子分类：
| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
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| 21 | 图像编辑装置和图像编辑方法 | CN201310102510.5 | 2013-03-27 | CN103358680A | 2013-10-23 | 濑户哲司; 井出觉也 |
| 本发明提供一种图像编辑装置及图像编辑方法，在使墨转移到输出介质的印版之上拼贴多个内容图像。该图像编辑装置具备：区域分割部，将所述印版上的规定区域二维地分割为多个子区域；优先顺序给予部，对由所述区域分割部分割而得到的各所述子区域，按照所述墨向所述输出介质的相对转移量从大到小的顺序给予配置的优先顺序；使用量推定部，分别推定与所述多个内容图像中的两个以上内容图像对应的所述墨的使用量；及配置确定部，按照配置规则来分别确定各所述内容图像的配置位置，所述配置规则为：在由所述优先顺序给予部给予的所述优先顺序高的所述子区域依次配置由所述使用量推定部推定为所述使用量大的各所述内容图像。 | ||||||
| 22 | 对准方法、对准装置及曝光装置 | CN201080028720.9 | 2010-06-15 | CN102804075A | 2012-11-28 | 岩本正实 |
| 本发明提供一种对准方法、对准装置及曝光装置。一边输送将图案形成为矩阵状的基板，一边对通过摄像机构以一定的时间间隔拍摄到的多个图像依次进行处理而检测受光元件的排列方向上的亮度变化的位置，在基板移动一定距离期间，将在相同位置检测到的亮度变化的次数进行累计，得到与检测到的亮度变化的位置对应排列的多个边缘个数数据，使模板移动，并对算出的多个边缘个数数据进行相关运算，得到多个相关值数据，根据超过了预先设定的阈值的多个相关值数据来确定多个图案的位置，从其中选择与摄像机构的目标位置接近的图案的位置，算出该图案的位置与摄像机构的目标位置的位置偏差量，以该位置偏差量成为预先设定的值的方式使光掩模沿着与基板的输送方向大致正交的方向移动，其中该摄像机构具有在与基板的输送方向交叉的方向上排列成一直线状的多个受光元件。 | ||||||
| 23 | 一种空间成像套刻检验方法及阵列基板 | CN201210025005.0 | 2012-02-06 | CN102636962A | 2012-08-15 | 姜晓辉; 郭建 |
| 本发明公开了一种空间成像套刻检验方法及阵列基板，该方法包括：光刻形成一层具有空间成像套刻标记的薄膜；在所述薄膜为透明薄膜时，对所述透明薄膜上的空间成像套刻标记作显色处理，使所述空间成像套刻标记显示出非透明色；利用所述非透明色的空间成像套刻标记，进行所述透明薄膜与相邻的薄膜之间的空间成像套刻检验。本发明通过对透明薄膜上的空间成像套刻标记作显色处理后再进行定位，可以快速准确的定位空间成像套刻标记，从而可以快速有效地检测出两道光刻工序间的对准状况。 | ||||||
| 24 | 激光直描装置以及描画方法 | CN200810210444.2 | 2008-08-15 | CN101382740B | 2012-06-13 | 内藤芳达; 铃木光弘; 加藤友嗣 |
| 本发明提供一种不管感光材料的种类如何都能够高精度地决定背面侧相对于表面侧的位置的激光直描装置以及描画方法。本发明的激光直描装置，使激光束(5a)偏向主扫描方向(X轴方向)的同时使载置于工作台(12)上的被描画体(10)向副扫描方向(Y轴方向)移动而将图形描画到被描画体(10)的表面上，以前端从工作台(12)的表面仅突出预定的距离(g)的方式将中空销(20)配置在工作台(12)上，通过使被描画体(10)吸附在工作台(12)上而在被描画体(10)的背面上形成有底的凹部(中空销20的前端轨迹)。并且在背面上描画图形时以凹部为基准进行描画。 | ||||||
| 25 | 校准方法和平板显示器的制造方法 | CN201180001603.8 | 2011-02-28 | CN102365591A | 2012-02-29 | 浜田良太; 村社智宏 |
| 本发明提供一种将基板与光掩模之间的距离设定为规定的曝光间隙的校准方法。光掩模为矩形，且包括第一边和与第一边对置的第二边。使第一边的中点与基板之间的距离对准曝光间隙。以连接第一边的中点和第二边的中点的线为轴使光掩模旋转，从而使第一边的两端的每一个与基板之间的距离对准所述曝光间隙。以第一边为轴使光掩模旋转，从而使第二边的中点与基板之间的距离对准曝光间隙。 | ||||||
| 26 | 压印装置、用于压印装置中的模板、以及物品的制造方法 | CN201110041760.3 | 2011-02-21 | CN102162992A | 2011-08-24 | 盐出吉宏 |
