子分类：
| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
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| 61 | 散射对齐法在平版压印中的应用 | CN03822456.9 | 2003-07-31 | CN1997869A | 2007-07-11 | M·P·C·瓦茨; I·姆克麦基; S·V·斯里尼瓦桑; B-J·乔伊; R·D·弗伊欣; N·E·苏马克 |
| 介绍了用平版压印工艺在基底上形成图案的方法。在平版压印工艺中，先将液体分布到基底上，然后使模板与液体接触，并固化液体，其中固化液体包含在模板上形成的任何图案的印记。在一种实施方式中，用散射法使模板与预先在基底上形成的层对齐。 | ||||||
| 62 | 扫描仪系统 | CN200510113503.0 | 1999-03-15 | CN1782880A | 2006-06-07 | 沃尔夫冈·雷彻克; 沃尔夫冈·森夫; 斯特芬·鲁克尔; 乌韦·克劳乌斯基; 乌多·巴蒂希; 乌尔里希·鲍曼 |
| 一种扫描方法，用于将图案写在表面上，包括：提供一扫描光束，包括多个独立可编址的子光束；以该扫描光束扫描表面若干次，该子光束于交叉扫描方向并排扫描表面，每一该子光束经调谐以反射待写入之数据；及重叠光束，使得在至少二次扫描期间，表面的写入区域皆予以写上。 | ||||||
| 63 | 刻印方法和刻印装置 | CN200480000487.8 | 2004-07-23 | CN1698196A | 2005-11-16 | 有贺刚; 荻原顺一 |
| 本发明提供通过将形成铸型图案的模具部件(40)按压到在作为被加工物体的基板(50)的主面上形成的膜被上，使铸型图案复印到膜被上的刻印方法。将多块基板(50)固定在吸盘台(20)上，并且可以用加热器(21)和冷却管(22)选择地加热基板。将模具部件(40)固定在与载物台(20)相对配置的顶部板(30)上。决定被选择加热的基板(50)和模具部件(40)的相互位置，使模具部件(40)按压在该基板(50)上的膜被上。反复进行该操作，对全部基板实施刻印。 | ||||||
| 64 | 双面印刷电路板的曝光设备 | CN00124136.2 | 2000-07-07 | CN1223903C | 2005-10-19 | 吉勒斯·赫弗; 阿尔诺·勒伯谢 |
| 本发明涉及通过印板的双面印刷电路的曝光设备，它包括固定的第一印板支架(10)，活动的第二印板支架(14)，第二支架的垂直移动装置(26，28)和这些运动装置与第二支架的机械连接装置，第一和第二支架具有当它们处于工作位置时易配合的相对定位装置(12，24)。机械连接装置包括：与垂直移动装置(38，40，46，48)连接的第一水平连接面(42，44)；与第二支架连接一体的第二个水平连接面(20，22)；实现第一(42，44)和第二(20，22)水平连接面的基本无摩擦配合的支撑装置(50)；第一和第二连接面的暂时连接可控装置(50)。 | ||||||
| 65 | 用于将图案转印到物体的设备 | CN03820323.5 | 2003-07-31 | CN1678956A | 2005-10-05 | L·奥尔松; P·安德松 |
| 一种用于将图案转印到物体(2)上的设备(4)。本发明特别地涉及微结构和毫微结构的生成。该设备包括对准装置(10)，它设置成与第一接触装置(7)连接，以控制第一印模(8)沿垂直于推压方向(A)的方向上的运动，和具有第二印模(12)的第二接触装置(11)，第二印模(12)用于将第二图案压印到物体(2)的第二表面(6)上，和推压装置(9)，它还用于沿推压方向(A)推动第二印模(12)与物体(2)的第二表面(6)接触。由此得到了设计简单的设备，它具有较高的印模与物体的对准精确度。 | ||||||
