首页 / 专利分类库 / 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
序号 专利名 申请号 申请日 公开(公告)号 公开(公告)日 发明人
141 一种医用锆基合金微孔结构亲表面制备方法 CN202210956790.5 2022-08-10 CN115404481B 2024-04-16 刘曙光; 岳术俊; 许奎雪; 刘雅卿; 朱雄卫
发明公开了一种医用锆基合金微孔结构亲表面制备方法,属于亲水表面制备技术领域;其具体包括如下步骤:步骤1,将钛锆基合金预处理样品置于热处理炉进行均匀化热处理;步骤2,对步骤1热处理后的样品进行加工得到产品,并保证产品表面无热处理后的化皮;步骤3,在常温常压的条件下,将步骤2中得到的产品置于酸性溶液中浸泡90min至120min;步骤4,将浸泡后的产品进行冲淋清洗,依次在丙、去离子水和无水乙醇中分别进行超声清洗10min至15min,最后干。本发明极大的简化了工艺流程,技术成本较低,仅在酸性溶液中全浸制备,不用经喷砂性溶液、其他酸性溶液中二次浸泡等环节。
142 一种能够避免丝绳发生缠绕的轨道集装箱用起重机 CN202211014033.2 2022-10-09 CN115402957B 2024-04-16 袁伟杰
发明提供一种能够避免丝绳发生缠绕的轨道集装箱用起重机,属于起重机技术领域,包括侧架和底座,底座的顶部固定安装有两个侧架,两个侧架之间通过安装轴转动安装有起重机绳辊,起重机绳辊的外部设置有若干钢丝绳槽,两个侧架之间固定安装有稳固横架,侧架的侧壁上固定安装有起重电机,侧架的另一侧壁上固定安装有侧导轨,底座的侧壁上固定安装有定位底板;本发明中,通过在其上设置有承压机构与钢丝导向机构,在该装置使用时,通过联动过程,钢丝导向圈可有效对于钢丝绳进行导向收卷,在起重时,可有效保障钢丝绳缠绕的稳定性与规律性,不会出现钢丝绳交缠的情况,具有良好的缠绕寻迹性。
143 一种合金表面腐蚀清除剂及其制备方法和应用 CN202210659292.4 2022-06-10 CN115261860B 2024-04-16 张昕; 赵娟; 石思宇; 赵昆雨; 仲莹莹; 李辰; 唐源
申请提供一种合金表面腐蚀清除剂及其制备方法和应用,其中所述清除剂包括按质量份数计的如下组分:酸性凝胶50~70份、强化剂10~20份、磷酸15~35份、硝酸0.3~4份、表面活性剂0.01~2份、渗透剂0.01~4份、缓蚀剂0.01~4份。本申请提供的铝合金表面腐蚀清除剂及其制备方法和应用,由于硝酸的加入,可以有效的抑制强氧化剂分解,延长清除剂的存储时间,使得铝合金表面腐蚀清除剂可以长时间稳定存放,存储期可达180天以上,无需加热即可制备得到本清除剂,制备工艺简单,降低能耗;将本清除剂涂覆于待清除的铝合金表面,即可快速的清除铝合金表面的腐蚀物,操作简单、腐蚀物清除的效果良好。
144 一种高温渗轴承轴承套圈离子渗氮防渗方法 CN202210883382.1 2022-07-26 CN115261771B 2024-04-16 阚悦铭; 刘金玲; 周兴政; 于遨海; 安敏; 张静静; 公平; 索志鹏; 付中元; 曹娜娜; 史慧楠; 于庆杰; 李正辉; 韩松; 战利伟
一种高温渗轴承轴承套圈离子渗氮防渗方法,涉及材料表面改性技术领域。本发明的目的是为了解决高温渗碳轴承钢制轴承套圈采用常规离子渗氮处理后轴承边位置易出现脉状组织,以及非工作位置渗氮处理给后续磨削加工增加困难的问题。方法:在对高温渗碳轴承钢制轴承套圈的渗氮位置渗氮前,先对未渗氮位置采用合理方式对未渗氮面进行防渗保护,降低离子渗氮加工险,提升C—N硬化轴承可靠性;提升后续加工效率以及避免边角位置脉状组织严重的问题,采用离子渗氮二次硬化处理后可以显著提升轴承耐磨性及抗疲劳性能。本发明可获得一种高温渗碳轴承钢制轴承套圈离子渗氮防渗方法。
