子分类：
- G03F7/0002： .{应用除那些涉及放射线曝光方法外的背景重叠方法的平版印刷加工;例如压印}
- G03F7/0005： .{就以平版印刷加工或因此所使用的材料来区分的光学设备或元件的产品}
- G03F7/0012： .{制造过程中黏性平版印刷材料的用途,例如:用于安装;平版印刷材料的包装;通过加工照相平版印刷材料获得的包装}
- G03F7/0015： .{光圈装置的生产,多微孔系统或印记}
- G03F7/0017： .{用于压纹,切割或或类似装置的生产;用于铸造装置的生产}
- G03F7/002： .{应用包括微囊的材料;准备或加工此类材料,例如:通过加压;因此专门设计的装置或设备}
- G03F7/0035： .{多次加工,例如:对在前一步骤中已有保护层的加更深的保护层,加工有图案或纹路的表面}
- G03F7/0037： .{三维立体图像产品}
- G03F7/004： .感光材料(G03F7/12,G03F7/14优先)
- G03F7/12： .网屏印刷模或类似印刷模的制作,例如,镂花模版的制作
- G03F7/14： .珂罗版印刷模的制作
- G03F7/16： .涂层处理及其设备(用于基底材料涂层一般入B05;用于摄影目的而施加到基底上的感光成分入G03C1/74)
- G03F7/20： .曝光及其设备(复制用照相印制设备入G03B27/00)
- G03F7/26： .感光材料的处理及其设备(G03F7/12至G03F7/24优先)
- G03F7/70： .{用于显微光刻的曝光装置}
| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 41 | 图形形成法 | CN96108243.7 | 1996-07-18 | CN1147621C | 2004-04-28 | 李相均 |
| 一种图形形成法包括下列工序：在基板上形成不溶于刻蚀溶液的金属电镀薄膜；在电镀薄膜上形成光致抗蚀薄膜；用预定的光掩模图形将光致抗蚀薄膜曝光然后显影，由此制取光致抗蚀图形；用光致抗蚀图形作为掩模制取电镀薄膜图形；完全清除光致抗蚀图形；用电镀薄膜图形作为刻蚀掩模刻蚀基片，然后完全清除电镀薄膜图形。本发明由于用电镀薄膜图形代替了光致抗蚀图形作为基片刻蚀工序中的刻蚀掩模，故可准确精密加工引线框架。 | ||||||
| 42 | 尤其用于喷油嘴的孔板 | CN96190019.9 | 1996-03-23 | CN1144943C | 2004-04-07 | 斯特芬·阿恩特; 迪特马尔·哈恩; 海因茨·富克斯; 戈特弗里德·弗利克; 冈特·丹特茨; 吉尔贝特·默施; 德特勒夫·诺瓦克; 乔尔格·海泽; 比斯·瓦尔茨; 弗兰克·沙茨 |
| 本发明提出一种用于喷油嘴的孔板，它包含一用于液体流动的完整的通道、至少一进入孔和至少一排出孔，该进入孔和排出孔在一平面上的投影中无任何部位相互覆盖，其中，每个进入孔都被设置于孔板的一上层内，每个排出孔都设置于孔板的一下层内，其中，在所述上层和下层之间至少另外设置了一中间层，该中间层至少具有一通道，该通道将至少一进入孔与至少一排出孔相连通，孔板的上下相互重叠的层是相互上下重叠电镀沉积上的。替换地，孔板的进入孔、排出孔及通道可借助于电火花加工、线切割或冲压制成。所述孔板也可由塑料或者由一种陶瓷材料制成。该孔板尤其适合应用于燃料喷射装置中的喷油嘴、喷墨嘴或用在升华干燥方法中。 | ||||||
| 43 | 应用高能光源制造微型构造的方法 | CN02105093.7 | 2002-02-20 | CN1396493A | 2003-02-12 | 李承燮; 李成根; 李光哲 |
