开启模组，所述上框模组右侧固定设置后钮座组，所述上框模组包括上玻璃、玻璃保护框、玻璃固定块、CF轴承固定块，所述上玻璃周边设置玻璃保护框，所述上玻璃左边固定设置下玻璃固定块，所述下框模组包括下铝框、下玻璃、下玻璃固定条，所述下铝框上固定设置下玻璃，所述下玻璃周边固定设置下玻璃固定条。该一种简易型自动台框结构，设置气缸和凸轮机构，可以方便地对上框模组进行自动操作。 | ||||||
| 42 | 描绘装置、曝光描绘装置以及描绘方法 | CN201380074439.2 | 2013-11-25 | CN105143985B | 2017-04-26 | 菊池浩明 |
| 一种描绘装置。该描绘装置具备：取得部，取得表示作为在被曝光基板上设置的多个基准标记的设计上的位置的第一位置的坐标数据、表示在以所述第一位置作为基准而确定的所述被曝光基板上描绘的描绘图案的坐标数据以及表示作为所述多个基准标记各自的实际的位置的第二位置的坐标数据；导出部，根据所述第一位置以及所述第二位置来导出表示所述被曝光基板的歪斜的大小的物理量，并且针对所述多个基准标记的每个，导出针对所述第一位置以及所述第二位置的偏移的校正量；降低部，从由所述导出部导出的各个校正量中，降低所述物理量越大则越多的量；以及校正部，在以所述第二位置作为基准在所述被曝光基板上描绘所述描绘图案的情况下，根据由所述降低部降低的校正量来校正表示所述描绘图案的坐标数据。 | ||||||
| 43 | 一种自对准双层图形结构及其制备方法 | CN201611021575.7 | 2016-11-15 | CN106531722A | 2017-03-22 | 刘哲; 潘如豪; 杜硕; 李俊杰; 顾长志 |
| 本发明提供了一种自对准双层图形结构及其制备方法，属于二维微纳器件制造领域。该方法包括：提供一基底，分别在基底的上表面和下表面施加光刻胶，以形成第一和第二光刻胶层；按照预定图形用选定能量束对第一光刻胶层进行曝光，其中，能量束选择成能穿过基底，从而在对第一光刻胶层进行曝光的同时对第二光刻胶层进行曝光，以在第一和第二光刻胶层中形成形状一致且相互对准的光刻胶图形；在基底的上表面和下表面分别沉积材料；去除第一和第二光刻胶层，以获得与光刻胶图形对应的自对准双层图形结构。本发明还提供了一种自对准双层图形结构。本发明方案可以获得精确对准的双层图形，为双层甚至多层纳米尺寸图形的制备提供了一种新的技术。 | ||||||
| 44 | 基板处理装置、处理装置以及元件制造方法 | CN201380015932.7 | 2013-03-08 | CN104204956B | 2017-03-08 | 加藤正纪; 木内彻 |
| 基板处理装置具备：旋转圆筒部件(DR)，具有距规定的中心线(AX2)以固定半径弯曲的圆筒状的支承面，且沿基板的长度方向传送基板(P)；处理机构，在基板的一部分的特定位置(PA、EL2)处对基板实施规定的处理；刻度部件(SD)，具有刻度部(GP)，该刻度部(GP)与旋转圆筒部件一同绕中心线旋转，并被刻设为环状，以测量旋转圆筒部件的支承面的周向位置变化、或者旋转圆筒部件的中心线的方向的位置变化；和读取机构(EN1、EN2)，与刻度部相对，并且从中心线观察而配置在与特定位置大致相同方向，且读取刻度部。 | ||||||
| 45 | 曝光描绘装置及曝光描绘方法 | CN201380016803.X | 2013-02-22 | CN104204957B | 2016-08-10 | 鹤井弘则; 桥口昭浩 |
| 本发明提供能够防止由被曝光基板的端部的翘曲、浮起等引起的表面和背面的对位用的标记的品质降低的曝光描绘装置及曝光描绘方法。即，本发明的曝光描绘装置具备：台座(11)，载置被曝光基板；固定部(31a～31d)，从预先规定的第一位置移动到第二位置，在第二位置，将载置于台座的被曝光基板的端部夹持在该固定部与该台座之间而固定；描绘部，通过在端部被固定的状态下对被曝光基板的第一面进行曝光，在该第一面描绘预先规定的电路图案；及形成部(51)，与固定部的移动联动地移动，并在由该固定部固定了端部的状态下的被曝光基板的与第一面相向的第二面形成预先规定的标记。 | ||||||
