子分类：
- G03F7/0002： .{应用除那些涉及放射线曝光方法外的背景重叠方法的平版印刷加工;例如压印}
- G03F7/0005： .{就以平版印刷加工或因此所使用的材料来区分的光学设备或元件的产品}
- G03F7/0012： .{制造过程中黏性平版印刷材料的用途,例如:用于安装;平版印刷材料的包装;通过加工照相平版印刷材料获得的包装}
- G03F7/0015： .{光圈装置的生产,多微孔系统或印记}
- G03F7/0017： .{用于压纹,切割或或类似装置的生产;用于铸造装置的生产}
- G03F7/002： .{应用包括微囊的材料;准备或加工此类材料,例如:通过加压;因此专门设计的装置或设备}
- G03F7/0035： .{多次加工,例如:对在前一步骤中已有保护层的加更深的保护层,加工有图案或纹路的表面}
- G03F7/0037： .{三维立体图像产品}
- G03F7/004： .感光材料(G03F7/12,G03F7/14优先)
- G03F7/12： .网屏印刷模或类似印刷模的制作,例如,镂花模版的制作
- G03F7/14： .珂罗版印刷模的制作
- G03F7/16： .涂层处理及其设备(用于基底材料涂层一般入B05;用于摄影目的而施加到基底上的感光成分入G03C1/74)
- G03F7/20： .曝光及其设备(复制用照相印制设备入G03B27/00)
- G03F7/26： .感光材料的处理及其设备(G03F7/12至G03F7/24优先)
- G03F7/70： .{用于显微光刻的曝光装置}
| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
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| 81 | 抗蚀剂下层膜形成用组合物和使用了该组合物的抗蚀剂图案的形成方法 | CN201180055104.7 | 2011-11-11 | CN103221888A | 2013-07-24 | 坂本力丸; 藤谷德昌; 远藤贵文; 大西龙慈; 何邦庆 |
| 本发明的目的是得到虽然包含苯环等芳香族环，但干蚀刻速度的选择比大、而且对降低在EUV(波长13.5nm)光刻中成为大问题的LER有用的用于形成抗蚀剂下层膜的组合物。另外，本发明的目的是得到使抗蚀剂下层膜上的抗蚀剂图案形成所期望的形状的、用于形成抗蚀剂下层膜的组合物。作为本发明的解决问题的方法是，一种光刻用抗蚀剂下层膜形成用组合物，其特征在于，包含聚合物和溶剂，上述聚合物是将二苯砜或其衍生物介由醚键导入该聚合物的主链而得的。 | ||||||
| 82 | 检测器、压印装置以及物品制造方法 | CN201210392532.5 | 2012-10-16 | CN103105127A | 2013-05-15 | 岩井俊树; 三岛和彦; 前田普教; 箕田贤 |
| 一种检测器、压印装置以及物品制造方法，该检测器用于检测由形成在第一和第二物体上的标记衍射的衍射光分量的干涉光，该检测器包括：照明光学系统，被配置为形成包括第一极和第二极的强度分布，第一极和第二极对布置在第一物体上的第一标记和布置在第二物体上的第二标记进行照明；以及检测光学系统，被配置为检测由被照明光学系统照明的第一标记和第二标记衍射的光分量的干涉光。检测光学系统检测当第一极的光被照射在第一标记和第二标记上并被第一标记和第二标记衍射时生成的衍射光分量的干涉光。检测光学系统不检测当第二极的光被照射在第一标记和第二标记上并被第一标记和第二标记衍射时生成的衍射光分量。 | ||||||
| 83 | 锍化合物、光致产酸剂及抗蚀剂组合物 | CN201210188863.7 | 2012-06-08 | CN102911094A | 2013-02-06 | 吴贞薰; 尹队卿; 赵承德; 朴素晶 |
| 本发明涉及锍化合物、光致产酸剂及抗蚀剂组合物。具体而言，本发明提供了由式(1)表示的锍化合物、包含所述锍化合物的光致产酸剂以及包含所述光致产酸剂的抗蚀剂组合物。其中在式1中，X表示给电子基团；R1和R2各自独立地表示烷基等；R4至R6各自独立地表示烷基等；R3表示亚环烯基等；且-A表示阴离子。所述锍化合物具有可通过向一个分子中的阳离子区域引入不同的吸收体而控制的光子产额，当所述锍化合物用作光致产酸剂时可克服使用不同的光致产酸剂的混合物的不便，具有优异的在抗蚀剂中的可混性且具有提高的分辨率和线边缘粗糙度。 | ||||||