| 一种应用X射线制造微型构造的方法，包括以下步骤：选择感光材料的一个部位暴露于高能光源中，该选择暴光步骤通过一个用于限定微型构造的图形的光掩模来完成，以及进行仅使感光材料暴光部分的上部熔化和变形的一个热处理步骤，当感光材料暴光部分的上部被暴露于X射线中时，它受到大约1kJ/cm3－20kJ/cm3的能级的作用。 | ||||||
| 44 | 为微型机械装置提供牺牲分隔层的方法 | CN95107256.0 | 1995-06-19 | CN1099614C | 2003-01-22 | 詹姆斯·C·贝克; 斯科特·H·普伦格 |
| 一制作微型机械装置的方法，其采用从一基底高起的支承件支承可运动件。首先，制作有反射性顶面的支承件。然后在支承件上沉积一层光刻胶，使其厚度基本上覆盖反射性顶面。将光刻胶层曝光，产生出在支承件之上的曝光强的区域和在各支承件之间的曝光弱的区域。这样使得可对后续的显影工序进行控制，使在各支承件之间的光刻胶材料被除去一些之后的高度与支承件的反射性顶面在同一平面内，同时保证将支承件之上的光刻胶材料除去。 | ||||||
| 45 | 压花的底片和光感受器装置及其制造方法 | CN96191906.X | 1996-11-07 | CN1086630C | 2002-06-26 | 格雷戈里·F·戴维斯 |
| 一种压花底片(21)包括一塑料底片(22)并具有一表面，并且该底片表面带有一压花表面(62)。压花表面的特征是，它具有一平均粗糙度为100-300毫微米的图形，该粗糙度在该表面(62)上基本均匀分布。该图形具有脊和谷，在相邻脊和/或谷之间的水平距离比脊和谷之间的深度大。峰和谷是无规律无周期地分布，当具有薄平有机深层的压花表面(62)暴露在光中时，在压花表面上产生光线扩散，以将干涉效应减到最小或消除。 | ||||||
| 46 | 交叉光栅光子晶体以其多次曝光的制造工艺 | CN99814054.6 | 1999-06-02 | CN1329727A | 2002-01-02 | J·-C·科特伏特; B·达赫马尼; C·伦瓦泽 |
| 通过先后或同时进行两次干涉曝光来制造交叉光栅光子晶体的方法。该方法用光刻法形成一个在原位的掩蔽元件,用光掩模(46)让置于不透明膜(42)上面的光致刻蚀剂(44)曝光,并将带图案的光致刻蚀剂(52)用作掩模,腐蚀掉金属层,在衬底(40)上形成带图形的金属膜(56),由此形成带图案的交叉光栅光子晶体。然后,对带图案的金属膜涂以第二光致刻蚀剂(58),通过衬底(40)的背面对两个同时投射的干涉图案(60)对其曝光,然后显影生成图5I所示的图案。所得的制品可以用作波导、耦合器、分束器和波分复用器。 | ||||||
| 47 | 微小型结构及其制造方法 | CN93116450.8 | 1993-08-21 | CN1077300C | 2002-01-02 | 范龙身; 汉斯·赫尔姆特·扎普 |
| 一种制造集成化独立式微小型结构的方法，选定一种衬底材料；在衬底材料表面上演积一层保护材料；将保护层刻成图案以规定一种形状；在保护层上淀积一层光敏抗蚀材料；用反差增强光刻法，将光敏抗蚀层刻成图案，以形成一个光敏抗蚀型模；在光敏抗蚀型模上，电镀上一层金属层材料，所述光敏抗蚀层被制成图案，以提供具有至少9∶1的纵横比的独立金属结构；以及应用蚀刻剂来溶去光敏抗蚀型模和保护层，以形成一个独立式的金属结构。 | ||||||
| 48 | 用于制作供压制特定光盘用的模具的主盘及其制作方法 | CN94102768.6 | 1994-02-03 | CN1062966C | 2001-03-07 | J·列迪伊; J·-F·迪弗雷纳 |
