子分类：
| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
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| 81 | 测量系统 | CN201280028001.6 | 2012-06-06 | CN103608729B | 2016-11-02 | M.戈珀特; H.海德纳; R.弗赖曼; C.斯特雷贝尔 |
| 一种用于投射曝光设备（1）的物镜（27），包含布置在物镜框架（28）上的度量台（30）。 | ||||||
| 82 | 硅片预对准方法 | CN201510091986.2 | 2015-02-28 | CN105988305A | 2016-10-05 | 周细文; 孙伟旺; 田翠侠; 郑教增 |
| 本发明公开了一种硅片预对准方法，包括：步骤1：提供硅片，所述硅片周向设置有若干标记；步骤2：对硅片进行定心；步骤3：沿硅片径向移动视觉切换轴，使得硅片上的标记进入到图像采集装置的投影区域内；步骤4：转动硅片，逐个扫描、识别标记，确定标记的坐标；步骤5：根据标记的坐标旋转硅片至上片角度，完成硅片定向。本发明采用识别标记的方式，放弃了识别硅片边缘缺口的方式，避免了对一幅图像进行二值化分割，进一步提高了定向算法的通用性，抗噪声干扰性更强。此外，由于硅片的标记数目较多，采用本发明的方法仅需测量一至两个标记，即可实现硅片的对准。 | ||||||
| 83 | 一种掩模版传输装置及传输方法 | CN201510087602.X | 2015-02-26 | CN105988303A | 2016-10-05 | 姜晓玉; 王长刚 |
| 本发明公开一种掩模版传输装置，包括掩模版、掩模台以及机械手，所述机械手用于支撑和传输掩模版并将所述掩模版交接到掩模台上，其特征在于，还包括：第一组标记和第二组标记，位于所述掩模版上；预对准部件，与所述掩模台连接，用于在掩模版交接过程中探测所述第一组标记以进行第一次预对准，以及探测所述第二组标记以进行第二次预对准；控制单元，用于根据第一次预对准结果调整掩模版和掩模台的相对位置，避免掩模版和掩模台相撞，以及根据第二次预对准结果调整掩模版和掩模台的相对位置，使得掩模版和掩模台的相对位置在设定范围之内。与现有技术相比较，本发明避免了机械手将掩模版交接到掩模台时使掩模版的薄膜框架与掩模台的承版结构发生碰撞，保护了掩模版，提高了交接精度。 | ||||||
| 84 | 体硅微加工工艺的定位方法 | CN201410660920.6 | 2014-11-18 | CN105645347A | 2016-06-08 | 荆二荣 |
| 一种体硅微加工工艺的定位方法，采用双面光刻和步进式光刻相结合的方法，通过双面光刻机找到步进式光刻机在第一基片的步进式光刻对位标记，然后直接使用步进式光刻机对第二基片进行对位。步进式光刻机的对位精度就相当于下上基片表面的图形的对位精度，因而大大提高了体硅微加工工艺的对位精度。 | ||||||
| 85 | 微缩投影系统波像差检测过程中的视场点定位方法 | CN201510960030.1 | 2015-12-21 | CN105589305A | 2016-05-18 | 谢耀; 周烽; 王丽萍; 王辉; 郭本银; 张文龙; 金春水 |
| 微缩投影系统波像差检测过程中的视场点定位方法，涉及光学系统检测领域，解决现有微缩投影系统波像差检测过程中的视场点定位的准确率低且存在工作量大，操作过程复杂等问题，采用三坐机上对主镜和次镜的反射面轮廓进行测量，获得主镜和次镜的间距，并在三坐机上完成主次镜的装配，保证主镜的外轮廓与主镜支撑环的外轮廓、次镜与次镜支撑环外轮廓的同轴度和垂直度以及主次镜背面与主次镜支撑结构的平行度；采用定心仪调整机构和平晶调整主次镜与其支撑环的装配，获得主次镜镜面的倾斜度和偏心量；完成凹面反射镜在次镜背面的装配；定位系统定位的视场点。本发明可以实现在波像差检测过中被测视场点的快速定位和准确复位。 | ||||||
| 86 | 曝光描绘装置和曝光描绘方法 | CN201380016100.7 | 2013-01-09 | CN104185817B | 2016-05-18 | 桥口昭浩; 菊池浩明; 鹤井弘则 |