145 一种非晶难熔高熵合金涂层及其制备方法 CN202210571023.2 2022-05-24 CN115044870B 2024-04-16 王亚强; 丁佳琪; 张金钰; 吴凯; 刘刚; 孙军
发明公开了一种非晶难熔高熵合金涂层及其制备方法,元素组成为TaWMoCrZr,其中Zr的原子百分比为23.2~41.3at.%,其余为近等原子比的Ta、W、Mo、Cr。在抛光基体和单晶基体上采用磁控溅射共溅射的方法制备TaWMoCrZr难熔高熵合金涂层,其中TaWMoCr合金靶采用2个直流电源,Zr靶采用1个射频电源,通过调控射频靶的功率来调节Zr含量。制备得到的TaWMoCrZr难熔高熵合金涂层为完全非晶结构,成分均匀,组织致密,表面光滑,学性能优异,且具有良好的组织稳定性,扩展了非晶涂层的应用范围。
146 钝化锌板的点焊方法 CN202210358901.2 2022-04-06 CN114951934B 2024-04-16 崔凯禹; 李正荣; 周磊磊; 余腾义; 汪创伟; 胡云凤
发明涉及一种钝化锌板的点焊方法,属于焊接技术领域。本发明适用的钝化镀锌板牌号为DX51D+Z;所使用的钝化液组分包含丙烯酸树脂、含氟树脂、烷、过酸钠和钼酸盐,其余为及不可避免的杂质;其中,按照重量比计,丙烯酸类树脂含量为5%‑8%,含氟树脂含量为2%‑9%,硅烷含量为10%‑18%,过硼酸钠含量为2%‑6%,钼酸盐含量为2%‑5%;点焊时,选取Cr‑Zr‑Cu作为电极材料,点焊工艺参数如下:焊接电流8.0kA‑12.0kA,焊接时间0.03s‑2s,电极压3.0kN‑5.0kN。本发明采用经济性的含氟自润滑钝化液组分设计,并配套设计了自润滑型钝化液钝化处理镀锌板的点焊工艺,能够指导用户科学选择焊接工艺参数,生产出高质量的点焊接头。
147 基于金属网-陶瓷复合基膜的含油污处理动态膜的制备方法 CN202210308870.X 2022-03-28 CN114870646B 2024-04-16 段翠佳; 陈赞; 贾志伟; 盛春光; 臧毅华; 袁标
发明公开了一种基于金属网‑陶瓷复合基膜的含油污处理动态膜的制备方法。该制备方法采用多孔金属网作为动态膜基体,通过磁控溅射技术将亲水性材料陶瓷层均匀涂敷在金属网表面,形成亲水的金属网‑陶瓷复合基膜的动态膜。本发明制备方法制备得到动态膜能在确保动态膜高水通量的前提下,提高动态膜的抗油污染能,延长动态膜酸等强清洗周期,减少设备运维成本和药剂消耗。
148 一种10600nm波长超窄带滤光片及其制备方法 CN202210153255.6 2022-02-18 CN114706153B 2024-04-16 姜海; 范鹏; 熊峰; 刘俞含
发明公开了一种10.6μm波长超窄带滤光片及其制备方法。在基底表面通过离子溅射膜方式交替镀制膜层和氟化锶膜层,即得10.6μm波长超窄带滤光片。该超窄带滤光片的中心波长为10600nm,带宽为16~54nm,峰值透射率大于等于98%,截止区最大透射率小于1%,且镀膜层结构具有密度低、强度高、高温稳定性以及化学稳定性好等特点,赋予滤光片较好的硬度和耐磨性,能够延长其使用寿命。
149 放电等离子烧结制备多区域析出异构合金材料的方法 CN202111596494.0 2021-12-24 CN114226730B 2024-04-16 欧艺文; 刘亿
发明提供一种放电等离子烧结制备多区域析出异构合金材料的制备方法,属于金属材料领域,本发明提供的制备方法包括将两种或两种以上具有不同时效析出强化行为的铝合金依次进行球磨混合、洗过滤、放电等离子烧结、固溶热处理和时效热处理工序得到多区域析出异构铝合金材料。本发明选用两种或多种具有不同时效硬化行为的铝合金,进行球磨混合、碱洗过滤获得铝合金混合粉末,通过放电等离子烧结获得体铝合金材料。再利用后续时效处理,在不同异质结构之间形成多区域析出相,获得多区域析出异构铝合金材料。