| 用于制作模具特别是那种用于压制光盘的模具的原始主盘和相应的制作方法，以及由这种主盘制作的压模和用这种主盘和这种压模制作的光盘。该主盘包括有一个底片，在其表面上具有可反映所要复制的信息的一系列的微型沟槽，且是由可在近红外区产生反射的硬质导电材料组成。这种材料可为锆、铪或钛的氮化物或碳氮化物，仅在表面处导电的可在近红外区产生反射的硬质陶瓷，或是仅在表面处导电的可在近红外区产生反射的硬质玻璃等等。 | ||||||
| 49 | 斯腾特氏支架的制备方法 | CN98803235.X | 1998-04-02 | CN1250488A | 2000-04-12 | 托马斯·特罗茨纳; 格里·戈姆林格 |
| 本发明公开一种斯腾特氏支架的制备方法,其涉及无需平面图案的边缘连接从而没有接点的加工管件。该方法包括步骤:将污物从管件(20)上除掉,用光敏抗蚀剂材料(24)涂覆金属管件外表面,将管件置于设计的装置内的同时旋转管件,同时使特定构型的照相框架负片在UV光源和管件(26)之间通过,将管件外表面裸露于光抗蚀剂显影液一定时间(28),将多于的显影液和未老化的刻蚀剂从管件外表面淋洗掉(30),用电化学方法处理管件除掉未被覆盖的金属(32)。 | ||||||
| 50 | 图形形成法 | CN96108243.7 | 1996-07-18 | CN1148637A | 1997-04-30 | 李相均 |
| 一种图形形成法包括下列工序：在基板上形成不溶于刻蚀溶液的金属电镀薄膜；在电镀薄膜上形成光致抗蚀薄膜；用预定的光掩模图形将光致抗蚀薄膜曝光然后显影，由此制取光致抗蚀图形；用光致抗蚀图形作为掩模制取电镀薄膜图形；完全清除光致抗蚀图形；用电镀薄膜图形作为刻蚀掩模刻蚀基片，然后完全清除电镀薄膜图形。本发明由于用电镀薄膜图形代替了光致抗蚀图形作为基片刻蚀工序中的刻蚀掩模，故可准确精密加工引线框架。 | ||||||
| 51 | 尤其用于喷油嘴的穿孔盘及该穿孔盘的制造方法 | CN96190019.9 | 1996-03-23 | CN1147844A | 1997-04-16 | 斯特芬·阿恩特; 迪特马尔·哈恩; 海因茨·富克斯; 戈特弗里德·弗利克; 冈特·丹特茨; 吉尔贝特·默施; 德特勒夫·诺瓦克; 乔尔格·海泽; 比斯·瓦尔茨; 弗兰克·沙茨 |
| 一种穿孔盘，包含一用于液体尤其是燃料流动的完整的通道，该通道由进气孔(36)、出气孔(38)和至少一位于其间的通道(42)组成。进气孔(36)和出气孔(38)同样置于穿孔盘(23)内，但是径向偏移，通过出气孔(38)相对于进气孔(36)的偏移设置，形成介质的一S形流动，由此形成一具雾化效果的湍流。该穿孔盘尤其适合应用于燃料喷射装置中的喷油嘴、喷墨嘴或升华干燥方法。 | ||||||
| 52 | 制造锥形的光聚合波导阵列的方法 | CN94194800.5 | 1994-10-18 | CN1141088A | 1997-01-22 | K·W·贝森; S·M·兹姆尔曼; P·M·弗姆; M·J·麦克法兰德 |
| 本发明涉及一种制造锥形的光聚合波导阵列的方法。该锥形波导可用于直视和投影式显示装置。在步骤(a)中，将具有不透明区和透明区的光掩模置于与基底牢固接触的位置。在步骤(b)中，在基底上放置一层厚度基本上均匀的可光聚合混合物，使基底位于可光聚合混合物和光掩模之间，其中(i)可光聚合混合物包含至少一种活性单体和光引发剂，(ii)光引发剂的用量足以在其后的步骤(c)中沿可光聚合混合物的整个厚度形成基本上准直的光化辐射梯度。在步骤(c)中，将可光聚合混合物和基底相对于与基本上准直的光化辐射保持在实际上固定的平面上，通过光掩模透明区用基本上准直的光化辐射使可光聚合混合物曝光，曝光时间足以形成光聚合的锥形波导阵列。其中(i)各波导的锥形端自基底向外延伸(ii)各波导有邻近基底的光输入表面和远离光输入表面的光输出表面，(iii)各波导的光输入表面的面积大于光输出表面的面积。在步骤(d)中，从基底上除去光掩模和在步骤(c)中未被基本上准直的光化辐射聚合的可光聚合混合物。 | ||||||