| 具有：第1曝光单元，通过对载置在平台上的印刷布线基板的第1面进行曝光而在所述第1面上描绘电路图案；标记形成单元，设置为能够相对于平台相对地移动，在印刷布线基板的第1面上第1面用的电路图案的描绘处理中，在与第1面相反的第2面形成预先确定的多个标记；计测单元，对标记形成单元的位置进行计测；检测单元，对在第2面上形成的多个标记的位置进行检测；以及第2曝光单元，以所计测的标记形成单元的位置和所检测的多个标记的位置为基准，通过对印刷布线基板的第2面进行曝光而在第2面上描绘电路图案。 | ||||||
| 87 | 对位装置和具有该对位装置的曝光装置 | CN201280010916.4 | 2012-03-05 | CN103403624B | 2016-01-20 | 李德; 中泽朗 |
| 本发明提供一种对位装置，其在电子电路用的多层印刷基板中能够保持与下层的对位精度，并能整合安装在表面上的电子部件之间的对位。该对位装置具有：存储部（82），其存储对准标记（AM）应当形成在基板（PB）上的设计坐标位置（MC）；测定部（70），其测定转印到基板的对准标记的坐标位置；以及计算部（84），其计算将测定部测定出的对准标记的坐标位置向设计坐标位置移动了预定距离的目标坐标位置（TG）。 | ||||||
| 88 | 对印刷后转移或复合的切张进行印刷后加工的方法和设备 | CN201280025877.5 | 2012-11-03 | CN103958212B | 2015-09-09 | 张青民; 李华容; 李娇 |
| 一种对印刷后转移或复合的切张进行印刷后加工的方法和设备，包括：在加工后待保留的图案(211、214、215)周围或图案(211、214、215)上印刷机器视觉识别标识(212)；将印刷有待保留图案(211、214、215)和机器视觉识别标识(212)的塑料薄膜(21、27)复合到板形胚件(22、24、28)上，或将塑料薄膜(21、27)上的待保留的图案(211、214、215)和机器视觉识别标识(212)转移到板形胚件(22、24、28)上；根据印刷在塑料薄膜(21、27)上并且位于加工后待保留图案(211、214、215)周围或图案(211、214、215)上的机器视觉识别标识(212)的位置控制加工的位置。通过在加工后待保留图案(211、214、215)周围或图案(211、214、215)上印刷能够被机器视觉识别系统(12)识别出的机器视觉识别标识(212)，根据机器视觉识别标识(212)的位置从而能够准确判断出加工后待保留图案(211、214、215)的位置，能够准确地加工出需要的图案(211、214、215)，不会因为覆膜过程中塑料薄膜(21、27)与板形胚件(22、24、28)的位置出现偏差而导致加工位置出现误差的问题。 | ||||||
| 89 | 基于图像处理的光刻系统和目标对象涂覆方法 | CN201080043931.X | 2010-09-29 | CN102668024B | 2015-09-09 | 劝圣勋; 郑收恩; 李昇娥; 张志诚; 韩相权 |
| 公开了一种用于光刻系统的技术。根据本发明的一个实施方式，光刻系统包括：布置在基板上的至少一个目标对象；通过对至少一个目标对象执行图像处理来确定用于至少一个目标对象的涂覆层的光学图案的处理器；以及将具有由处理器确定的光学图案的光提供到基板的曝光装置。 | ||||||
| 90 | 描绘装置、曝光描绘装置、描绘方法及存储有程序的记录介质 | CN201380042910.X | 2013-04-25 | CN104583873A | 2015-04-29 | 菊池浩明 |
| 取得表示设于被曝光基板的多个基准标记的设计上的第一位置的坐标数据、表示以第一位置为基准而确定的向被曝光基板描绘的描绘图案的坐标数据及表示多个基准标记各自的实际的第二位置的坐标数据，对多个基准标记中的每一个，导出用于校正第一位置与第二位置的偏离的偏离校正量，使导出的偏离校正量分别以预先确定的比例减少，在以表示第二位置的坐标数据为基准并基于表示描绘图案的坐标数据而向被曝光基板描绘描绘图案的情况下，基于减少了的偏离校正量来校正表示描绘图案的坐标数据。 | ||||||
