子分类：
- G03F1/00： 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜,光罩;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
- G03F3/00： 分色;色调值的校正(一般照相复制设备入G03B)
- G03F5/00： 网屏印刷法;其所用网屏
- G03F7/00： 图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备(用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置,例如,B44C,H01L,例如,H01L21/00,H05K)
- G03F9/00： 原版、蒙片、片框、照片、图纹表面的对准或定位,例如自动地(G03F7/22优先;照相蒙片的制备入G03F1/00;在复制用的照相印片设备中的入G03B27/00)注意: 从2012年1月1日起,G03F9/70 - G03F9/00T26组不再用于新文献分类。以前文献正逐步转移到下面新的组: - G03F9/70转入G03F9/70 - G03F9/00T12转入G03F9/7003 - G03F9/00T14转入G03F9/7049 - G03F9/00T16转入G03F9/7065 - G03F9/00T18转入G03F9/7069 - G03F9/00T20转入G03F9/7073 - G03F9/00T22转入G03F9/7088 - G03F9/00T24转入G03F9/7092 - G03F9/00T26转入G03F9/7096
| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 221 | 辐射源 | CN201210190892.7 | 2012-06-11 | CN103019036B | 2017-05-24 | W·J·麦斯特姆; G·H·P·M·斯温凯尔斯 |
| 本发明提供了一种辐射源。根据本发明的第一方面，提供一种辐射源，包括：贮液器，配置成保持一体积的燃料；喷嘴，与贮液器流体连接，并配置成沿朝向等离子体形成位置的轨迹引导燃料流；激光器，配置成引导激光辐射到等离子体形成位置处的所述流上，以在使用中生成用于生成辐射的等离子体；和燃料污染物控制布置，所述污染物控制布置包括：用于生成磁场的磁场生成元件；用于生成电场的电场生成元件；磁场生成元件和电场生成元件一起配置成确保在使用中磁场和电场在燃料内的污染物的位置或潜在位置处交叠，并确保磁场和电场的通量线在该位置处不平行以便控制污染物的移动。 | ||||||
| 222 | 电化学感测试片的制作方法 | CN201510953094.9 | 2015-12-17 | CN106680335A | 2017-05-17 | 许国诚 |
| 本发明公开一种电化学感测试片的制作方法，为先将一电极层形成于一基板上，再对该电极层进行蚀刻，使该电极层的面积小于该基板的面积，且该电极层具有一检测部以及一相邻于该检测部的读取部，而后，形成一绝缘部于该电极层的该检测部的周围，且该绝缘部覆盖住该检测部的周缘，接着，形成一酵素层于该检测部之上，最后，形成一绝缘层于该酵素层之上以及该读取部的周围，并使该绝缘层具有一露出部分该酵素层的开口，借由该绝缘部的设置，可以固定与待检测物反应的有效反应面积，而可提高量测的准确性。 | ||||||
| 223 | 一种用于PCB板曝光的LED冷光源 | CN201510764971.8 | 2015-11-11 | CN106678609A | 2017-05-17 | 姚理化; 张吉祥; 任玉良 |
| 本发明涉及一种用于PCB板曝光的LED冷光源，包括基座以及分别安装在基座上的至少两排LED灯球，所述的基座上设有电路板，该电路板分别与每个LED灯球连接，所述的相邻两排LED灯球平行设置。与现有技术相比，本发明具有用电少、节约时间、提升品质等优点。 | ||||||
