序号 专利名 申请号 申请日 公开(公告)号 公开(公告)日 发明人
81 Verfahren zur Herstellung Arylmetallverbindungen und deren Umsetzung mit Elektrophilen EP99124079.7 1999-12-10 EP1010703A3 2002-01-02 Reiffenrath, Volker; Stiasny, Christian, Dr.

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von Arylmetallverbindungen durch Deprotonierung von Aromaten, die ein Wasserstoffatom in ortho-Position zu einem Halogenatom oder einer Trifluormethoxy-Gruppe aufweisen, mit einer geeigneten Base oder durch Halogen-Metall-Austausch von Halogenaromaten mit einem geeigneten Metallierungsreagenz und deren Umsetzung mit Elektrophilen, dadurch gekennzeichnet, daß man die Arylmetallverbindungen in einem Durchfluß-Reaktor herstellt.

82 VITAMIN D 3? ANALOGS WITH BIS C-20 SIDE CHAINS EP98924177.3 1998-04-22 EP0980354A2 2000-02-23 MANCHAND, Percy, Sarwood; USKOKOVIC, Milan, Radoje
This invention provides Vitamin D3 analogs of the Formula (I) wherein: X is H2 or CH2; Y is hydrogen, hydroxy or fluorine; Z is hydroxy; R1 and R2 are a (C1-C4) alkyl or fluoroalkyl, or R1 and R2 together with C25 form a (C3-C6) cycloalkyl or cyclofluoroalkyl; R3 and R4 are a (C1-C4) alkyl or fluoroalkyl, or R3 and R4 together with C25' form a (C3-C6) cycloalkyl or cyclofluoroalkyl; A is a single bond or a double bond; B1 is a single bond, an E-double bond, a Z-double bond or a triple bond; and B2 is a single bond, an E-double bond, a Z-double bond or a triple bond; and prodrugs thereof; intermediates and methods for preparation of these analogs, pharmaceutical compositions containing such analogs and methods for treatment of osteoporosis, hyperparathyroidism autoimmune diseases and for the treatment and prevention of neoplastic diseases.
83 METAL ACETYLIDE COMPOUND AND PROCESS FOR PREPARING THE SAME EP98943090.5 1998-09-21 EP0969006A1 2000-01-05 HARADA, Akio, Daiken Chemical Co., Ltd.; OKAMOTO, Yoshiki, Daiken Chemical Co., Ltd.

The present invention relates to novel compounds which contain no sulfur or chlorine, and which thus contribute to the cleaning of the environment as organo-metal complexes used in metal pastes, etc., and a method for manufacturing the same.

Metal acetylide compounds expressed by the general formula M(-C≡C-R)n (in the formula, M indicates a metal atom, n indicates the valence number of the metal atom M, and R indicates a hydrocarbon group with 1 to 8 carbon atoms which may or may not contain an oxygen atom) are provided as novel organo-metal complexes. Since these compounds contain no sulfur or chlorine, there is no release of sulfurous acid gas or chlorine compounds when the compounds are used in metal pastes, etc., even if the pastes are fixed. Accordingly, these compounds contribute to the cleaning of the environment.

In the present invention, solid sulfites are used as metal reducing agents; accordingly, simple stoichiometric control of the reaction is possible, so that metal acetylide compounds can easily be obtained. Furthermore, since no sulfurous acid gas is generated in this manufacturing method, there are no concerns about environmental pollution, and the method contributes to the cleaning of the environment.