| 84 | 形成模板的方法，图案化衬底的方法和用于所述方法的模板和图案化系统 | CN200880012252.9 | 2008-04-16 | CN101657757B | 2013-01-16 | 丹·B·米尔沃德 |
| 本发明揭示一种图案化衬底的方法。将墨水材料化学吸附到模板的至少一个区域上且将化学吸附的墨水材料转移到受体衬底上。所述墨水材料对所述受体衬底的化学亲和力大于对所述模板的至少一个区域的化学亲和力。本发明还揭示一种形成模板的方法，以及所述模板和一种图案化系统。 | ||||||
| 85 | 柔性版印刷前体及制造方法 | CN201180017311.3 | 2011-03-23 | CN102821959A | 2012-12-12 | O.梅拉梅德; I.加多; L.达汉 |
| 高分子量EPDM橡胶与低分子量(液体)EPDM橡胶的混合物提供高度有用的激光可烧蚀柔性版印刷胶版前体配制物。所述配制物通过纳入诸如炭黑等吸收IR的化合物而对红外辐射敏感。所述液体EPDM橡胶的包括避免了制造期间对于诸如操作油等增塑剂的需要，并提供提高的图像敏感度、印刷质量及运转时间。柔性版印刷胶版及印刷套筒二者均可使用所述EPDM橡胶的混合物来制得。 | ||||||
| 86 | 掩膜板、采用掩膜板制作阵列基板的方法、阵列基板 | CN201210306678.3 | 2012-08-24 | CN102819183A | 2012-12-12 | 廖燕平; 吕敬; 邵喜斌; 尹大根; 王英; 张振宇 |
| 本发明提供一种掩膜板、采用掩膜板制作阵列基板的方法、阵列基板，属于液晶显示领域。其中，该掩膜板应用于拼接曝光制作阵列基板，所述掩膜板包括相互平行的2n+1个掩膜图形，每个掩膜图形包括有对应阵列基板的数据信号线的遮光图案，其中，相邻掩膜图形之间的所述遮光图案为断续的，位于掩膜板中间的掩膜图形两侧的所述遮光图案为非对称的。本发明的技术方案能实现数据信号线在阵列基板中间断开，从而把一块完整的显示屏从驱动上分成相独立的上半部分和下半部分，实现在像素充电时间一定的条件下，提高液晶显示面板的图像扫描帧速，或者在液晶显示面板的图像扫描帧速一定的条件下，增大像素充电时间。 | ||||||
| 87 | 制备柔性版印刷套筒印版的方法 | CN200880107076.7 | 2008-09-05 | CN101855084B | 2012-11-14 | L·利恩德斯; E·戴姆斯 |
| 一种制备柔性版印刷套筒印版的方法，所述方法包括以下步骤：(i)通过在套筒载体上提供一个或多个至少部分固化的均匀层，形成套筒体；(ii)通过以成像方式喷射可固化的喷射流体，在所述套筒体上形成浮雕图像；(iii)任选全部后固化；其特征在于在形成套筒体和形成浮雕图像之间不进行抛光或研磨。 | ||||||
| 88 | 脱模性组合物及表面保护膜 | CN201080018811.4 | 2010-04-16 | CN102414278A | 2012-04-11 | 长谷川刚; 涉谷崇志; 新井裕之; 栗岛进 |
| 本发明提供一种具有透明性且可在涂膜表面上形成难以附着光致抗蚀剂的涂膜的脱模性组合物，及具有由该固化物构成的涂膜的表面保护膜。脱模性组合物包含粘合剂树脂、硅酮油、及金属醇盐的水解物。相对于100重量份的所述粘合剂树脂，所述金属醇盐的水解物含量优选为50～500重量份。所述金属醇盐包含四乙氧基硅烷或四甲氧基硅烷。表面保护膜为在基材上形成由所述脱模性组合物的固化物构成的涂膜而成。 | ||||||
| 89 | 利用X射线曝光的微细构造物的制造方法 | CN200980144661.9 | 2009-11-02 | CN102210008A | 2011-10-05 | 权泰宪; 李凤基; 金东成 |
| 为了容易形成具有立体形状的微细图案的微细构造物，本发明的微细构造物的制作方法包括：感光材料曝光步骤，设置X射线掩模并照射X射线，以侧面曝光的方式对感光材料进行曝光；感光材料蚀刻步骤，对已曝光的感光材料进行蚀刻；模具形成步骤，在已蚀刻的感光材料上填充金属，从而制作形成有微细图案的模具；模具模块形成步骤，将多个模具结合；以及微细构造物成型步骤，利用模具模块成型微细构造物。 | ||||||