| 46 | 描绘装置、曝光描绘装置、记录有程序的记录介质以及描绘方法 | CN201380074439.2 | 2013-11-25 | CN105143985A | 2015-12-09 | 菊池浩明 |
| 一种描绘装置。该描绘装置具备：取得部，取得表示作为在被曝光基板上设置的多个基准标记的设计上的位置的第一位置的坐标数据、表示在以所述第一位置作为基准而确定的所述被曝光基板上描绘的描绘图案的坐标数据以及表示作为所述多个基准标记各自的实际的位置的第二位置的坐标数据；导出部，根据所述第一位置以及所述第二位置来导出表示所述被曝光基板的歪斜的大小的物理量，并且针对所述多个基准标记的每个，导出针对所述第一位置以及所述第二位置的偏移的校正量；降低部，从由所述导出部导出的各个校正量中，降低所述物理量越大则越多的量；以及校正部，在以所述第二位置作为基准在所述被曝光基板上描绘所述描绘图案的情况下，根据由所述降低部降低的校正量来校正表示所述描绘图案的坐标数据。 | ||||||
| 47 | 基于图像处理的光刻系统和目标对象涂覆方法 | CN201410758476.1 | 2010-09-29 | CN104360583A | 2015-02-18 | 劝圣勋; 郑收恩; 李昇娥; 张志诚; 韩相权 |
| 本发明公开了一种基于图像处理的光刻系统和目标对象涂覆方法。根据本发明的一个实施方式，光刻系统包括：布置在基板上的至少一个目标对象；通过对至少一个目标对象执行图像处理来确定用于至少一个目标对象的涂覆层的光学图案的处理器；以及将具有由处理器确定的光学图案的光提供到基板的曝光装置。 | ||||||
| 48 | 光掩模与基材的对位方法以及布线电路板的制造方法 | CN201110102554.9 | 2011-04-21 | CN102236273B | 2015-01-07 | 村上巧丞; 有马明; 服部智洋; 宫崎修平 |
| 本发明提供一种光掩模与基材的对位方法及布线电路板的制造方法。曝光系统具有曝光机及图像处理装置。曝光机包括多个摄像机。摄像机构成为可选择地设定成全扫描模式及部分扫描模式。摄像机在全扫描模式下传输所得到的全部图像数据，在部分扫描模式下从所得到的图像数据中提取一部分进行传输。图像处理装置并行进行使用了从摄像机传输来的图像数据的处理和使用了从摄像机传输来的图像数据的处理。 | ||||||
| 49 | 准直方法、准直装置及曝光装置 | CN201080026619.X | 2010-06-08 | CN102460309B | 2014-03-26 | 岩本正实 |
| 本发明公开一种输送图案为矩阵状的基板，并对通过摄像机构以一定的时间间隔拍摄到的多个图像依次进行处理而检测受光元件的排列方向上的亮度变化的位置，在基板移动一定距离期间，将在相同位置检测到的亮度变化的次数进行累计，而得到多个边缘个数数据，根据超过了规定的阈值的多个边缘个数数据，来确定上述图案的与输送方向平行的多个长边的位置，运算该多个接近对的中点位置，从该接近对的中点位置中选择与预先设定于摄像机构的目标位置接近的中点位置，算出该中点位置与摄像机构的目标位置的位置偏差量，以该位置偏差量成为规定值的方式使光掩模沿着与基板的输送方向大致正交的方向移动。 | ||||||
| 50 | 纳米尺度器件的制造的干涉分析 | CN200580040751.5 | 2005-11-21 | CN101115971B | 2013-05-08 | P·K·林玛卡亚拉; T·H·拉弗蒂; A·阿格里; B-J·崔; P·D·苏马克; D·A·巴布斯; V·N·柴斯盖特 |
| 本发明的特征在于确定两坐标系之间的相对空间参数的系统和方法，这两个坐标系可以是模具和其中采用模具来生成图案的衬底。为此，感测两坐标系之间在多个点处的相对对准以确定它们之间间的相对空间参数。相对空间参数包括相对面积和相对形状。 | ||||||
| 51 | 曝光系统、校准系统、光学引擎、曝光方法和制造方法 | CN201210159451.0 | 2012-05-21 | CN102944978A | 2013-02-27 | 梅文辉; 杜卫冲; 曲鲁杰 |