| 224 | 用于使用两个可旋转的衍射光学元件形成多个激光束组的设备和方法 | CN201480016393.3 | 2014-03-13 | CN105050764B | 2017-05-17 | A·N·布伦顿; 西蒙·约翰·亨里 |
| 限定了一种用于形成多个激光束组(2、2’、2”)的设备和方法。每组(2、2’、2”)可包括两个或多个激光束。所述设备包括第一衍射光学元件(3，称为DOE)以及第二衍射光学元件(8)，第一DOE(3)被设置为接收第一激光束(1)并将其分成多个第二激光子光束，并且第二DOE(8)被设置为接收所述多个第二激光子光束并将每个第二激光子光束分成两个或多个第三激光子光束组(2、2’、2”)，这些组在垂直于第一轴的方向上的间距可通过第一DOE(3)绕自身光轴的旋转来调节，并且每组内第三激光子光束(2、2’、2”)在垂直于所述第一轴的方向上的间距可通过第二DOE(8)绕自身光轴的旋转来调节。 | ||||||
| 225 | 曝光装置、掩膜板及曝光方法 | CN201410025069.X | 2014-01-20 | CN104793467B | 2017-05-17 | 伍强; 刘畅; 郝静安; 胡华勇; 刘洋 |
| 一种曝光装置、掩膜板其曝光方法，其中所述曝光装置包括：光刻系统光源对称性的检测方法，包括：掩膜板载物台，用于装载掩膜板，能够载着所述掩膜板沿曝光扫描方向往复运动；晶圆载物台，位于所述掩膜板载物台下方，用于装载晶圆，能够载着所述晶圆沿曝光扫描方向往复运动；控制单元，用于控制所述掩膜板载物台和所述晶圆载物台的运动，其中，所述控制单元能够控制所述掩膜板载物台和所述晶圆载物台相互配合运动，使得所述掩膜板载物台上的掩膜板上的至少两个掩膜图形区域沿曝光扫描方向、依次连续地被投影在所述晶圆载物台上的晶圆上的对应的至少两个待曝光区域。本发明的曝光装置及其曝光方法可以提高曝光效率。 | ||||||
| 226 | 曝光方法以及器件制造方法 | CN201510058647.4 | 2004-02-26 | CN104678715B | 2017-05-17 | 长坂博之 |
| 本发明提供一种曝光方法以及器件制造方法。曝光装置是通过使光线经过规定图案再透过一种液体投影到感光基板上来使感光基板曝光的。曝光装置有一套用于投影的投影光学系统和用于供给液体到感光基板上从而在部分感光基板上形成液体浸入区域的液体供给机构。液体供给机构向感光基板供给液体。供给的液体同时向投影区四周扩散。曝光装置能通过回收液体很好地保持液体浸入区域，所以能阻止液体流向浸入区外面并且能很好地曝光。 | ||||||
| 227 | 中性层聚合物、其制备方法以及包含该聚合物的制品 | CN201410288684.X | 2014-06-24 | CN104231514B | 2017-05-17 | R·夏尔马; P·D·胡斯塔德; P·特雷福纳斯三世; D·王; 李明琦; J·J·张 |
| 本发明公开了一种嵌段共聚物，该嵌段共聚物包含第一段和第二段，所述第一段和第二段互相共价结合，而且在化学上互不相同；其中所述第一段具有第一表面自由能，所述第二段具有第二表面自由能；以及附加共聚物；所述附加共聚物包含表面自由能降低的部分，所述表面自由能降低的部分的表面自由能小于第一段和第二段的表面自由能；所述附加共聚物还包含一种或多种与嵌段共聚物有亲合性的部分；所述表面自由能降低的部分在化学上不同于所述第一段和第二段；所述附加共聚物不能与水混溶；所述附加共聚物未与所述嵌段共聚物共价结合。 | ||||||
| 228 | 基板处理系统和基板搬送方法 | CN201210435430.7 | 2012-11-05 | CN103094164B | 2017-05-17 | 中原田雅弘; 酒田洋司; 宫田亮; 林伸一; 榎木田卓; 中岛常长 |
