子分类：
- G03F7/0002： .{应用除那些涉及放射线曝光方法外的背景重叠方法的平版印刷加工;例如压印}
- G03F7/0005： .{就以平版印刷加工或因此所使用的材料来区分的光学设备或元件的产品}
- G03F7/0012： .{制造过程中黏性平版印刷材料的用途,例如:用于安装;平版印刷材料的包装;通过加工照相平版印刷材料获得的包装}
- G03F7/0015： .{光圈装置的生产,多微孔系统或印记}
- G03F7/0017： .{用于压纹,切割或或类似装置的生产;用于铸造装置的生产}
- G03F7/002： .{应用包括微囊的材料;准备或加工此类材料,例如:通过加压;因此专门设计的装置或设备}
- G03F7/0035： .{多次加工,例如:对在前一步骤中已有保护层的加更深的保护层,加工有图案或纹路的表面}
- G03F7/0037： .{三维立体图像产品}
- G03F7/004： .感光材料(G03F7/12,G03F7/14优先)
- G03F7/12： .网屏印刷模或类似印刷模的制作,例如,镂花模版的制作
- G03F7/14： .珂罗版印刷模的制作
- G03F7/16： .涂层处理及其设备(用于基底材料涂层一般入B05;用于摄影目的而施加到基底上的感光成分入G03C1/74)
- G03F7/20： .曝光及其设备(复制用照相印制设备入G03B27/00)
- G03F7/26： .感光材料的处理及其设备(G03F7/12至G03F7/24优先)
- G03F7/70： .{用于显微光刻的曝光装置}
| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 101 | 无需母片为媒介的制造光盘的型片的方法 | CN95102747.6 | 1995-02-14 | CN1056937C | 2000-09-27 | M·E·鲁曼-休斯肯; A·T·范德普拉特 |
| 本发明涉及一种制造光盘型片的方法，将光刻胶膜施加到一个未定型的型模板上，对该膜进行选择性地曝光和显影，构成光刻胶膜。可采用负性光刻胶或正性的光刻胶以不同的工艺来进行。 | ||||||
| 102 | 微结构及其制造方法 | CN98115040.3 | 1998-06-19 | CN1203148A | 1998-12-30 | 加藤隆典; 张延平 |
| 一种制造一个微结构的方法,包括首先制备一个包括第一膜和紧贴在第一膜上的第二膜的叠层基底,第二膜是用可以被同步辐射光所蚀刻的材料制成。一个带有一种图形的掩模件紧贴在层叠结构的第二膜的表面上或者与第二膜表面保持一段距离,掩模件的图形是由同步辐射光不能透过的材料制成。然后使同步辐射光通过掩模件照射在第二膜的部分表面上以便将照射到的部分侵蚀掉并且将第一膜的部分表面区域暴露在一个蚀刻区域的底部上。 | ||||||
| 103 | 压花的底片和光感受器装置及其制造方法 | CN96191906.X | 1996-11-07 | CN1173843A | 1998-02-18 | 格雷戈.·F·戴维斯 |
| 一种压花底片(21)包括一塑料底片(22)并具有一表面,并且该底片表面带有一压花表面(62)。压花表面的特征是,它具有一平均粗糙度为100—300毫微米的图形,该粗糙度在该表面(62)上基本均匀分布。该图形具有脊和谷,在相邻脊和/或谷之间的水平距离比脊和谷之间的深度大。峰和谷是无规律无周期地分布,当具有薄平有机深层的压花表面(62)暴露在光中时,在压花表面上产生光线扩散,以将干涉效应减到最小或消除。 | ||||||
| 104 | 印膜材料及印模材料的制作方法 | CN96107272.5 | 1996-03-29 | CN1140136A | 1997-01-15 | 栗山弘; 小平洋一; 宫坂治之; 堀内英树 |
| 本发明提供了使用感光性树脂液作为印模制作材料，在其搬运、保存，制作印章中是良好的材料，并提供了其制作方法。作为印模基材是使用了受光照射可由液体变成固体的感光树脂液73A的印模材料7，它具有印模底座71和、设置在印模底座印面形成侧的，可以曝光地封入感光性树脂液73A的树脂液封入部73和、一端连通树脂液封入部73的封入空间，另一端连接外部的注孔71b和、闭塞注入孔后，将感光性树脂液73A封入树脂液封入部73内的闭塞部件73B。树脂液封入部73，在印面形成后，至少可以除去覆盖印面部分。 | ||||||