| 66 | 曝光装置 | CN200310118112.9 | 2003-11-13 | CN1501171A | 2004-06-02 | 尾崎多可雄; 和田光示 |
| 一种曝光装置，在激光曝光装置(100)上，在由装载于支撑门架(122)上的CCD摄像机(124、126、128)读取了承载于向与扫描方向相反的方向移动的曝光载物台(108)上的电路板材料(102)的校正标记以后，由从激光扫描器射出的激光束对根据校正标记判断了位置的绘制区域进行曝光。此时，从沿扫描方向(S)的CCD摄像机(124、126、128)到激光扫描器(134)的测定距离，比分别对应于电路板材料(102)上的绘制区域的前端及后端而设的校正标记的间距长。这种曝光装置，即使在记录媒体上设置多个绘制区域，也能防止随着绘制区域的增加而增加对记录媒体的图像形成时间。 | ||||||
| 67 | 监控和改进多层PCB制造的尺寸稳定性和配准精度的系统和方法 | CN01820798.7 | 2001-10-25 | CN1481535A | 2004-03-10 | J·托尔内; A·凯利; S·琼斯 |
| 目标被插入在PCB布局图的各处。目标的制造后测量与制造前位置相比，以计算出非线性回归分析最佳拟合模型。该模型用于在布局图上给出特征位置的PCB上或之内生成一个特征的位置。该非线性回归分析产生一组x和y多项式方程。这些多项式方程允许一个线性的补偿被施加于在布局图上的特征位置，以便将在PCB制造过程中特征的配准不良减到最小。在对于该特征在制造前的定位进行线性补偿之前和之后建立该特征在制造后的定位的模型。因此，可以估计特征位置补偿的效果。使用线框示意图和彩色编码示意图的图形表示有助于标识板的那些区域，即相对于技术要求被预测处于容限之内和之外的区域。此外，本发明可应用于测试不同材料的效果。以此方式，根据使对配准条件的超出减到最小，可以识别用于特定PCB的最佳材料。 | ||||||
| 68 | 曝光用掩模以及采用该曝光用掩模的曝光方法 | CN99105560.8 | 1999-04-12 | CN1127087C | 2003-11-05 | 佐藤俊彦; 岩崎纯; 池上正克; 小林政美; 横山雅春 |
| 在面积很大的透光部(5A)内设置校准键(6)。通过这种方法，为了对准位置，即使将曝光用掩模(4)上下、左右移动，滑块条(1)的薄膜元件(3)均能恰当地进入上述透光部(5A)内，可以容易地将曝光用掩模(4)的透光部(5A)与滑块条(1)的薄膜元件(3)的位置对准。 | ||||||
| 69 | 合成凸印元件 | CN00814180.0 | 2000-09-18 | CN1378662A | 2002-11-06 | 爱德华·墨菲; 大卫·雷基亚; 丹尼尔·罗森 |
| 通过在印刷元件的表面大致对准地至少设置一个、最好多个光固化元件,并再把计算机产生的负片转印到元件的表面,无需精确对准各个光固化元件,制备高质量的合成印刷元件。 | ||||||
| 70 | 通过布线图曝光双面印刷电路板的装置 | CN97111563.X | 1997-05-14 | CN1093945C | 2002-11-06 | 阿莱·索莱尔; 瑟格·查博尼尔 |
| 通过配备有位置记号的布线图曝光双面印刷电路板的装置，包括固定在水平面内的第一(10)和第二支持结构、布线图(12)的支持件、探测电路与支持件定位误差的光学装置、垂直于其平面将一个支持件移向另一个的装置、排列在支持件与电路组成单元之外的用来使电路相对于支持结构而保持固定在其平面内的装置(26、28)、以及根据探测到的定位误差而使上述第一支持件(12)相对于上述电路以及上述第二支持件相对于上述电路独立地移动的装置(20、22)。 | ||||||
| 71 | 在多层印刷电路板制造工艺中使用的定位装置及其使用方法 | CN01111797.4 | 2001-03-28 | CN1318973A | 2001-10-24 | 三宫胜也; 井田良一; 百濑克已; 行田道知 |