| 本发明提供一种基板处理系统和基板搬送方法。涂敷显影处理系统的交接站（5）具有：将晶片搬入到曝光装置之前至少清洗晶片的背面的晶片清洗单元（141）、至少对清洗后的晶片的背面在其被搬入到曝光装置之前检查该晶片能否在曝光装置中进行曝光的晶片检查单元（142）、具有在各单元（141、142）之间搬送基板的臂的晶片搬送装置（120、130）和控制晶片搬送装置（120、130）的动作的晶片搬送控制部。晶片搬送控制部控制晶片搬送装置（120、130），使得当检查的结果被判断为，晶片的状态是通过由清洗单元（141）再清洗成为能够曝光的状态时，再次将该晶片搬送到清洗单元（141）。 | ||||||
| 229 | 检查装置、检查方法和设备制造方法 | CN201580037024.7 | 2015-06-19 | CN106662824A | 2017-05-10 | A·辛格; H·P·M·佩莱曼斯; P·沃纳尔 |
| 检查装置(100)用于测量衬底上的目标。相干辐射跟随用于照射目标(T)的照射路径(实线)。收集路径(虚线)收集来自目标的衍射辐射并且将其传递至锁定图像检测器(112)。参考束跟随参考路径(点线)。声光调制器(108)偏移参考束的光学频率，使得锁定检测器处的辐射的强度包括时变分量，其具有与衍射辐射与参考辐射的频率之间的差相对应的特征频率。锁定图像检测器记录表示时变分量的幅度和相位的二维图像信息。具有不同偏移(110)的第二参考束跟随第二参考路径(点划线)。两个参考束之间的敢骚扰可用于强度标准化。 | ||||||
| 230 | 光刻设备和制造光刻设备的方法 | CN201580035549.7 | 2015-06-04 | CN106662822A | 2017-05-10 | G·彼得斯; T·W·波莱; J·J·M·巴塞曼斯; W·J·博曼; T·M·默德曼; C·M·诺普斯; B·斯米特斯; K·斯蒂芬斯; R·范德哈姆 |
| 一种浸没光刻设备包括：投影系统，用于通过投影系统的最终透镜元件的光学上有效的部分将图案化的辐射束朝向由衬底台支撑的衬底投影，最终透镜元件具有露出的底部表面；液体限制结构，被配置用于将浸没液体供给至浸没空间并限制在浸没空间中，所述浸没空间在投影系统的最终透镜元件与由衬底和衬底台中的至少一个形成的表面之间；和处于投影系统与液体限制结构之间的通路形成件，以及在通路形成件与最终透镜元件的光学上有效的部分之间的通路，所述通路通过开口与浸没空间液体连通，并且相对于投影系统的光轴沿径向向外延伸至少至最终透镜元件的露出的底部表面的边缘，所述通路被构造和配置成使得在使用时通过毛细作用、由来自浸没空间的液体填充所述通路。 | ||||||
| 231 | 具有含脂肪族多环结构的有机基团的含硅抗蚀剂下层膜形成用组合物 | CN201580038119.0 | 2015-07-10 | CN106662821A | 2017-05-10 | 柴山亘; 志垣修平; 中岛诚; 武田谕; 若山浩之; 坂本力丸 |
| 本发明的课题是提供，在将上层抗蚀剂曝光并利用碱性显影液、有机溶剂进行显影时可以形成优异的抗蚀剂图案形状的抗蚀剂下层膜及其形成用组合物。本发明的解决方法是一种含有脂肪族多环结构的光刻用抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含作为硅烷的水解性硅烷、其水解物、其水解缩合物、或它们的组合，脂肪族多环结构是式(1)(式(1)中，R1是含有脂肪族多环结构且通过Si‑C键与Si原子结合的有机基团。R3表示乙氧基。a表示1，b表示0～2的整数，a+b表示1～3的整数。)所示的水解性硅烷具有的结构、或者以可具有双键、羟基、或环氧基的脂肪族多环化合物、脂肪族多环式二羧酸、或脂肪族多环式二羧酸酐的形式添加的化合物中包含的结构。R1aR2bSi(R3)4‑(a+b)式(1)。 | ||||||