150 一种在基底上形成图案化金属膜的方法和系统 CN202111152081.3 2015-10-20 CN113930707B 2024-04-16 N·扎莫什奇克
发明提出了一种在基底上形成薄的图案化金属膜的方法和系统。所述方法包括将油墨组合物涂覆在预处理后的基底的表面上,其中所述油墨组合物至少包含金属阳离子;以及至少将涂覆在所述基底上的油墨组合物暴露于低能量等离子体中,其中根据第一组暴露参数操控所述低能量等离子体。
151 成膜系统、工厂系统和晶圆的成膜方法 CN202110761104.4 2021-07-05 CN113913774B 2024-04-16 铃木健司; 中田胜之; 佐佐木智生
发明以提供能够减少成膜所需要的时间的成膜系统、工厂系统和晶圆的成膜方法为目的。本实施方式所涉及的成膜系统具有成膜装置和计算机,上述成膜装置具有能够设置多个成膜材料的成膜腔室,上述计算机具有基于包含伊辛模型或QUBO的计算模型,预测在设定了成膜材料的配置的情况下成膜所需要的时间的计算区域。
152 基板处理装置、反应容器、半导体器件的制造方法以及记录介质 CN201980093547.1 2019-09-12 CN113519041B 2024-04-16 野野村一树
发明提供一种基板处理装置,其具备:反应容器,其供具有支承基板的基板支承区域的基板支承工具以及设于基板支承区域的下部的隔热部插入,在反应容器的内壁的与基板支承区域相对置的部分的下侧配置有朝向反应容器的内侧突出的突出部的端部;以及向基板供给处理气体的气体供给部。
153 基板液处理装置和基板液处理方法 CN201980085147.6 2019-12-16 CN113227453B 2024-04-16 稻富裕一郎; 江崎智规
基板供给液的基板液处理装置具备:基板保持部,其用于保持基板;镀液送出部,其向第一流路送出镀液;温度调整部,其经由第一流路来与镀液送出部连接,对经由第一流路供给的流体的温度进行调整;推出流体送出部,其向第一流路送出与镀液不同的推出流体;以及喷出部,其经由第二流路来与温度调整部连接,喷出经由第二流路供给的流体。
154 一种3C制件表面处理的PVD真空膜工艺 CN201911133009.9 2019-11-19 CN112899625B 2024-04-16 请求不公布姓名
发明提供一种3C制件表面处理的PVD真空膜工艺,包含以下步骤:将铝制件清洗后放入真空室内加热烘干,随后向真空室内通入氩气,对铝制件进行离子清洗;离子清洗后,关闭氩气、辅助偏压,调整真空室的真空度;向真空室内通入氩气使真空度维持在10‑1 Pa数量级的动态平衡压强;依次为铝制件镀上Cr基层镀层、CrN第一过渡层、CrSiN第二过渡层和Cr第三过渡层;完成铝制件表面处理,此时铝制件的颜色色;换真空室,采用中频电源作为溅射电源,以多弧离子镀或真空平面磁控溅射镀工艺为铝制件镀上颜色层。本发明采用物理气相沉积原理对铝制件表面处理,该工艺过制程短,生产无污染,环保安全,且能耗耗低,良品率高。
155 使用脉冲式DC偏压时的自动ESC偏压补偿 CN201980068179.5 2019-08-27 CN112868083B 2024-04-16 J·罗杰斯; L·崔; L·多尔夫
