子分类：
| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
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| 101 | 一种钼铝蚀刻液及其制备方法 | CN202410131754.4 | 2024-01-31 | CN117888108A | 2024-04-16 | 王丹宇; 李泰亨; 白晓鹏; 赵方方; 王泽; 陈红波; 董童威 |
| 本发明涉及蚀刻液技术领域，提出了一种钼铝蚀刻液及其制备方法，所述蚀刻液的原料包括磷酸、硝酸、同时含有羟基和羧基的弱酸、羟肟酸和去离子水。本发明蚀刻液不含氯酸和高氯酸，蚀刻液稳定，不会出现加热分解，损害人体健康的问题。磷酸、硝酸将钼和铝氧化成钼离子和铝离子，羟肟酸与金属离子钼、铝螯合，形成配合物，配合物在同时含有羟基和羧基的弱酸的作用下形成一层保护性的覆盖层，阻止钼离子、铝离子再吸附到基板上，确保蚀刻角度的均一性。 | ||||||
| 102 | 一种通过气吹调整沟槽结构的蚀刻方法及金属散热片 | CN202311761506.X | 2023-12-19 | CN117888106A | 2024-04-16 | 王友春; 张亮旗; 张帆; 汪凤明 |
| 本发明涉及湿法蚀刻技术领域，尤其是指一种通过气吹调整沟槽结构的蚀刻方法及所制得的金属散热片，主要包括以下步骤：B.通过传输机构把板件传输至蚀刻机构的正下方；D.电磁阀控制喷嘴与蚀刻液源连通，通过喷嘴往板件喷淋蚀刻液；E.由电磁阀控制喷嘴与蚀刻液源不再接通，使得板件被蚀刻液进行蚀刻而产生一级沟槽；F.通过部分电磁阀控制对应的部分喷嘴与气源接通，由喷嘴对板件吹气，以使得一级沟槽内的蚀刻液被气体分隔，从而对一级沟槽的部分内底壁继续进行蚀刻以形成二级沟槽。本发明通过电磁阀控制喷嘴在连通蚀刻液源与连通气源之间切换，通过呈矩阵分布的喷嘴进行吹气控制，从而可形成结构更为丰富的沟槽结构。 | ||||||
| 103 | 一种耐腐蚀性涂层及其制备方法 | CN202211230321.1 | 2022-10-08 | CN117888105A | 2024-04-16 | 田修波; 郑礼清 |
| 本发明提供了一种耐腐蚀性涂层及其制备方法，涉及耐腐蚀涂层技术领域。其中所述耐腐蚀性涂层包括：由基底表面开始，由内至外依次排列的至少一组的致密复合单元层；其中，在一组的致密复合单元层中，包括由内至外依次排列的金属打底层、过渡层和玻璃态致密氧化硅层。本发明通过在具有易腐蚀性和/或粗糙外表面的基底表面，由内至外依次涂覆的至少一组的致密复合单元层；其中，金属打底层用于增加与金属基材的结合力；在金属打底层表面形成的过渡层，能提高涂层与基底的结合强度有利于提升涂层耐腐蚀性能；在所述过渡层表面形成的玻璃态致密氧化硅层，能够实现对基底的强包覆，阻挡腐蚀性原子及离子向基底的渗透，提高涂层的整体耐腐蚀性能。 | ||||||
| 104 | 镁合金表面制备超疏水氧化铝涂层的方法 | CN202311858224.1 | 2023-12-29 | CN117888104A | 2024-04-16 | 臧东勉; 荀晓伟; 邵瑞娟; 陈俊杰; 徐宝山 |
| 本发明隶属于金属材料表面处理领域，具体公开了镁合金表面制备超疏水氧化铝涂层的方法。该方法包括以下步骤：将镁合金放入三氯化铝溶液中水浴加热反应后在氩气气氛下吹干备用；结合高温加热发生失水反应，最后采用聚二甲基硅氧烷(PDMS)气相沉积表面修饰的方法制得超疏水氧化铝涂层。涂层表面对水的静态接触角163.6°，滚动角3.5°。该涂层具有机械化学稳定性能和耐腐蚀性能。本发明方法简单便捷、成本低，具有规模化应用前景。 | ||||||