| 232 | 液体阻焊剂组合物和被覆印刷线路板 | CN201480079956.3 | 2014-12-10 | CN106662807A | 2017-05-10 | 酒井善夫; 樋口伦也; 滨田亘人; 三宅得山 |
| 本发明旨在提供一种液体阻焊剂组合物，其具有高反射性并且能够形成具有受抑制的尤其是归因于光的劣化的阻焊剂层。根据本发明的液体阻焊剂组合物含有：含羧基树脂、含有选自由可光聚合单体和可光聚合预聚物组成的组中的至少一种化合物的可光聚合化合物、光聚合引发剂、二氧化钛、和具有环状醚骨架的化合物。二氧化钛含有由硫酸法制造的金红石型二氧化钛和由氯法制造的金红石型二氧化钛二者。 | ||||||
| 233 | 一种简易型自动台框结构 | CN201710114442.2 | 2017-02-28 | CN106647191A | 2017-05-10 | 刘闯; 黄玲玲 |
| 本发明公开了一种简易型自动台框结构，包括上框模组、下框模组、气缸开启模组、后钮座组，所述上框模组一侧面通过铰接连接下框模组，所述下框模组两侧均固定设置气缸开启模组，所述上框模组右侧固定设置后钮座组，所述上框模组包括上玻璃、玻璃保护框、玻璃固定块、CF轴承固定块，所述上玻璃周边设置玻璃保护框，所述上玻璃左边固定设置下玻璃固定块，所述下框模组包括下铝框、下玻璃、下玻璃固定条，所述下铝框上固定设置下玻璃，所述下玻璃周边固定设置下玻璃固定条。该一种简易型自动台框结构，设置气缸和凸轮机构，可以方便地对上框模组进行自动操作。 | ||||||
| 234 | 双面ITO薄膜的光刻方法 | CN201710114341.5 | 2017-02-28 | CN106647190A | 2017-05-10 | 王浩; 崔旭光; 趙漢華; 王艳卿 |
| 本发明公开了一种双面ITO薄膜的光刻方法，通过将曝光机上的F面掩膜版和B面掩膜版的对位Mark分别转化为第一ITO玻璃基板的F面ITO玻璃图的对位Mark和第二ITO玻璃基板的B面ITO玻璃图的对位Mark，并利用第一ITO玻璃基板的F面ITO玻璃图的对位Mark和第二ITO玻璃基板的B面ITO玻璃图的对位Mark来解决实现形成双面ITO薄膜片材上F面ITO图形和B面ITO图形的对位问题，从而在ITO FILM的B面涂布了感光胶导致CCD无法精确捕捉不到ITO FILM的F面的对位Mark的情况下，能够保证ITO FILM的F面、B面这两面的ITO FILM光刻图形mark的位置偏差小于0.2mm，提高曝光精度。 | ||||||
| 235 | 一种小周期阵列结构的制备方法 | CN201710029268.1 | 2017-01-16 | CN106647187A | 2017-05-10 | 顾长志; 潘如豪; 李俊杰; 刘哲; 唐成春; 杨海方 |
| 本发明公开了一种小周期阵列结构的制备方法，涉及二维微纳器件技术领域。所述制备方法用于在衬底上制备小周期阵列结构，包括：步骤一，在衬底上旋涂光刻胶；步骤二，在光刻胶上采用电子束光刻工艺扫描曝光图形，得到光刻胶图形，其中，所述电子束光刻工艺曝光的步长为大步长，以保证两电子束斑之间的光刻胶不会被曝光；步骤三，将光刻胶图形转移到衬底上，得到样品；步骤四，将所述样品置于去胶液中，获得所述衬底上的小周期阵列结构。采用本发明的制备方法，利用电子束曝光的步长与剂量控制，在大面积图案上扫描时电子束曝光区域成为小周期阵列图形，具有制备快速、可控性好、低成本和可大面积制备等特点。 | ||||||
| 236 | 复眼匀光系统、光学引擎及光源优化装置 | CN201611062008.6 | 2016-11-25 | CN106647179A | 2017-05-10 | 闫俊刚 |