| X射线照射装置(1)发射X射线到基板标记(7)上,并把基板标记(7)的图像投影在荧光屏(3)上,荧光屏(3)的荧光面(39)可见地显示能被CCD照相机(2)捕获的基板标记(7)图像。CCD照相机(2)对重叠在一起的基板标记(7)和描绘在光掩膜(4)上的掩膜标记(5)进行照相。使用曝光工作台(8)校准基板(6)和光掩膜(4),以便使基板标记(7)和掩膜标记(5)吻合。 | ||||||
| 72 | 液晶显示装置的滤色片及其制作方法 | CN93112845.5 | 1993-12-14 | CN1038709C | 1998-06-10 | 金元浩; 崔东旭 |
| 公开了一种具有对准图形、以便容易对准掩模的滤色片及其制作方法。另外还揭示了用对准主图形对准掩模的方法。在基片上形成一种具有预定阶梯差、以便产生激光束衍射光的对准主图形，然后形成盖在上述对准主图形的滤色层。之后，通过将一束激光束照射在上述对准主图形上，测得衍射光，以便产生一个信号，同时使暴露出上述滤色层的掩模被对准。由于可测得精确的波形图，所以能很容易地实行掩模的自对准。 | ||||||
| 73 | 用于支持平板曝光装置布线图的设备 | CN97111188.X | 1997-05-15 | CN1165981A | 1997-11-26 | 阿莱·索莱尔; 瑟格·查博尼尔 |
| 支持平板曝光装置布线图的设备，上述装置包含固定的水平支持结构。此设备包含由矩形框架和与其连成一体且适于承接布线图的玻璃所组成的布线图支持件、支持和提升支持件的适于使支持件在一给定平面内保持水平且适于产生支持件与支持结构之间基本上无摩擦的协同动作的装置、使支持结构暂时固定于支持件框架的可控装置、以及与支持结构连成一体以使支持件在水平平面内沿二个正交的方向相对于支持结构移动的位移装置。 | ||||||
| 74 | 曝光印相用原版的制作方法 | CN89102822.6 | 1989-04-24 | CN1028916C | 1995-06-14 | 田中裕; 工藤诚 |
| 一种曝光印相用原版的制作方法，当在由面向或紧帖在板状被曝光部件的两面上所形成的感光膜而进行配置的第1、第2原版所组成的一对原版上形成同轴的负图形之际，就第1原版而言从用光绘图器绘出的负图形形成正或负图形，并通过紧帖印相从此图形形成原版的负图形；同时就第2原版而言，使用正型干板从用光绘图器绘出的负图形直接形成原版的负图形。此方法可用于制造高析象度的彩色显象管用荫罩。 | ||||||
| 75 | 一种具有调焦及倾斜校正设计的标记及对准方法 | CN201410456314.2 | 2014-09-09 | CN105467781B | 2017-12-29 | 杜荣; 陈跃飞 |
| 本发明公开了一种具有调焦及倾斜校正设计的标记及对准方法，所述标记包括对准标记和至少一对调焦标记，所述对准标记的中心位于所述任一对调焦标记连线的中点上，任一对所述调焦标记中心对称于所述对准标记的两侧，所述对准标记为十字型标记或者米字型标记，所述调焦标记为方块型调焦标记或光栅型调焦标记，所述对准标记的线宽大于离散化粒度，所述对准标记的线宽大于两倍PSF宽度，本发明还提供了应用于所述标记的对准方法，实现了对准标记的高精度调焦调平。与现有技术相比，本发明提供的标记在调焦的同时消除了倾斜对标记的影响，提高了测量复现性；此外，分析了畸变对测量复现性的影响机理，并给出了对标记宽度的限定条件，进一步地提高了测量复现性。 | ||||||
| 76 | 扫描曝光装置 | CN201710064287.8 | 2013-03-08 | CN106773558A | 2017-05-31 | 加藤正纪; 木内彻 |