| 本发明涉及一种压印装置、用于压印装置中的模板、以及物品的制造方法。所述压印装置包括分配器、被配置为检测位于模板的图案表面上的对准标记的检测器、以及控制器。图案表面包含包含与树脂图案对应的图案的第一区域和包含对准标记的第二区域，并且被形成为使得用未硬化的树脂填满第二区域中的凹陷的第二时间比用未硬化的树脂填满第一区域中的凹陷的第一时间晚。控制器使得分配器在基板上分配具有使得第一和第二区域中的凹陷被未硬化的树脂填满的量的未硬化的树脂，并使得检测器在第一时间和第二时间之间检测对准标记。 | ||||||
| 27 | 使扫描系统中的产出率最佳化的方法 | CN200510113503.0 | 1999-03-15 | CN100580559C | 2010-01-13 | 沃尔夫冈·雷彻克; 沃尔夫冈·森夫; 斯特芬·鲁克尔; 乌韦·克劳乌斯基; 乌多·巴蒂希; 乌尔里希·鲍曼 |
| 一种使扫描系统中的产出率最佳化的方法，且选择性传递可变的所需量级的能量至一表面，该扫描方法包括：提供包括多个独立可编址子光束的扫描光束；以该扫描光束扫描该表面若干次，所述子光束在交叉扫描方向上并排扫描该表面，各所述子光束被调谐，以反射待写入的信息；以及重叠光束，使得在至少二次扫描期间，该表面的所有写入区域都被写上；提供给定的最佳化功率的所述扫描光束；确定参数的组合，包含在最大及最小速度之间的光束扫描速度，所述最大及最小速度定义一扫描速度比；所述表面及光束在垂直于扫描的方向的相对移动速率；以及适于以在最佳化功率的光束将曝光表面区域曝光至所需能量的光束重叠；以及利用所确定的参数组合曝光表面。 | ||||||
| 28 | 散射对齐法在平版压印中的应用 | CN03822456.9 | 2003-07-31 | CN100460805C | 2009-02-11 | M·P·C·瓦茨; I·姆克麦基; S·V·斯里尼瓦桑; B-J·乔伊; R·D·弗伊欣; N·E·苏马克 |
| 介绍了用平版压印工艺在基底上形成图案的方法。在平版压印工艺中，先将液体分布到基底上，然后使模板与液体接触，并固化液体，其中固化液体包含在模板上形成的任何图案的印记。在一种实施方式中，用散射法使模板与预先在基底上形成的层对齐。 | ||||||
| 29 | 用于将图案转印到物体的设备 | CN03820323.5 | 2003-07-31 | CN100454141C | 2009-01-21 | L·奥尔松; P·安德松 |
| 一种用于将图案转印到物体(2)上的设备(4)。本发明特别地涉及微结构和毫微结构的生成。该设备包括对准装置(10)，它设置成与第一接触装置(7)连接，以控制第一印模(8)沿垂直于推压方向(A)的方向上的运动，和具有第二印模(12)的第二接触装置(11)，第二印模(12)用于将第二图案压印到物体(2)的第二表面(6)上，和推压装置(9)，它还用于沿推压方向(A)推动第二印模(12)与物体(2)的第二表面(6)接触。由此得到了设计简单的设备，它具有较高的印模与物体的对准精确度。 | ||||||
| 30 | 图像位置测量装置及曝光装置 | CN200680022259.X | 2006-06-13 | CN101203810A | 2008-06-18 | 上村宽; 福井隆史 |
| 本发明提供一种图像位置测量装置，其具备摄影组件和修正组件，其中，摄影组件具有摄像元件及/或透镜，用于测量在工件上形成的基准标记的位置，修正组件修正所述摄像元件及/或透镜的变形。曝光装置具有图像位置测量装置和曝光组件，该曝光组件基于图像数据将所述工件进行曝光，所述图像数据通过基于由图像位置测量装置拍摄的所述基准标记的位置信息进行修正而得到。能够避免由于摄像元件和透镜的变形所带来的影响，提高工件上附带的基准标记的位置测量精度。 | ||||||
| 31 | 刻印方法和刻印装置 | CN200480000487.8 | 2004-07-23 | CN100355061C | 2007-12-12 | 有贺刚; 荻原顺一 |
| 本发明提供通过将形成铸型图案的模具部件(40)按压到在作为被加工物体的基板(50)的主面上形成的膜被上，使铸型图案复印到膜被上的刻印方法。将多块基板(50)固定在吸盘台(20)上，并且可以用加热器(21)和冷却管(22)选择地加热基板。将模具部件(40)固定在与载物台(20)相对配置的顶部板(30)上。决定被选择加热的基板(50)和模具部件(40)的相互位置，使模具部件(40)按压在该基板(50)上的膜被上。反复进行该操作，对全部基板实施刻印。 | ||||||
| 32 | 用对激活光透明的模板在衬底上形成图案的方法及半导体器件 | CN200510062999.3 | 2001-08-01 | CN1696826A | 2005-11-16 | T·百利; B·J·周; M·科尔博恩; S·V·斯瑞尼瓦萨恩; C·G·威尔森; J·埃克德特 |
| 说明压印制版工艺中用的模板与衬底之间间隙和取向的高精度测量方法。这里提供的间隙和取向测量方法包括采用基于宽带光的测量技术。 | ||||||