| 本发明提供了一种复眼匀光系统、光学引擎及光源优化装置，涉及光刻直写曝光机及投影显示的技术领域，本发明公开的一种复眼匀光系统，其中，平行入射光依次经过第一镜片、第二镜片、第三镜片和第四镜片；第二镜片和第三镜片的相对面均设有第一复眼透镜阵列；第一镜片和第四镜片的背离面均设有第二复眼透镜阵列；第一镜片的第二复眼透镜阵列中各小透镜的焦点与第二镜片的第一复眼透镜阵列中对应的小透镜的光心重合；第三镜片的所述第一复眼透镜阵列中各小透镜的焦点与第四镜片的所述第二复眼透镜阵列中对应的小透镜的光心重合。解决DI曝光时能量分布不均匀的问题，可以实现光线的有效均匀化，使DI最后曝光时能够获得所需要的均匀能量。 | ||||||
| 237 | 光直写成像设备以及系统 | CN201611051329.6 | 2016-11-25 | CN106647178A | 2017-05-10 | 王喜宝 |
| 本发明提供了一种光直写成像设备以及系统，涉及光刻技术领域，包括精密位移平台、精密位移平台控制器、空间光调制器、空间光调制器控制模块、光源、光源控制器；精密位移平台每移动一个设定的触发距离，精密位移平台控制器分别向空间光调制器控制模块与光源控制器输出一个脉冲信号；空间光调制器控制模块根据每次接收到的脉冲信号的触发沿，控制空间光调制器的内部镜片装置运行一个固定时间的过渡过程；光源控制器根据每次接收到的脉冲信号的触发沿，控制光源发出脉冲光的占空比。实现了在镜片装置微镜翻转的过渡过程中，关闭光源输出，减少了成像系统杂散光，提高了印制电路板的曝光效果。 | ||||||
| 238 | 一种感光性树脂组合物及其应用 | CN201710002459.9 | 2017-01-03 | CN106647168A | 2017-05-10 | 王胜林; 黎厚明 |
| 一种感光性树脂组合物，用作液晶显示面板的光敏性间隔物，其特征在于，该感光性树脂组合物由按照重量份数计算的下列组分组成：高分子树脂(A)1～50份、光引发剂(B)0.1～20份、活性单体(C)1～40份、流平剂(D)0.1～10份、溶剂(E)40～90份；该高分子树脂(A)具有两个共嵌段，第一个共嵌段是含有酸基的聚氨酯链段(A‑1)，另一个共嵌段是含有乙烯基的链段(A‑2)，该高分子树脂(A)的通式表示如下：这种感光性组合物用于液晶显示面板(TFT‑LCD)制作的光敏性间隔物(photo spacer)。 | ||||||
| 239 | 一种佳能光罩制作色阻层的挡板标识及其使用方法 | CN201611225177.7 | 2016-12-27 | CN106646997A | 2017-05-10 | 熊源 |
| 本发明涉及液晶显示技术领域的一种佳能光罩制作色组层的挡板标识及其使用方法。所述挡板标识包括前制程层和色阻层，所述的前制程层上形成有刻度标尺，且所述刻度标尺至少有一部分与色阻层重叠。所述的色阻层为间隔设置的平行条带结构，且相邻条带在水平方向上的投影相接和/或部分重叠。制作完色阻层后，通过观察色阻层对前制程层中的刻度标尺的覆盖情况，既可判断色阻层制作时挡板的遮挡距离是否合理，是否需要补偿。另外，所述挡板标识中的色阻层为间隔设置的平行条带结构，相邻条带在水平方向上的投影相接和/或部分重叠，既能使色阻层的至少一部分与前制程层上的刻度标尺重叠，又克服了色阻曝光解析度低的问题。 | ||||||
| 240 | 放电灯用电极的制造方法以及具有利用该制造方法制造出的放电灯用电极的放电灯 | CN201380048037.5 | 2013-09-09 | CN104641445B | 2017-05-10 | 早川壮则; 馆林和人; 芹泽和泉; 小平宏; 石锅荣彦; 本多友彦; 古畑肇; 小松丰; 泷泽秀一 |
| 本发明的放电灯用电极的制造方法是利用固相接合来制造放电灯用电极的方法，在本方法中，使柱状的前端固体部件与柱状的主体固体部件经由彼此的接合面进行固相接合，其中，所述前端固体部件构成电极前端部的至少一部分，且含有发射体，所述主体固体部件至少构成电极主体部，且具有直径比前端固体部件的接合面大的接合面，针对通过固相接合而生成的电极材料，以形成锥状的电极前端部的方式实施切削加工。 | ||||||
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