| 91 | 加工设备 | CN201080030124.4 | 2010-06-30 | CN102472986B | 2015-02-18 | 汉斯·奥普韦; 克劳斯·云格尔 |
| 为了在板状物体的加工设备中，以如下方式对该加工设备进行改进，即：使板状物体相对于载物台的位置能得到精确确定，其中，所述加工设备具有曝光装置和载物台，所述载物台具有用于容纳物体的载物台面，其中，曝光装置能相对于载物台彼此相对运动，所提出的是：设置有包括至少一个边沿照明单元的边沿检测装置，该边沿照明单元在至少一部分物体边沿区域内具有照明区，在该照明区的内部，处于各自物体边沿区域内的物体边沿被从载物台那侧呈面状发射的光加以照亮；以及与载物台面相距地，在物体的与载物台相对置的侧上，设置有至少一个边沿图像检测单元，该边沿图像检测单元将物体边沿的处于照明区内的边沿段作为边沿图像成像到图像面上；以及利用至少一个边沿图像检测单元可以位置精确地相对于载物台检测各边沿图像。 | ||||||
| 92 | 用于衬底双面图案形成的方法和系统 | CN201410398086.8 | 2006-11-30 | CN104317161A | 2015-01-28 | B-J·乔伊; S·V·斯利尼瓦森 |
| 本发明有关用于衬底双面图案形成的方法和系统。本发明涉及一种在衬底的第一和第二相反两面上形成图案的方法和系统。该方法和系统可以采用模具组件且在衬底的第一和第二相反两面与模具组件之间获得期望的空间关系。在另一实施方式中，该方法和系统可采用第一和第二模具组件。 | ||||||
| 93 | 处理诸如晶圆的靶材的光刻系统和方法 | CN201380024169.4 | 2013-03-08 | CN104272194A | 2015-01-07 | N.弗奇尔 |
| 本发明提供一种操作用以处理夹盘(13)上的靶材(23)的靶材处理系统的方法，该方法包括：在该夹盘(13)上提供至少第一夹盘位置标记(27)和第二夹盘位置标记(28)；提供对准感测系统(17)，其被布置成用以检测这些第一和第二夹盘位置标记(27，28)，对准感测系统(17)包括至少第一对准传感器(61)和第二对准传感器(62)；以对准感测系统(17)的至少一个测量值为基础将该夹盘(13)移动至第一位置；以及测量和夹盘的第一位置有关的至少一个值。 | ||||||
| 94 | 基板处理装置、处理装置以及元件制造方法 | CN201380015932.7 | 2013-03-08 | CN104204956A | 2014-12-10 | 加藤正纪; 木内彻 |
| 基板处理装置具备：旋转圆筒部件(DR)，具有距规定的中心线(AX2)以固定半径弯曲的圆筒状的支承面，且沿基板的长度方向传送基板(P)；处理机构，在基板的一部分的特定位置(PA、EL2)处对基板实施规定的处理；刻度部件(SD)，具有刻度部(GP)，该刻度部(GP)与旋转圆筒部件一同绕中心线旋转，并被刻设为环状，以测量旋转圆筒部件的支承面的周向位置变化、或者旋转圆筒部件的中心线的方向的位置变化；和读取机构(EN1、EN2)，与刻度部相对，并且从中心线观察而配置在与特定位置大致相同方向，且读取刻度部。 | ||||||
| 95 | 图像编辑装置和图像编辑方法 | CN201310102510.5 | 2013-03-27 | CN103358680B | 2014-11-05 | 濑户哲司; 井出觉也 |
| 本发明提供一种图像编辑装置及图像编辑方法，在使墨转移到输出介质的印版之上拼贴多个内容图像。该图像编辑装置具备：区域分割部，将所述印版上的规定区域二维地分割为多个子区域；优先顺序给予部，对由所述区域分割部分割而得到的各所述子区域，按照所述墨向所述输出介质的相对转移量从大到小的顺序给予配置的优先顺序；使用量推定部，分别推定与所述多个内容图像中的两个以上内容图像对应的所述墨的使用量；及配置确定部，按照配置规则来分别确定各所述内容图像的配置位置，所述配置规则为：在由所述优先顺序给予部给予的所述优先顺序高的所述子区域依次配置由所述使用量推定部推定为所述使用量大的各所述内容图像。 | ||||||