| 105 | 超精密制造激光熔覆冲压模具开发工艺 | CN202311867643.1 | 2023-12-29 | CN117888102A | 2024-04-16 | 孙国民; 刘继文; 杨振华 |
| 超精密制造激光熔覆冲压模具开发工艺，本开发工艺包括：步骤1：冲压模具的基体材料和添加材料的选定，并且对激光熔覆设备的参数设定；步骤2：单道熔覆形性建模；步骤3：多层多道熔覆形性建模；步骤4：等寿命激光熔覆再制造。开发出的冲压模具的寿命长并精准度高，非常适合在新能源汽车动力电池结构件的加工制造上应用，本超精密制造激光熔覆冲压模具开发工艺设计理想，整体开发工艺的新颖，利用激光熔覆技术并结合建立形性模型(如单道熔覆层形貌与性能数学模型、多层形性模型以及多道多层熔覆涂层的形貌与性能模型)，数字模型化的强度高，可直观地分析并筛选出符合要求的高寿命冲压模具，精确性好、可预测性、并且可重复性演练，节约研发成本。 | ||||||
| 106 | 一种铝合金压铸件超低光泽膜层结构及其制作方法 | CN202311828925.0 | 2023-12-27 | CN117888099A | 2024-04-16 | 张伟; 傅相林; 王升; 王大桢; 任建全 |
| 本发明属于铝合金表面处理技术领域，提供了铝合金压铸件超低光泽膜层结构及其制作方法，包括基材层、喷砂层、钛锆层以及超低光泽层，喷砂层位于基材层的正面，钛锆层位于喷砂层的正面，超低光泽层位于钛锆层的正面，并经喷砂、刻蚀、沉积以及烘干等步骤后形成。本发明的优点在于使用哑光树脂加上黑色色浆通过阳极电泳的工艺在铝合金压铸件表面沉积一层超低光泽电泳涂膜层的涂层结构，以此来解决当前其他工艺成本高良率低。 | ||||||
| 107 | 一种多元合金共渗用硅酸盐钝化液及钝化渗层的制备方法 | CN202311872501.4 | 2023-12-29 | CN117888097A | 2024-04-16 | 柴武; 何卫平; 刘元海; 王媛媛; 王小龙; 王广超 |
| 本发明实施例公开了一种多元合金共渗用硅酸盐钝化液及钝化渗层的制备方法，制备方法包括：确定钝化渗层的制备过程包括：共渗前检查—>碱洗除油—>抛丸活化—>渗剂配制—>多元合金共渗—>炉料分离—>清洗除灰—>水分烘干—>硅酸盐钝化—>离心干燥—>高温固化；其中，硅酸盐钝化工艺中，采用本发明确定的多元合金共渗用硅酸盐钝化液，且采用预先通过正交试验得到的工艺参数执行硅酸盐钝化工艺，以形成钝化渗层。本发明实施例提供的技术方案解决了现有单一多元合金共渗涂层，在湿热、盐雾、酸雨等复杂环境中的防护效果有限，从而导致渗层应用范围具有局限性的问题。 | ||||||
| 108 | 一种金属镀覆方法及预处理工艺 | CN202311746272.1 | 2023-12-19 | CN117888093A | 2024-04-16 | 李国丰; 王瑞涛; 刘彬鑫; 孟庆帅 |
| 公开了一种金属镀覆方法及预处理工艺，包括以下步骤：（一）预处理：将预处理的金属放置在硫酸溶液桶内部，保证金属整个没过硫酸溶液，此硫酸的浓度应控制在100g／L～250g／L，（二）将加热装置移动至硫酸溶液桶的底部，通过控制将加热装置对硫酸溶液桶底部进行加热，将硫酸溶液在50°C~60°C之间，（三）然后将（二）内的金属放入到硅烷酮乳化液桶内部，整个没入到硅烷酮乳化液桶内部，同时对硅烷酮乳化液桶进行整体旋转，每个隔5min转动两圈，总时长30min，再进行活化处理，本发明的有益效果是：金属镀覆方法及预处理工艺在预处理，简化了传统的预处理方法，同时避免化学和机械的操作，同时提高金属表面处理的效果，提高镀覆层的质量。 | ||||||