| 53 | 柔版印刷版及柔版印刷版的制造方法 | CN201680010723.7 | 2016-01-26 | CN107249900A | 2017-10-13 | 森川晴一郎 |
| 本发明提供一种能够抑制印刷版的图像部的尖端与被印刷体接触时的弹动来进行均匀图像的印刷的柔版印刷版及柔版印刷版的制造方法。图像部的从印刷方向的尖端侧起0.5mm～5mm为止的区域为高度低于除该区域以外的图像部的高度的低层化区域，低层化区域在与图像部的尖端侧的端边正交的方向上朝向非图像部逐渐变低。 | ||||||
| 54 | 纳米尺度下大面积散射场的快速测量方法及装置 | CN201410855944.7 | 2014-12-31 | CN104501738B | 2017-08-11 | 刘世元; 杜卫超; 张传维; 谭寅寅 |
| 本发明公开了一种纳米尺度下快速大面积海量散射场测量的装置，包括：起偏端，用于将光束进行调制得到一定偏振态的光束；检偏端，用于将偏振态光束进行解调以获得样品信息；还包括物镜和第一透镜，待测样品位于物镜的前焦面上，偏振态光束经过该第一透镜聚焦在物镜的后焦面，待测样品散射光被物镜收集并成像于其后焦面，进而成像于图像采集装置上；以及扫描振镜，用于使得所述物镜出射到样品上的光束角度改变，获得待测样品不同入射角下的散射场分布图像，实现对待测样品纳米尺度下的快速精确的形貌测量。本发明还公开了相应的测量方法。本发明可以实现对待测样品多入射角下散射场快速采集，获得待测样品散射场在物镜后焦面上分布。 | ||||||
| 55 | 无酵素葡萄糖检测晶片 | CN201610065296.4 | 2016-01-29 | CN107024525A | 2017-08-08 | 王国祯; 许哲玮; 杨敏聪; 廖学专; 彭柏佑 |
| 本发明提供一种无酵素葡萄糖检测晶片，包含有：一基板；一检测部，设于该基板的一端面；复数凸部，设于该检测部；一导电层，设于该基板具有该等凸部的一面；复数金纳米颗粒，散设于各该凸部表面。制备方法为：首先，通过光微影蚀刻术，使该基板上具有光刻胶阵列后，进行光阻热熔法，通过加热软化该光刻胶阵列，再进行金薄膜溅射步骤，使该基板上具有金纳米薄膜，而后使金纳米粒子设置于各该具有金薄膜的凸部表面，而得。本发明提供的无酵素葡萄糖检测晶片及其制备方法，能在无葡萄糖氧化酶的环境下直接且准确地检测样本中葡萄糖浓度，而能减少传统血糖检测因为试纸酵素变质所造成的误差，并且制作过程简单、成本低、容易保存。 | ||||||
| 56 | 检测器、压印装置以及物品制造方法 | CN201510210155.2 | 2012-10-16 | CN104792344B | 2017-06-20 | 岩井俊树; 三岛和彦; 前田普教; 箕田贤 |