| 33 | 判定模板与衬底之间的间隔的方法 | CN01815367.4 | 2001-08-01 | CN1221858C | 2005-10-05 | T·百利; B·J·周; M·科尔博恩; S·V·斯瑞尼瓦萨恩; C·G·威尔森; J·埃克德特 |
| 说明压印制版工艺中用的模板与衬底之间间隙和取向的高精度测量方法。这里提供的间隙和取向测量方法包括采用基于宽带光的测量技术。 | ||||||
| 34 | 合成凸印元件 | CN00814180.0 | 2000-09-18 | CN1214291C | 2005-08-10 | 爱德华·墨菲; 大卫·雷基亚; 丹尼尔·罗森 |
| 通过在印刷元件的表面大致对准地至少设置一个、最好多个光固化元件，并再把计算机产生的负片转印到元件的表面，无需精确对准各个光固化元件，制备高质量的合成印刷元件。 | ||||||
| 35 | 扫描仪系统 | CN99808158.2 | 1999-03-15 | CN1308837A | 2001-08-15 | 沃尔夫冈·雷彻克; 沃尔夫冈·森夫; 斯特芬·鲁克尔; 乌韦·克劳乌斯基; 乌多·巴蒂希; 乌尔里希·鲍曼 |
| 一种扫描方法,用于将图案写在平面上,包括:提供一扫描光束,包括多个独立可编址的子光束;以该扫描光束扫描平面若干次,该子光束于交叉扫描方向并排扫描平面,每一该子光束经调谐以反射待写入之数据;及重叠光束,使得在至少二次扫描期间,平面的写入区域皆予以写上。 | ||||||
| 36 | 一种测量相对位置误差的装置 | CN00133808.0 | 2000-11-03 | CN1295268A | 2001-05-16 | 塞尔日·沙博尼耶; 戴维·克拉维耶 |
| 本发明有关一种用于测量在一激光束(14)和一目标(10)之间的相对位置误差的装置。目标(10)被提供有一圆孔(16),它占据一相对于所述目标(10)的参考位置。该装置具有将激光束聚焦于所述目标的平面中的装置(12),用于摄取所述圆孔和聚焦在所述目标的平面中的激光束的一图象的装置(17)、以及用于计算连接所述冲击点和所述圆孔中心的线段的分量的装置(18)。 | ||||||
| 37 | 复合浮雕影像印刷板 | CN98810483.0 | 1998-10-23 | CN1277681A | 2000-12-20 | 乔治·卡斯丁; 约瑟夫·克罗韦尔; 爱德华·墨菲; 戴维·雷科希亚 |
| 通过在基本上为平面的载片表面上以近似对准的形式设置至少一个光固元件、最好是多个光固元件并把计算机产生的负片转印到元件表面来制备高质量的复合印刷元件,不需要光固元件精确地对准。 | ||||||
| 38 | 液晶显示装置的滤色片及其制作方法 | CN93112845.5 | 1993-12-14 | CN1089360A | 1994-07-13 | 金元浩; 崔东旭 |
| 公开了一种具有对准图形、以便容易对准掩模的滤色片及其制作方法。另外还揭示了用对准主图形对准掩模的方法。在基片上形成一种具有预定阶梯差、以便产生激光束衍射光的对准主图形，然后形成盖在上述对准主图形的滤色层。之后，通过将一束激光束照射在上述对准主图形上，测得衍射光，以便产生一个信号，同时使暴露出上述滤色层的掩模被对准。由于可测得精确的波形图，所以能很容易地实行掩模的自对准。 | ||||||
| 39 | 基板处理装置、器件制造方法及基板处理方法 | CN201580017855.8 | 2015-03-31 | CN106133610B | 2017-12-29 | 加藤正纪; 奈良圭; 铃木智也; 渡边智行; 鬼头义昭; 堀正和 |
| 基板处理装置以使得通过多个描绘单元的各描绘线在基板上描绘出的图案彼此伴随着基板向长度方向的移动而在基板的宽度方向上接合在一起的方式，沿基板的宽度方向配置有多个描绘单元。控制部预先存储有与通过多个描绘单元分别在基板上形成的描绘线的相互的位置关系有关的校准信息，并且基于该校准信息和从移动测量装置输出的移动信息来调整通过多个描绘单元各自的描绘光束在基板上的形成的图案的描绘位置。 | ||||||
| 40 | 处理靶材的光刻系统和方法 | CN201380024169.4 | 2013-03-08 | CN104272194B | 2017-08-25 | N.弗奇尔 |
| 本发明提供一种操作用以处理夹盘(13)上的靶材(23)的靶材处理系统的方法，该方法包括：在该夹盘(13)上提供至少第一夹盘位置标记(27)和第二夹盘位置标记(28)；提供对准感测系统(17)，其被布置成用以检测这些第一和第二夹盘位置标记(27，28)，对准感测系统(17)包括至少第一对准传感器(61)和第二对准传感器(62)；以对准感测系统(17)的至少一个测量值为基础将该夹盘(13)移动至第一位置；以及测量和夹盘的第一位置有关的至少一个值。 | ||||||
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