本公开的实施例总体上涉及一种在半导体制造中使用的系统。更具体地,本公开的实施例涉及一种用于脉冲式DC偏压和箝位基板的系统。在一个实施例中,系统包括等离子体腔室,所述等离子体腔室具有ESC以用于支撑基板。电极嵌入在ESC中并电耦合至偏压与箝位电路。偏压与箝位电路至少包括整形DC脉冲电压源和箝位网络。箝位网络包括DC电压源和二极管,以及电阻器。整形DC脉冲电压源与箝位网络并联连接。当用脉冲式DC电压偏压基板时,偏压与箝位网络自动维持基本上恒定的箝位电压,所述箝位电压是跨电极与基板的压降,从而导致改良了基板的箝位。
156 金属多孔体、包含其的蒸气重整器和制造金属多孔体的方法 CN201980059464.0 2019-06-21 CN112673125B 2024-04-16 平岩千寻; 水原奈保; 小川光靖; 东野孝浩; 俵山博匡; 真岛正利; 小笠原启孝
发明提供一种金属多孔体,所述金属多孔体具有三维网络结构的骨架,并且所述骨架的外层部具有尺寸小于由所述骨架形成的第一孔隙的第二孔隙,其中所述外层部为金属层,并且在所述外层部中负载有蒸气重整催化剂。
157 减少裂纹的装置、系统和方法 CN201980030803.2 2019-04-30 CN112136201B 2024-04-16 J·B·潘克拉茨; D·R·派莱利芒特; U·克劳泽
一种减少可以在基板上的涂层中导致裂纹的寄生电流的涂层系统。在一个示例中,该系统包括用于从室中的等离子体生成的寄生AC电流的一对接地的低阻抗分流路径。可以通过每个室的电源与每个室的磁控管之间的平衡的三轴连接来提供低阻抗分流。在另一个示例中,通过室之间的同步电源信号使相邻室之间的电势差最小化。
158 用于沉积蒸发材料的沉积设备及其方法 CN201880088646.6 2018-02-05 CN111684103B 2024-04-16 托马斯·德皮希; 克莱尔·阿姆斯特朗; 弗兰克·施纳彭伯格
描述了一种用于将蒸发材料沉积到基板(101)上的沉积设备(100)。沉积设备包括:沉积源(110),所述沉积源(110)用于提供蒸发材料;材料沉积区(111),所述材料沉积区(111)提供在所述沉积源(110)和所述基板(101)之间;可动挡板(120),所述可动挡板(120)提供在所述材料沉积区(111)中;和沉积速率测量装置(130),所述沉积速率测量装置(130)提供在所述沉积源(110)和所述可动挡板(120)之间的所述材料沉积区(111)中。
159 滤光片及其制备方法、指纹识别模组及电子设备 CN201910165758.3 2019-03-05 CN109655954B 2024-04-16 陆张武; 王迎; 徐征驰; 李恭剑
发明提供了一种滤光片及其制备方法、指纹识别模组及电子设备,涉及光学薄膜技术领域,该滤光片包括透明基底以及分别设置在透明基底两侧的第一长波通膜系和第二长波通膜系;第一长波通膜系的膜系结构包括(0.5HL0.5H)^10,过渡带中心波长为700‑900nm;第二长波通膜系的膜系结构包括(0.5HL0.5H)^14,过渡带中心波长为780‑900nm;其中,H对应高折射率膜层,L对应低折射率膜层。该滤光片在830‑950nm谱段具有高透过率,同时在300‑750nm谱段宽截止,大大改进了该谱段滤光片的通带及截止带的特性,从而能够满足指纹传感器模组的使用要求。
160 一种减反射膜结构 CN201810607802.7 2018-06-13 CN108441837B 2024-04-16 刘双; 张荣光; 胡冰; 杜彦
发明提供一种减反射膜结构,在透明基片的一面或两面,各自独立镀制有减反射功能膜层,所述减反射功能膜层自玻璃基片向外依次为中折射率膜层、高折射率膜层、低折射率膜层。本发明在有效降低玻璃表面反射的同时,降低大度范围内干扰色变化,使整体膜层具有可化及可弯钢性能,实现最大尺寸为3.3m*12m减反射玻璃的生产。
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