| 本发明的扫描曝光装置具有：旋转筒，其在由外周面支承基板的长度方向的一部分的状态下绕第2中心轴旋转而将基板沿长度方向输送；照明机构，其分别向着第1照明区域和第2照明区域照射照明光；投影光学系统，其在支承于旋转筒的基板上，向着第1投影区域，来投影第1照明区域内所显现的光罩图案的像，并且向着第2投影区域，来投影第2照明区域内所显现的光罩图案的像；第1刻度部；第2刻度部；光罩侧读取机构，其在从第1中心轴观察而分别位于与第1照明区域和第2照明区域相同的方位上的第1刻度部上的两个位置上分别读取刻度；和基板侧读取机构，其在从第2中心轴观察而分别位于与第1投影区域和第2投影区域相同的方位上的第2刻度部上的两个位置上分别读取刻度。 | ||||||
| 77 | 纳米压印模版晶向对准装置及对准方法 | CN201611051657.6 | 2016-11-25 | CN106647166A | 2017-05-10 | 孙晋武 |
| 本发明涉及一种纳米压印模版晶向对准装置，它的晶圆台顶面开设有开口向上的晶圆安装凹槽，模版吸附夹具的底面开设有开口向下的压印模版凹槽，第二电极图形板安装在晶圆台顶面，第一电极图形板安装在模版吸附夹具的底面，第一电极图形板与第二电极图形板内的电极图形为互补电极图形，第一电极图形板的正负极与电阻计对应的正负极相连，模版吸附夹具安装在微调台上，微调台用于对模版吸附夹具的位置进行调整，吸附控制系统用于控制模版吸附夹具的吸附端对压印模版的吸附，所述晶圆的晶向与第二电极图形板平行，压印模版中的模版图形方向与第一电极图形板平行。本发明结构简单，精度高。 | ||||||
| 78 | 描绘装置、曝光描绘装置、描绘方法及存储有程序的记录介质 | CN201380042910.X | 2013-04-25 | CN104583873B | 2017-05-10 | 菊池浩明 |
| 取得表示设于被曝光基板的多个基准标记的设计上的第一位置的坐标数据、表示以第一位置为基准而确定的向被曝光基板描绘的描绘图案的坐标数据及表示多个基准标记各自的实际的第二位置的坐标数据，对多个基准标记中的每一个，导出用于校正第一位置与第二位置的偏离的偏离校正量，使导出的偏离校正量分别以预先确定的比例减少，在以表示第二位置的坐标数据为基准并基于表示描绘图案的坐标数据而向被曝光基板描绘描绘图案的情况下，基于减少了的偏离校正量来校正表示描绘图案的坐标数据。 | ||||||
| 79 | 基于相对位置测量的对准系统、双工件台系统及测量系统 | CN201510551168.6 | 2015-08-31 | CN106483778A | 2017-03-08 | 李运峰 |
| 本发明提供了一种基于相对位置测量的对准系统、双工件台系统及测量系统，其中，基于相对位置测量的对准系统包括：主框架、对准传感器、光强信号采集处理模块、反射镜、工件台、位于工件台上的硅片上的对准标记、位置采集模块、及对准操作与管理模块。位置采集模块同时采集从工件台及反射镜获取的位置数据，而所述反射镜位于所述对准传感器上，即，同时采集所述对准传感器与所述工件台的位置数据，通过处理可得到所述工件台相对于所述对准传感器无振动时的相对位置。即，可得到所述对准传感器相对振幅为零时对准标记的对准位置，从而避免了所述对准传感器的震动的影响，提高了对准重复精度。 | ||||||
| 80 | 基板处理装置、器件制造方法及基板处理方法 | CN201580017855.8 | 2015-03-31 | CN106133610A | 2016-11-16 | 加藤正纪; 奈良圭; 铃木智也; 渡边智行; 鬼头义昭; 堀正和 |
| 基板处理装置以使得通过多个描绘单元的各描绘线在基板上描绘出的图案彼此伴随着基板向长度方向的移动而在基板的宽度方向上接合在一起的方式，沿基板的宽度方向配置有多个描绘单元。控制部预先存储有与通过多个描绘单元分别在基板上形成的描绘线的相互的位置关系有关的校准信息，并且基于该校准信息和从移动测量装置输出的移动信息来调整通过多个描绘单元各自的描绘光束在基板上的形成的图案的描绘位置。 | ||||||
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