| 90 | 实时监控光刻过程所用组合物的系统和方法 | CN200510053816.1 | 2005-03-11 | CN100510969C | 2009-07-08 | 李期范; 李载求; 朴美仙; 金钟民; 李敏键 |
| 本发明公开了监控光刻过程所用多组分组合物的系统和方法，该光刻过程用于制造半导体器件、液晶显示设备等等，该组合物如光刻胶、剥离剂、显影剂、蚀刻剂、稀释剂、漂洗剂/清洁剂和蚀刻边胶清除剂。所述系统包括：组合物循环装置，其用于从贮存光刻过程所用组合物的储罐中抽取所述组合物，并将所抽取的组合物通过流动池循环回所述储罐；组合物分析装置，其用于测量流经所述流动池的组合物的吸光度，并从所测得的吸光度计算该组合物的至少一种组分的浓度；组分供应装置，其用于在某些组分的浓度低于预定水平时向所述储罐提供所缺乏的组分；及控制装置，其用于根据所述吸光度对所述组分供应装置进行控制，以调节所述组合物的每种组分的浓度。 | ||||||
| 91 | 应用高能光源制造微型构造的方法 | CN02105093.7 | 2002-02-20 | CN1291274C | 2006-12-20 | 李承燮; 李成根; 李光哲 |
| 一种应用X射线制造微型构造的方法，包括以下步骤：选择感光材料的一个部位暴露于高能光源中，该选择暴光步骤通过一个用于限定微型构造的图形的光掩模来完成，以及进行仅使感光材料暴光部分的上部熔化和变形的一个热处理步骤，当感光材料暴光部分的上部被暴露于X射线中时，它受到大约1kJ/cm3-20kJ/cm3的能级的作用。 | ||||||
| 92 | 变色组合物及由其制造的有色聚合物产品 | CN99810390.X | 1999-07-23 | CN1248047C | 2006-03-29 | D·B·施尔利; I·M·施尔利; A·H·波帕特; M·R·爱德华兹; K·T·麦卡隆; H·B·舍尔 |
| 提供生产其上有所希望图像的聚合物层、或由多个所述聚合物层组成的三维物件的方法，其中含有可光染色颗粒的液态可光固化组合物的层用光固化，并且选择某些区域用不同剂量的光照射，由此形成所需图像。所述组合物含有分散于其中的颗粒，颗粒是含有处于阻隔层中的感光变色组合物的微胶囊，所述阻隔层基本上不透过变色组合物的各成分。或者所述颗粒是含不流动感光变色组合物的固体颗粒。该方法允许树脂固化和颗粒颜色改变使用相同的引发机理。 | ||||||
| 93 | 实时监控光刻过程所用组合物的系统和方法 | CN200510053816.1 | 2005-03-11 | CN1667514A | 2005-09-14 | 李期范; 李载求; 朴美仙; 金钟民; 李敏键 |
| 本发明公开了监控光刻过程所用多组分组合物的系统和方法，该光刻过程用于制造半导体器件、液晶显示设备等等，该组合物如光刻胶、剥离剂、显影剂、蚀刻剂、稀释剂、漂洗剂/清洁剂和蚀刻边胶清除剂。所述系统包括：组合物循环装置，其用于从贮存光刻过程所用组合物的储罐中抽取所述组合物，并将所抽取的组合物通过流动池循环回所述储罐；组合物分析装置，其用于测量流经所述流动池的组合物的吸光度，并从所测得的吸光度计算该组合物的至少一种组分的浓度；组分供应装置，其用于在某些组分的浓度低于预定水平时向所述储罐提供所缺乏的组分；及控制装置，其用于根据所述吸光度对所述组分供应装置进行控制，以调节所述组合物的每种组分的浓度。 | ||||||
| 94 | 微结构及其制造方法 | CN98115040.3 | 1998-06-19 | CN1182952C | 2005-01-05 | 加藤隆典; 张延平 |
| 一种制造一个微结构的方法，包括首先制备一个包括第一膜和紧贴在第一膜上的第二膜的叠层基底，第二膜是用可以被同步辐射光所蚀刻的材料制成。一个带有一种图形的掩模件紧贴在层叠结构的第二膜的表面上或者与第二膜表面保持一段距离，掩模件的图形是由同步辐射光不能透过的材料制成。然后使同步辐射光通过掩模件照射在第二膜的部分表面上以便将照射到的部分侵蚀掉并且将第一膜的部分表面区域暴露在一个蚀刻区域的底部上。 | ||||||
| 95 | 结晶装置和结晶方法 | CN200310104558.6 | 2003-10-31 | CN1498989A | 2004-05-26 | 谷口幸夫; 松村正清 |