| 109 | 降低硅片APCVD正背面污迹的方法 | CN202311700002.7 | 2023-12-12 | CN117888092A | 2024-04-16 | 赵祥峰 |
| 本发明涉及一种降低硅片APCVD正背面污迹的方法，所属硅片加工技术领域，包括如下操作步骤：第一步：APCVD成膜控制3个喷嘴气体流量。1#喷嘴、2#喷嘴和3#喷嘴的气体流量为N2H1流量10slm，N2H2流量10slm，N2（O2）流量17 slm，N2（SiO4）流量17slm，O2流量640sccm，SiH4流量80sccm。第二步：APCVD成膜控制对应预热区的温度。温区对应预热区右侧的温度为720度，预热区中部的温度为715度，预热区左侧的温度为720度，主加热区右侧的温度为685度，主加热区中部三个位置的温度分别为675度、595度和500度，主加热区左侧的温度为685度。对薄片改善沉积条件，优化沉积时的腔内压力，使硅片杜绝出现正背面污迹。减少偏薄硅片的正背面污迹情况。减少硅烷和氧气的用料，使SiO2完全沉积在背封面。 | ||||||
| 110 | 一种减少杂质的高纯石墨坩埚制备方法 | CN202311839197.3 | 2023-12-28 | CN117888090A | 2024-04-16 | 白瑞成; 郭子源; 季志豪; 李爱军; 霍彩霞; 涂建新; 郝魁; 于朔; 周亚迪 |
| 本发明公开一种减少杂质的高纯石墨坩埚制备方法，主要通过在现有免烧结喷涂SiC/Si3N4复合涂层坩埚基础上增加了短时低温的PECVD工序，在疏松的氮化硅外层表面制备出一层薄且致密的膜，在保证良好隔温与脱模效果的前提下，有效减少疏松喷涂氮化硅外层颗粒的脱落对硅晶铸锭的影响，提高了产品良率。 | ||||||
| 111 | 一种在衬底上沉积含硼膜的方法和设备 | CN202311648018.8 | 2019-07-18 | CN117888078A | 2024-04-16 | 马修·斯科特·韦默; 巴德里·N·瓦拉达拉简 |
| 可使用远程等离子体化学气相沉积(CVD)技术沉积硼氮化物膜、硼碳化物膜、或硼碳氮化物膜。将含硼前体提供至反应室，其中含硼前体具有与氢原子键合的至少一个硼原子。例如氢自由基物质之类的自由基物质从远程等离子体源以基本上低能态或基态提供并且进入反应室。烃前体可随着含硼前体一起流动，且含氮等离子体物质可随着自由基物质一起从远程等离子体源导入反应室。含硼前体可随着烃前体和含氮前体中的一者或两者一起与自由基物质相互作用，以沉积硼氮化物膜、硼碳化物膜、或硼碳氮化物膜。 | ||||||
| 112 | 一种冷凝换热用沟槽微纳米结构油膜浸润表面及制备方法 | CN202410055444.9 | 2024-01-15 | CN117888075A | 2024-04-16 | 郝崇磊; 贾丕先; 张磊; 冯永乐; 王世川 |
| 本发明公开一种冷凝换热用沟槽微纳米结构油膜浸润表面及制备方法，属于多级结构超疏水表面制备与滴状冷凝传热高性能材料领域。该冷凝换热用沟槽微纳米结构油膜浸润表面为分层微/纳米混合结构表面，在微米级沟槽阵列结构的基础上制备出纳米级的子结构，然后在微/纳米超疏水结构表面上注入油膜。采用本发明制备的沟槽微纳米结构阵列油膜表面，在冷凝过程中，微纳米分层结构可以增强悬浮在注入油层顶部的液滴的去除。而且接触角更低，液滴成核速率更大，且在液滴周围生成的润湿脊有利于液滴的合并，缩短了液滴在重力诱导下脱离表面的时间，提高了表面刷新率，显著增强滴状冷凝传热。 | ||||||