| 本发明公开了一种曝光系统、校准系统、光学引擎、曝光方法和制造方法。该曝光系统包括：第一光学引擎；第二光学引擎；光源系统，用于对该第一光学引擎和该第二光学引擎提供曝光光束；第一分束装置，设置在该第一侧，用于对经过该第一光学引擎的入射光束以及对经过该第二光学引擎的入射光束进行分光；第一视觉系统，设置在该第一侧，该第一视觉系统接收经过该第一光学引擎并由该第一分束装置反射的第一光束，以及接收经过该第二光学引擎并由该第一分束装置反射的第二光束，以用于校准该第一光学引擎和该第二光学引擎的光轴。本发明实施例的曝光系统、校准系统、光学引擎、曝光方法和制造方法，能够校准各光学引擎的光轴，从而能够提高曝光质量。 | ||||||
| 52 | 基于图像处理的光刻系统和目标对象涂覆方法 | CN201080043931.X | 2010-09-29 | CN102668024A | 2012-09-12 | 劝圣勋; 郑收恩; 李昇娥; 张志诚; 韩相权 |
| 公开了一种用于光刻系统的技术。根据本发明的一个实施方式，光刻系统包括：布置在基板上的至少一个目标对象；通过对至少一个目标对象执行图像处理来确定用于至少一个目标对象的涂覆层的光学图案的处理器；以及将具有由处理器确定的光学图案的光提供到基板的曝光装置。 | ||||||
| 53 | 加工设备 | CN201080030124.4 | 2010-06-30 | CN102472986A | 2012-05-23 | 汉斯·奥普韦; 克劳斯·云格尔 |
| 为了在板状物体的加工设备中，以如下方式对该加工设备进行改进，即：使板状物体相对于载物台的位置能得到精确确定，其中，所述加工设备具有曝光装置和载物台，所述载物台具有用于容纳物体的载物台面，其中，曝光装置能相对于载物台彼此相对运动，所提出的是：设置有包括至少一个边沿照明单元的边沿检测装置，该边沿照明单元在至少一部分物体边沿区域内具有照明区，在该照明区的内部，处于各自物体边沿区域内的物体边沿被从载物台的侧面呈面状发射的光加以照亮；以及与载物台面相距地，在物体的与载物台相对置的侧上，设置有至少一个边沿图像检测单元，该边沿图像检测单元将物体边沿的处于照明区内的边沿段作为边沿图像成像到图像面上；以及利用至少一个边沿图像检测单元可以位置精确地相对于载物台检测各边沿图像。 | ||||||
| 54 | 准直方法、准直装置及曝光装置 | CN201080026619.X | 2010-06-08 | CN102460309A | 2012-05-16 | 岩本正实 |
| 本发明公开一种输送图案为矩阵状的基板，并对通过摄像机构以一定的时间间隔拍摄到的多个图像依次进行处理而检测受光元件的排列方向上的亮度变化的位置，在基板移动一定距离期间，将在相同位置检测到的亮度变化的次数进行累计，而得到多个边缘个数数据，根据超过了规定的阈值的多个边缘个数数据，来确定上述图案的与输送方向平行的多个长边的位置，运算该多个接近对的中点位置，从该接近对的中点位置中选择与预先设定于摄像机构的目标位置接近的中点位置，算出该中点位置与摄像机构的目标位置的位置偏差量，以该位置偏差量成为规定值的方式使光掩模沿着与基板的输送方向大致正交的方向移动。 | ||||||
| 55 | 光掩模与基材的对位方法以及布线电路板的制造方法 | CN201110102554.9 | 2011-04-21 | CN102236273A | 2011-11-09 | 村上巧丞; 有马明; 服部智洋; 宫崎修平 |
| 本发明提供一种光掩模与基材的对位方法及布线电路板的制造方法。曝光系统具有曝光机及图像处理装置。曝光机包括多个摄像机。摄像机构成为可选择地设定成全扫描模式及部分扫描模式。摄像机在全扫描模式下传输所得到的全部图像数据，在部分扫描模式下从所得到的图像数据中提取一部分进行传输。图像处理装置并行进行使用了从摄像机传输来的图像数据的处理和使用了从摄像机传输来的图像数据的处理。 | ||||||