| 一种结晶装置，它包括：一掩膜(1)；以及一照明系统(2)，该照明系统(2)利用一光束照射该掩膜，照明系统发出的光透过该掩膜时变成具有呈反向峰值图案的光强度分布的光束，并照射一多晶半导体膜或一非晶态半导体膜，由此产生一晶化半导体膜。该掩膜(1)包括一个光吸收层(1c)，该吸收层(11c)具有与呈反向峰值图案的光强度分布相应的光吸收特性。 | ||||||
| 96 | 制造微结构体的方法 | CN98119503.2 | 1998-09-18 | CN1145846C | 2004-04-14 | H·雷内克; N·卡皮茨; U·斯皮茨纳; R·-U·巴尔霍恩; B·谢菲梅尔 |
| 本发明涉及按照LIGA-法制造微结构，它是将塑料层用X-射线按图形深入照射。塑料层中形成的可溶性的或保持可溶性的部分用一种显影剂选择性地溶解。已知的塑料需要很大的照射耗费。本发明的制造方法采用光照硬化的环氧化物涂料，与已知的塑料对比，只需比较短的照射时间。该微结构可以具有很大的纵横比，并且在较大的结构深度下也可进行无异议的显影。制成的结构的精密度达到亚微米的范围。本方法可制成高质量的深度微结构，同时降低照射耗费，因而具有较大的经济性。 | ||||||
| 97 | 用于喷油嘴的孔片 | CN96190044.X | 1996-03-23 | CN1144944C | 2004-04-07 | 斯特凡·阿恩特; 迪特马尔·亨; 海因茨·富克斯; 格特弗里德·弗利克; 京特·丹特斯; 吉尔贝特·默尔施; 德特勒夫·诺瓦克; 约尔格·海泽; 贝亚特·沃尔兹; 弗朗克·舍茨 |
| 本发明提出了一种用于喷油嘴的孔片(23)，它由至少一种金属材料制成，包含一用于液体流动的完全贯通的通道，至少一进口(36)和至少一出口(38)，每一进口设置于该孔片的一上镀层(35，35’)或功能级层内，每一出口设置于孔片的一下镀层(37)或功能级层内，其中，该孔片的镀层或功能级层(35，35’，37，40，40’)被这样构造，即，这些相互重叠的层或功能级层借助于电镀金属沉积被直接相互重叠地电镀沉积上，进口和出口相互间至少部分地偏置。该孔片尤其适用于燃料喷射装置的喷油嘴、喷漆嘴、医用吸入器、喷墨打印机或冷冻干燥过程中，以完成液体例如饮料的喷入或喷射，药物的喷撒。 | ||||||
| 98 | 制造蚀刻高尔夫球棒零件的方法 | CN98804902.3 | 1998-03-18 | CN1119187C | 2003-08-27 | J·K·托纳; C·E·波普拉斯基 |
| 一种包括一个初步成形后要求有后续精整阶段的金属部分的高尔夫球棒零件(9)，此零件的表面具有在精整阶段结束后用光化学方法蚀刻的艺术图案(S)；蚀刻和制造金属零件的方法包括：在金属表面(20)上敷照相感光材料；使用印刷制版胶片(22)；利用后续的光化学蚀刻(27)对准备形成艺术图案的表面区域进行加工；然后将照相感光胶从金属表面(28)上撕去和用编程计算机在印刷制版胶片上制成定制的图样。 | ||||||
| 99 | 直接静电打印方法和设备 | CN98812386.X | 1998-12-17 | CN1090102C | 2002-09-04 | B·伯恩; M·莫斯伯格 |
| 本发明提供一种在一信息载体上记录图像的图像记录设备和方法。在记录过程中，一个中介图像接收件和一个打印头相对运动。图像记录设备包括一个中间图像接收件的位置测量装置，用以测量中介图像接收件相对于孔的位置，以便通过控制单元根据打印头和中间图像接收件之间的相对运动来同步选择性地打开和关闭穿过打印头的孔，从而能根据要记录的图像在中间图像接收件的预定位置上形成色剂图像。随后，色剂图像被转印到信息载体上。 | ||||||
| 100 | 直接静电打印方法和设备 | CN98812386.X | 1998-12-17 | CN1282295A | 2001-01-31 | B·伯恩; M·莫斯伯格 |
| 本发明提供一种在一信息载体上记录图像的图像记录设备和方法。在记录过程中,一个中介图像接收件和一个打印头相对运动。图像记录设备包括一个中间图像接收件的位置测量装置,用以测量中介图像接收件相对于孔的位置,以便通过控制单元根据打印头和中间图像接收件之间的相对运动来同步选择性地打开和关闭穿过打印头的孔,从而能根据要记录的图像在中间图像接收件的预定位置上形成色剂图像。随后,色剂图像被转印到信息载体上。 | ||||||
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