| 113 | 一种降低产品变形率的化学气相沉积处理方法 | CN202311822860.9 | 2023-12-27 | CN117888074A | 2024-04-16 | 赵幸锋; 冒乃彬; 任伟; 万良军 |
| 本发明涉及一种降低产品变形率的化学气相沉积处理方法，步骤包括：对零件依次进行粗加工处理、第一淬火处理、若干次第一回火处理、精加工处理、化学气相沉积处理、第二淬火处理、以及若干次第二回火处理；其中，所述第一淬火处理的条件与所述第二淬火处理的条件相同；所述第一回火处理的条件与所述第二回火处理的条件相同。本发明的化学气相沉积处理方法在化学气相沉积处理前对零件进行与化学气相沉积处理后进行的淬火处理和回火处理相同的淬火处理和回火处理，以避免微观组织差异而造成的形变；本发明的化学气相沉积处理方法还通过调整升温速率、保温温度、保温时间、降温速率等来使得零件在处理过程中均匀分布热量，以改善零件变形率。 | ||||||
| 114 | 卫星太阳翼铰链中展开及锁定机构关键部件表面膜层的制备方法 | CN202311691128.2 | 2023-12-11 | CN117888073A | 2024-04-16 | 黄洪昌; 李君兰; 闫煜诚; 张家豪; 王东宇; 张大卫 |
| 本发明公开一种卫星太阳翼铰链中展开及锁定机构关键部件表面膜层的制备方法，包括：将待镀膜件放入溶液进行超声清洗；将超声清洗后的待镀膜件吹干后放入等离子体刻蚀机进行刻蚀清洗；将刻蚀清洗处理后的待镀膜件转移到紫外箱中进行表面紫外辐照；将紫外辐照后的待镀膜件移到原子层沉积设备中进行原子导沉积镀膜。采用本发明的方法制备的铰链表面镀膜层一致性好，附着力佳，可以有效提升卫星太阳翼展开过程的可靠性。 | ||||||
| 115 | 一种具有翻转功能的真空镀膜工件架 | CN202311844696.1 | 2023-12-29 | CN117888071A | 2024-04-16 | 刘宸佳; 李晓刚; 刘志成 |
| 本发明公开了一种具有翻转功能的真空镀膜工件架，属于工件架技术领域。主要包括支撑外壳，支撑外壳外侧周向均匀转动连接有若干旋转轴，旋转轴远离支撑外壳的一端固定有固定夹板，固定夹板上设置有若干第一镀膜孔，固定夹板的边缘套设固定有挡板，固定夹板的一侧设置有与挡板内壁适配的活动夹板，活动夹板上设置有与第一镀膜孔对应的第二镀膜孔，旋转轴适于在外部驱动下旋转。在零件一面镀膜完成后，通过旋转轴的旋转将固定夹板翻转，便能够对零件的另一面镀膜，可以适应单面镀膜和双面镀膜两种工况；而且在双面镀膜时，不需要破真空和二次装夹，缩短了双面镀膜产品的制备时间，本申请的一种具有翻转功能的真空镀膜工件架达到提高加工效率效果。 | ||||||
| 116 | 一种高功率脉冲溅射源离子磁控溅射装置 | CN202410222239.7 | 2024-02-28 | CN117888069A | 2024-04-16 | 彭长明; 陈雪影 |
| 本发明公开了一种高功率脉冲溅射源离子磁控溅射装置，涉及磁控溅射技术领域，包括离子磁控溅射镀膜装置主体，所述离子磁控溅射镀膜装置主体的顶部安装有高功率脉冲溅射电源。本发明通过连接有高功率脉冲溅射电源，高功率脉冲溅射电源是一种高功率密度的脉冲等离子体电源，高功率脉冲溅射电源使用矩形波电压的脉冲电源代替传统的直流电源进行后续的磁控溅射沉积，极大地改善了薄膜沉积工艺，可以有效地抑制电弧的产生，消除由此产生的薄膜缺陷，同时能够提高溅射沉积速度，并降低沉积温度，通过金属离子高能轰击可以杜绝弧源大颗粒粒子带来的光泽度不良和附着不良的情况出现，使得薄膜具备高度细腻光泽表面，装饰效果优异。 | ||||||