| 56 | 工作台及其自动安装垫片的方法 | CN200910149168.8 | 2009-06-10 | CN101794077A | 2010-08-04 | 莱昂内尔·弗尔伍德; 格瑞格·巴克斯特; 约韩·H·哈特; 拉贾·D·辛格 |
| 本发明涉及带可调垫片的工作台及其自动安装垫片的方法。该工作台包括：一个上表面；位于所述上表面之下、沿该工作台内边缘设置的一组可调垫片；其中，所述可调垫片可升高或降低至一个所需高度，以补偿尺寸和厚度不同的各种基板。该方法包括：在工作台的上表面之下提供一组电动垫片；基于基板的尺寸和厚度升高或降低所述电动垫片。该工作台和该方法可克服以往人工安装垫片的缺陷，极大地提高了PCB的生产效率。 | ||||||
| 57 | 利用平台式机床在扁平基片上印刷图案层的方法和设备 | CN200480036568.3 | 2004-12-07 | CN100553971C | 2009-10-28 | J·A·查普曼 |
| 一种印刷图案层的方法包括(图4中的步骤31)利用其上面的对准标记来检测在印刷机(参见图5)的机床上的子台上支撑的底板的位置和对准。根据所检测的样品玻璃的区域的对准和位置以及底板的位置和对准(图4中的步骤32)，调整子台的位置。然后，对底板上墨(参见图4的步骤33)。作为选择，步骤32和33(顺序)可以颠倒。将墨水从印刷机子台上支撑的底板传送(图4中的步骤34)到(滚筒)毯16(参见图2(b))。毯16上的材料被传送(步骤35，图4)到样品玻璃上(如图2(c)中)。新颖的印刷机床(41，图5)包括可单独在公共平面上对准的子台(图5中的42-45)的阵列。 | ||||||
| 58 | 间隙测量方法、压印方法和压印设备 | CN200780019866.5 | 2007-05-30 | CN101454636A | 2009-06-10 | 末平信人; 关淳一; 古川幸生; 稻秀树 |
| 一种用于通过如下方式来测量两个部件之间的间隙的间隙测量方法，其中，利用来自一个部件侧的光来照射被布置为彼此相对的所述两个部件，以获得关于来自另一部件侧的反射光或透射光的强度的谱数据；通过将获得的谱数据与数据库进行比较来确定第一部件与第二部件之间的间隙，其中，在所述数据库中，间隙长度与强度谱彼此关联。该间隙测量方法用于在压印方法和用于纳米压印的设备中控制模子与基底之间的间隙。 | ||||||
| 59 | 激光直描装置以及描画方法 | CN200810210444.2 | 2008-08-15 | CN101382740A | 2009-03-11 | 内藤芳达; 铃木光弘; 加藤友嗣 |
| 本发明提供一种不管感光材料的种类如何都能够高精度地决定背面侧相对于表面侧的位置的激光直描装置以及描画方法。本发明的激光直描装置，使激光束(5a)偏向主扫描方向(X轴方向)的同时使载置于工作台(12)上的被描画体(10)向副扫描方向(Y轴方向)移动而将图形描画到被描画体(10)的表面上，以前端从工作台(12)的表面仅突出预定的距离(g)的方式将中空销(20)配置在工作台(12)上，通过使被描画体(10)吸附在工作台(12)上而在被描画体(10)的背面上形成有底的凹部(中空销20的前端轨迹)。并且在背面上描画图形时以凹部为基准进行描画。 | ||||||
| 60 | 图像记录装置和图像记录方法 | CN200580032276.7 | 2005-09-29 | CN101027612A | 2007-08-29 | 奥津浩一 |
| 本发明披露了一种在供应卷筒和收起卷筒之间伸展的带状柔性基片的图像形成区域上记录图像的图像记录装置，该图像记录装置包括：台部分，该台部分被构造以吸附柔性基片，并能够沿着预定传送路径移动；对齐部分，该对齐部分布置在台部分的传送路径上方，并检测至少柔性基片的对齐标记；校正部分，该校正部分根据对齐部分检测的对齐标记，校正将被记录在柔性基片的图像形成区域上的图像数据；和记录部分，该记录部分被布置在台部分的传送路径上方并在对齐部分在柔性基片的传送方向上的下游侧，该记录部分将校正的图像数据记录在柔性基片的图像形成区域上。 | ||||||
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