| 105 | 平版印刷原版及用其制版的方法 | CN94190214.5 | 1994-04-19 | CN1107276A | 1995-08-23 | 高桥源昭; 栗原正明 |
| 本发明涉及一种热敏性平版印刷原版，它包括：基底，含亲水性纛剂聚合物的亲水性层和通过加热能形成图像区的微胶囊包裹的亲油性物质；该亲水性粘结剂聚合物具有三维交联和能够在微胶囊分解时与微胶囊中亲油性物质进行化学结合的官能团，而该微胶囊包裹的亲油性物质具有能够在微胶囊分解时与亲水性粘结剂聚合物进行化学结合的官能团。本发明的热敏性平版印刷原版表现出优异的印刷耐久性和贮存稳定性，并提供具有清晰图像的印刷品，因为该版不会积存污物。此外，在制版方法中不需要进行显影，因而不存在废液处理等问题。因此，该原版不仅这用于轻印刷如办公室印刷，但也适用于报纸凸版轻转印刷、表格印刷等。 | ||||||
| 106 | 简易制版方法及其装置 | CN94101568.8 | 1994-02-04 | CN1106545A | 1995-08-09 | 方进雄 |
| 一种简易制版方法，是在透明或半透明膜片上用着色剂直接印制成物理性正片文稿，再利用该文稿经拼版后对现有平面版进行曝光，经显影后即成为印刷版。一种可用来印制上述方法中所述的物理性正片文稿的装置，主要由稿台、光源、光学系统、感光元件、显像装置、馈送器、分离器、定像装置以及相应的电源组成。利用本发明所提供的简易制版方法及其装置，可以提高制版速度、降低制版成本、减少环境污染。 | ||||||
| 107 | 用于制作供压制特定光盘用的模具的主盘及其制作方法 | CN94102768.6 | 1994-02-03 | CN1097890A | 1995-01-25 | J·列迪伊; J·F·迪弗雷纳 |
| 用于制作模具特别是那种用于压制光盘的模具的原始主盘和相应的制作方法，以及由这种主盘制作的压模和用这种主盘和这种压模制作的光盘。该主盘包括有一个底片，在其表面上具有可反映所要复制的信息的一系列的微型沟槽，且是由可在近红外区产生反射的硬质导电材料组成。这种材料可为锆、铪或钛的氮化物或碳氮化物，仅在表面处导电的可在近红外区产生反射的硬质陶瓷，或是仅在表面处导电的可在近红外区产生反射的硬质玻璃等等。 | ||||||
| 108 | 微小型结构及其制造方法 | CN93116450.8 | 1993-08-21 | CN1085667A | 1994-04-20 | 范龙身; 汉斯·赫尔姆特·扎普 |
| 本方法包括选择一种衬底材料、在衬底材料上淀积一层保护材料、将保护层刻成图案以规定形状的步骤。在保护层上淀积一层光敏抗蚀材料，用反差增强光刻法，刻成图案以形成一光敏抗蚀型模并在其上电镀一层金属材料。电镀结构与光敏抗蚀层轮廓共形，而厚度可比通常的多晶硅微结构大许多倍。然后用蚀刻剂使光敏抗蚀型模和保护层溶去，以形成10—20微米厚的一个独立式金属结构，其纵横比可达9∶1到10∶1，甚至更高。 | ||||||
| 109 | 微型塑料结构及其制造方法 | CN87100180 | 1987-01-13 | CN87100180A | 1987-08-19 | 威尼·埃德蒙德·费利 |
| 本发明是一种热稳定微型塑料结构及其制造方法。通过使用特别设计的能满足所需结构的预定尺寸、长度、宽度和厚度的辐射衰减光掩膜，可从可交联光敏组合物制取该微型塑料结构。该微型塑料结构在200℃以上的温度下是稳定的，并可作为微型电子、机械、化学和光学设备元件，如用作集成在一块硅片上的灵活传感器。 | ||||||
| 110 | 一种金属掩膜及其制备方法 | CN201610379837.0 | 2016-06-01 | CN107447191A | 2017-12-08 | 高志豪 |