| 117 | 一种低温激活的大容量吸气薄膜及其生产工艺 | CN202311846305.X | 2023-12-29 | CN117888067A | 2024-04-16 | 夏纲; 薛函迎; 柴云川 |
| 本发明公开了一种大容量吸气薄膜，包括吸气层，所述吸气层中均匀混合有添加物质，所述添加物质是由钙酰亚胺、镍和稀土混合而成，所述吸气层包括有基底，所述吸气层的材质为钛钡合金薄膜，所述钛钡合金薄膜是通过钛原子、钡原子在基底表面沉积所产生的膜，所述吸气层的基底可为不锈钢、可伐、硅、锗和陶瓷，所述吸气层是通过磁控溅射工艺制备，本发明公开的大容量吸气薄膜及其生产工艺具有激活温度范围广、吸气容量大、提高成品质量的效果，通过减少物料表面附着粘附的灰尘，能够使物料在设备内进行低温激活的大容量吸气薄膜镀膜时镀膜的效果更好，进一步地提升镀膜的成功率与镀膜的效率，提高了镀膜的质量，减少灰尘等对镀膜效果产生的影响。 | ||||||
| 118 | 一种复合铜膜蒸镀工艺 | CN202311849482.3 | 2023-12-29 | CN117888065A | 2024-04-16 | 张东方; 张翼 |
| 本发明公开了一种复合铜膜蒸镀工艺，属于铜膜生产技术领域，包括以下步骤：将改性PET膜放入真空蒸镀室中，向蒸发坩埚中添加锌粒和铜粒，真空室抽真空；当真空度达到5×10‑2Pa时，打开电子枪和离子轰击源，将Zn蒸发镀在改性PET膜上，得PET镀锌膜；当真空度达到6×10‑3Pa时，打开电子枪和离子轰击源，将Cu蒸发镀在PET镀锌膜上，得复合铜膜；其中，改性PET膜的制备过程：将经预处理的PET膜经多巴胺甲醇溶液处理后，再浸没在改性剂中处理，得改性PET膜，改性剂含有酰胺基团和多个亲水基团，同时具有螯合基团‑COO‑，可与金属离子形成稳定的五元环网状立体结构，提高PET膜基材表面复合膜的附着力。 | ||||||
| 119 | 耐等离子体性涂布膜及其制备方法 | CN202311243119.7 | 2023-09-25 | CN117888059A | 2024-04-16 | 林起成; 陈周 |
| 根据本发明的耐等离子体性涂布膜的制备方法包括：步骤a，通过物理气相沉积工艺将第一稀土类金属化合物的粉末涂布在涂布对象物来形成下部涂层；步骤b，移送第二稀土类金属化合物的粉末；以及步骤c，向在所述步骤a中形成的下部涂层喷射被移送的第二稀土类金属化合物的粉末，以形成上部涂层，从而能够获得结构缺陷少、物理性能增强的耐等离子体性涂布膜。 | ||||||
| 120 | 一种送粉器 | CN202311848663.4 | 2023-12-29 | CN117888054A | 2024-04-16 | 廖芳芳; 严成文; 代锋先; 图尔尹·尤里; 科利斯尼琴科·奥莱格; 郭瑞·弗拉基米尔; 穆德里琴科·弗拉基斯拉夫; 列皮丽娜·克谢妮娅 |
| 本发明提供一种送粉器，涉及粉末冶金技术领域；出粉机构包括出粉管；计量盘与料筒的底部贴合，计量盘上圆周设置有贯穿计量盘两侧的计量孔；所述驱动机构驱动计量盘转动，使得计量盘上的计量孔依次与出粉管对齐；所述喷气机构包括密封仓体、压缩气体接头以及圆盘，料筒和计量盘位于密封仓体内，所述密封仓体具有一开孔的盖板，出粉管穿设于开孔中，所述圆盘上与计量盘的连接处设有多个凹槽，多个进气通道的两端分别连通密封仓体和凹槽，计量盘上的计量孔与所述凹槽连通，压缩气体接头和密封仓体连通。本发明的有益效果在于：可对粉末精准定位且使用最少的载气消耗确保粉末混合物的精确计量，消除载气中的冲击波和压力波动对粉末计量效率的影响。 | ||||||
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