| 一种检测器、压印装置以及物品制造方法，该检测器用于检测由形成在第一和第二物体上的标记衍射的衍射光分量的干涉光，该检测器包括：照明光学系统，被配置为形成包括第一极和第二极的强度分布，第一极和第二极对布置在第一物体上的第一标记和布置在第二物体上的第二标记进行照明；以及检测光学系统，被配置为检测由被照明光学系统照明的第一标记和第二标记衍射的光分量的干涉光。检测光学系统检测当第一极的光被照射在第一标记和第二标记上并被第一标记和第二标记衍射时生成的衍射光分量的干涉光。检测光学系统不检测当第二极的光被照射在第一标记和第二标记上并被第一标记和第二标记衍射时生成的衍射光分量。 | ||||||
| 57 | 量子点层的制造方法和转移方法以及量子点光电器件 | CN201210328278.2 | 2012-09-06 | CN102983230B | 2017-04-12 | 金泰豪; 赵庆相; 丁大荣; 崔秉龙 |
| 本发明提供量子点层的制造方法和转移方法以及量子点光电器件。该量子点层的制造方法包括：在源基板上顺次堆叠自组装单层、牺牲层和量子点层；在量子点层上设置印模；拾取牺牲层、量子点层和印模；以及采用溶解牺牲层的溶液从量子点层去除牺牲层。 | ||||||
| 58 | 形成图案的方法 | CN201510744838.6 | 2015-11-05 | CN106298463A | 2017-01-04 | 施江林; 许书豪; 王雅志 |
| 本发明公开了一种形成图案的方法。首先,在衬底上形成一图案化核心层。接着,均匀地在图案化核心层与衬底上形成间隙层,并且定义出多个被间隙层包围的第一凹陷区域。然后,进行回蚀刻工艺,暴露出图案化核心层与凹陷区域下方的衬底。再来,移除暴露的图案化核心层,形成多个同样被间隙层包围的第二凹陷区域。接着,在第一凹陷区域与第二凹陷区域内填入定向自组装材料,然后诱发定向自组装材料进行定向自组装过程。填充在第一凹陷区域与第二凹陷区域内的定向自组装材料会往凹陷区域的边界扩散,在第一凹陷区域与第二凹陷区域中间形成被自主装材料包围的孔洞。 | ||||||
| 59 | 包括细金属线的透明基板以及其制造方法 | CN201480000714.0 | 2014-03-07 | CN104350551B | 2016-11-30 | 裵成学; 韩尚澈; 金炳默 |
| 本发明涉及一种透明基板及其制造方法，其中所述透明基板包括：包括多个分别含有侧面和底面的沟槽的树脂图案层；以及，在所述沟槽内形成的导电层，其中所述导电层的线宽为0.1μm至3μm，并且所述导电层的平均高度为各个沟槽的最大深度的5％至50％，从而使制造过程简化并且使过程能够连续化，制造成本低廉，而且制造出具有优异的导电性和透明性特征的透明基板。 | ||||||
| 60 | 光致抗蚀剂面漆组合物和加工光致抗蚀剂组合物的方法 | CN201610300874.8 | 2016-05-09 | CN106154748A | 2016-11-23 | 刘骢; D·H·康; D·王; C-B·徐; M·李; I·考尔 |
| 光致抗蚀剂面漆组合物，其包含：包含通式(I)的第一重复单元和通式(II)的第二重复单元的第一聚合物：其中：R1独立地表示H、F或任选氟化的C1到C4烷基；R2表示任选氟化的直链、分支链或环状C1到C20烷基；L1表示单键或多价键联基团；并且n为1到5的整数；包含通式(III)的第一重复单元和通式(IV)的第二重复单元的第二聚合物：其中：R3独立地表示H、F或任选氟化的C1到C4烷基；R4表示直链、分支链或环状C1到C20烷基；R5表示直链、分支链或环状C1到C20氟烷基；L2表示单键或多价键联基团；并且n为1到5的整数；以及溶剂。还提供涂布有所述面漆组合物的经涂布衬底和加工光致抗蚀剂组合物的方法。本发明尤其适用于制造半导体装置。 | ||||||
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