| 本发明提供一种金属掩膜，包括：开孔区，包括多个通孔；以及半开孔区，包括多个凹槽，所述多个凹槽表面低于所述金属掩膜的表面；其中,所述开孔区与所述半开孔区不相互重叠。本发明同时还提供一种金属掩膜的制备方法，包括如下步骤：(1)提供一掩膜底板，其具有第一面及与其相对的第二面，至少在所述第一面上涂布感光光阻；(2)对所述掩膜底板曝光、显影、蚀刻，从而在第一面上形成开孔区与半开孔区，所述开孔区与所述半开孔区不相互重叠，所述开孔区包括不通透的多个预备孔，所述半开孔区包括多个凹槽，所述多个凹槽的表面低于所述第一面；(3)在所述掩膜底板的第二面上涂布感光光阻，并曝光、显影，随后仅在该面上与第一面开孔区的多个预备孔相应位置进行蚀刻，使所述多个预备孔形成通孔。 | ||||||
| 111 | 一种微流体离子源芯片及其制备方法 | CN201610149298.1 | 2016-03-16 | CN105797791B | 2017-11-03 | 钱翔; 于赐龙; 王晓浩; 余泉; 倪凯 |
| 本发明公开了微流体离子源芯片及及其制备方法，微流体离子源芯片包括离散相层、第一连续相层和喷雾口，离散相层包括离散相储存池和离散相流道，第一连续相层包括第一连续相储存池和第一连续相流道，第一连续相流道始于第一连续相储存池并于设定位置分成两条第一连续相流道支路，两条第一连续相流道支路汇合于喷雾口，离散相流道连通离散相储存池和喷雾口，离散相流道位于两条第一连续相流道支路之间。本方法制备的超音速自动进样微流体离子源芯片使得连续相在喷雾口形成负压，实现样品的自动进样和离子化功能。超音速自动进样微流体离子源芯片可以应用在喷墨打印、生物制药、微纤维纺丝、质谱仪等需要自动进样喷雾的领域。 | ||||||
| 112 | 光刻方法 | CN201611021155.9 | 2016-11-21 | CN107015432A | 2017-08-04 | 翁明晖; 刘朕与; 张庆裕 |
| 根据一些实施例提供一种光刻方法。该光刻方法包括：提供基底；形成交联层于基底上方，其中交联层与基底接触；形成图案化层于交联层上方；藉由使用图案化层作为掩模，以形成图案于交联层及基底中；藉由使用辐射源来处理交联层，以将交联层转变为具有减少的分子量的去交联层；以及藉由使用不会导致基底损坏的溶液以移除去交联层。 | ||||||
| 113 | 平版印刷版原版和用于制备平版印刷版的方法 | CN201280010671.5 | 2012-02-21 | CN103415808B | 2017-06-23 | 铃木博幸; 阿部纯也; 中山贵文; 竹下纮平 |
| 提供一种具有出色的印刷耐久性、耐污性和经时耐污性的平版印刷版和用于制备所述平版印刷版的方法。该平版印刷版原版包括：基板；设置在所述基板上的感光层；和任选地设置在所述基板与所述感光层之间的另外的层；与所述基板相邻的所述感光层或所述另外的层含有共聚物(A)；并且共聚物(A)具有(a1)在侧链中具有由下式表示的结构的重复单元，以及(a2)在侧链中具有由式(a2‑1)至(a2‑6)表示的结构中的至少一种结构的重复单元(其中L1是单键、含有6至14个碳的二价芳族基、‑C(＝O)‑O‑或‑C(＝O)‑NR2‑；Z1是二价连接基团；R1是氢原子、烷基、芳基、杂环基、磺基、烷基磺酰基或芳基磺酰基；并且R21、R22和R23是氢原子、卤素原子或具有1至8个碳的烷基)。 | ||||||
| 114 | 一种触摸屏盖板的制作方法 | CN201710141181.3 | 2017-03-10 | CN106865993A | 2017-06-20 | 刘源; 林树茂; 张文庆; 宋先保; 崔子龙; 李锋; 李志成; 李建华 |
| 本申请公开了一种触摸屏盖板的制作方法，包括在基板表面制作整体保护膜；对所述整体保护膜进行曝光显影，形成与待设置按键的位置和形状相匹配的按键保护膜；对所述基板进行粗化处理，在所述按键保护膜以外的位置形成表面微结构；对所述基板进行光化处理，减薄所述基板，在所述按键保护膜的下部形成3D按键；去除所述按键保护膜。上述触摸屏盖板的制作方法，能够简化制作步骤，且更耐摩擦，提升用户体验。 | ||||||
| 115 | 光敏树脂组合物和使用其的彩色滤光片 | CN201580034169.1 | 2015-06-26 | CN106459606A | 2017-02-22 | 梁承秦; 金娜利; 李奇烈; 崔景洙; 俞尚汶 |