| 96 | 曝光系统、校准系统、光学引擎、曝光方法和制造方法 | CN201210159451.0 | 2012-05-21 | CN102944978B | 2014-08-06 | 梅文辉; 杜卫冲; 曲鲁杰 |
| 本发明公开了一种曝光系统、校准系统、光学引擎、曝光方法和制造方法。该曝光系统包括：第一光学引擎；第二光学引擎；光源系统，用于对该第一光学引擎和该第二光学引擎提供曝光光束；第一分束装置，设置在该第一侧，用于对经过该第一光学引擎的入射光束以及对经过该第二光学引擎的入射光束进行分光；第一视觉系统，设置在该第一侧，该第一视觉系统接收经过该第一光学引擎并由该第一分束装置反射的第一光束，以及接收经过该第二光学引擎并由该第一分束装置反射的第二光束，以用于校准该第一光学引擎和该第二光学引擎的光轴。本发明实施例的曝光系统、校准系统、光学引擎、曝光方法和制造方法，能够校准各光学引擎的光轴，从而能够提高曝光质量。 | ||||||
| 97 | 一种空间成像套刻检验方法及阵列基板 | CN201210025005.0 | 2012-02-06 | CN102636962B | 2014-03-12 | 姜晓辉; 郭建 |
| 本发明公开了一种空间成像套刻检验方法及阵列基板，该方法包括：光刻形成一层具有空间成像套刻标记的薄膜；在所述薄膜为透明薄膜时，对所述透明薄膜上的空间成像套刻标记作显色处理，使所述空间成像套刻标记显示出非透明色；利用所述非透明色的空间成像套刻标记，进行所述透明薄膜与相邻的薄膜之间的空间成像套刻检验。本发明通过对透明薄膜上的空间成像套刻标记作显色处理后再进行定位，可以快速准确的定位空间成像套刻标记，从而可以快速有效地检测出两道光刻工序间的对准状况。 | ||||||
| 98 | 测量系统 | CN201280028001.6 | 2012-06-06 | CN103608729A | 2014-02-26 | M.戈珀特; H.海德纳; R.弗赖曼; C.斯特雷贝尔 |
| 一种用于投射曝光设备（1）的物镜（27），包含布置在物镜框架（28）上的度量台（30）。 | ||||||
| 99 | 用于对准的照明装置和具有该照明装置的曝光装置 | CN201110346598.6 | 2011-11-04 | CN102466983A | 2012-05-23 | 种村次记; 中岛裕; 名古屋淳; 大矢佳幸 |
| 本发明涉及用于对准的照明装置和具有该照明装置的曝光装置。在CCD摄像机(3)周围对标记进行照明的环形照明装置(1)具有：照明装置(1)、照明亮度控制装置(10)、照明高度控制装置(11)、照明颜色控制装置(12)以及控制上述这些装置的控制器(5)，所述照明装置1在照明高度和照明颜色的组合为K＝1到M，且将照明亮度以1％为一步，从1％变为100％的情况下，通过CCD摄像机(3)对标记进行检测，并且由对比度检测/确定装置(23)对标记对比度进行检测以及由变换检测/确定装置(24)对变化进行检测，随后基于所述变化确定最佳照明条件。 | ||||||
| 100 | 模仁的制造方法及专用模具 | CN200810305893.5 | 2008-12-01 | CN101746105B | 2012-03-14 | 骆世平 |
| 本发明提供一种模仁的制造方法，包括以下步骤：提供一个透光基板，在其表面形成一层待固化材料层；提供一个模具，该模具具有一个第一成型面和至少一个第一对位件，及一个具有通孔阵列的定位板，在每个通孔周围设置至少一个与该第一对位件对应的第二对位件，将定位板放置于该模具与该待固化材料层之间；将该模具的第一对位件与该定位板的其中一个通孔的第二对位件对准后，将模具的第一成型面朝向待固化材料层压下，在该待固化材料层形成一个第二成型面，使该第二成型面所覆盖的待固化材料层区域固化；移开模具，将该模具与该定位板其余的每个通孔均重复上一个步骤，即得到具有多个第二成型面的模仁。本发明还提供一种用于制造上述模仁的专用模具。 | ||||||
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