| 本申请涉及光敏树脂组合物和使用其的彩色滤光片。使用本申请中所提供的光敏树脂组合物，由于能够显示比现有技术更深的色彩，因而在各种厚度范围的彩色滤光片中可以提高色彩再现性并改善对比度。 | ||||||
| 116 | 一种光刻胶及刻蚀方法 | CN201610843209.3 | 2016-09-22 | CN106444281A | 2017-02-22 | 陈善韬 |
| 本发明公开了一种光刻胶及刻蚀方法，该光刻胶中含有在紫外光照射下电离产生离子的电离物质。这样通过在光刻胶中增加电离物质，在刻蚀过程中通过紫外光作用使得电离物质电离产生离子，而离子之间通过电荷间引力作用加速移动，从而实现各区域之间离子浓度的平衡。这样可以及时补充进行刻蚀的基板上各区域消耗掉的离子，尤其在图形密集区可以及时获得离子的补充，进而实现各区域的刻蚀速率的平衡，保证了整个基板的刻蚀均一性。 | ||||||
| 117 | 一种采用光刻工艺在基材表面制作CD纹的方法 | CN201611094709.8 | 2016-12-01 | CN106444278A | 2017-02-22 | 赵博; 王滋峰; 高长有 |
| 本发明提供一种采用光刻工艺在基材表面制作CD纹的方法，包括如下步骤：1)制作掩膜版；2)涂布光刻胶、烘烤；3)曝光、烘烤；4)显影、烘烤。所述方法提供一种效率高、精度高且适用范围广的采用光刻在基材表面制作出CD纹的方法。 | ||||||
| 118 | 一种网版制版专用的晾晒装置 | CN201610648073.0 | 2016-08-09 | CN106292181A | 2017-01-04 | 张利明 |
| 本发明公开了一种网版制版专用的晾晒装置，包括壳体、安装在壳体内的支架、活动安装在支架底部的收集槽和安装在壳体顶部上的引风机，支架上设有隔板，隔板将支架分割成若干层，隔板上设有若干个通孔，每块隔板的上端面两侧均设有一根轨道，收集槽位于支架的正下方，收集槽上设有过滤网，本发明，一次晾晒多个半成品，晾晒的数量多；隔板上设有通风孔，壳体上设有吹风机与引风机，壳体内的空气流通流畅，风干快。 | ||||||
| 119 | 一种滤网套精密腐蚀制造方法 | CN201610615242.0 | 2016-07-29 | CN106019825A | 2016-10-12 | 柒一兵; 王娜; 刘海涛 |
| 本发明公开了一种滤网套精密腐蚀制造方法，涉及机械加工和光化学领域。滤网套上密布小孔，广泛应用于液压系统，一般支撑在金属丝滤网外面，用于固定和支撑滤网，避免和减少滤网使用中的脱丝、破损等缺陷。滤网套一般用带材制作，本技术制造滤网套工艺流程包括：选料、下料、真空压平退火、制版、化学腐蚀、钳工剪切、弯型等。本技术适用于展开长度≤500mm、宽度≤400mm、厚度≤3mm、孔径≤2mm滤网套的制造，孔径误差可控制在0.08mm以内。本技术与传统机械加工和激光加工相比，具有生产效率高、成本低的优点。并且，滤网套加工完没有毛刺，可以避免对液压系统的污染。 | ||||||
| 120 | 一种半导体器件的制备方法 | CN201610435854.1 | 2016-06-16 | CN105957810A | 2016-09-21 | 魏毅; 陈忠奎; 陈超; 王希军 |
| 本发明涉及蚀刻晶圆的工艺过程，尤其涉及一种半导体器件的制备方法。提供一半导体衬底，且半导体衬底上开设有开口；于开口中制备深通孔；在深通孔的底部制备底部抗反射涂层，以部分填充深通孔；旋涂光刻胶充满深通孔及开口；采用第一光罩对光刻胶进行第一曝光显影工艺，深通孔中残留有部分未被曝光的剩余光刻胶；采用第二光罩对剩余光刻胶进行第二曝光显影工艺，以去除剩余光刻胶；以及以底部抗反射涂层及具有沟槽图形的光阻为掩膜，刻蚀半导体衬底，以基于深通孔在半导体衬底中形成沟槽。有效地去除了深通孔内中间和周边的残留的光刻胶；而且由于深通孔底部涂有作为阻挡层的抗反射涂层，后续刻蚀工艺时也不会蚀刻掉深通孔底部的金属层。 | ||||||
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