84 METHOD OF DEPOSITION EP94900242.0 1993-11-19 EP0670055A1 1995-09-06 THOMSON, James; CAIRNS, James
There is described a method of chemically depositing a substance. The method is of utility in the direct manufacture of integrated circuits and in the manufacture of a photomask for use in production of integrated circuits. The method involves the use of a compound which degrades into a deposit and a residue when a radiant beam (e.g. a laser beam) or a particle beam (e.g. an electron beam) is applied. The residue and any unreacted compound may be washed off the substrate to which it has been applied. Nanoscale dimensions of the deposit can be achieved. A particularly suitable organometallic compound is tetra-sec butyl diaurum difluoride.
85 SYNTHESIS OF DIALKYL GOLD (III) BETA-DIKETONATES EP90916578.9 1990-10-15 EP0530187B1 1994-10-26 BAUM, Thomas, H.; BROCK, Phillip, J.; DAWSON, Daniel, J.
Dialkyl gold (III) β-diketonates are synthesized in a two-step, one-pot process using a gold trihalide, an alkyl lithium compound and a β-diketone.
86 Bifunktionelle Initiatoren für die anionische Polymerisation und Verfahren zu ihrer Herstellung EP90111735.8 1990-06-21 EP0405327B1 1994-10-19 Bronstert, Klaus, Dr.
87 Verfahren zur Herstellung eines Pyrrol-Derivats EP89810188.6 1989-03-09 EP0333661B1 1994-04-27 Schaub, Bruno, Dr.; Känel, Hans-Ruedi, Dr.; Ackermann, Peter, Dr.
88 Bifunktionelle Initiatoren für die anionische Polymerisation und Verfahren zu ihrer Herstellung EP90111735.8 1990-06-21 EP0405327A1 1991-01-02 Bronstert, Klaus, Dr.

Alkalimetallorganische Verbindung der allgemeinen Formel I wie sie erhalten wird durch Umsetzen eines entsprechenden Diarylethylens der allgemeinen Formel II mit Alkalimetall (M) und insbesondere Lithium wobei Ar¹ und Ar² gleiche oder verschiedene Aryl- oder Hetarylreste bedeuten, die einen oder mehrere ggf. getrennte oder kondensierte Ringe aufweisen, und wobei R mindestens einen von Wasserstoff verschiedenen Substituenten bedeutet, der gegenüber Alkalimetall bzw. -alkyl chemisch indifferent ist, mit der Maßgabe, daß die Summe der C-Atome aller R - be­zogen auf (II) - mindestens 3 und m und n jeweils eine ganze Zahl bis zu 4 ist und deren Verwendung zur Herstellung von Polymeren, deren Monomere der anionischen Polymerisation zugänglich sind.

89 Verfahren zur Herstellung eines Pyrrol-Derivats EP89810188.6 1989-03-09 EP0333661A2 1989-09-20 Schaub, Bruno, Dr.; Känel, Hans-Ruedi, Dr.; Ackermann, Peter, Dr.

3-(2,2-Difluorbenzodioxol-4-yl)-4-cyanopyrrol lässt sich durch Reaktion von 4-Metallo-2,2-difluorbenzodioxol (III) mit einem ungesättigten Nitril und danach mit einem Sulfonylmethylisocyanid im Eintopfverfahren her­stellen. Die Verbindungen III sind neue Zwischenprodukte.

90 光電素子および光電素子の製造方法 JP2017562588 2016-05-25 JP2018518054A 2018-07-05 グードルン リントベアク
本発明は、少なくとも1つの金属表面(1)を有する光電素子(100)に関し、この光電素子(100)は、放射線を放出するために備えられている接触型光電子半導体チップ(2)、少なくとも1つの金属表面(1)上に配置されている保護層(5)を含み、ここで保護層(5)は、少なくとも1種のN−複素環式カルベン(14)からの保護材料(3)を含み、ここで保護材料(3)と少なくとも1つの金属表面(1)との間には、共有結合(4)が形成されている。
91 ルテニウム含有ヒドロシリル化触媒及びこの触媒を含有する組成物 JP2014530967 2012-09-20 JP6117211B2 2017-04-19 カート ブランドスタッド; サイモン クック; ビン タン グエン; アブリル サージェナー; リチャード テイラー; ミン−シン ツゥオ; アスウィニ ダッシュ; マシュー オルセン
92 金カルベン錯体及び有機エレクトロルミネッセンス素子 JP2012537736 2011-10-05 JP5857967B2 2016-02-10 藤村 整; 藤田 陽師; 本間 貴志; 福永 謙二
93 化合物、化合物の製造方法、及び化合物の精製方法 JP2014504814 2013-03-06 JP5740042B2 2015-06-24 松田 啓一郎; 松下 政幸; 野田 薫; 梶田 理
94 バナジウム含有ヒドロシリル化触媒及びこの触媒を含有する組成物 JP2014530968 2012-09-20 JP2015501287A 2015-01-15 サージェナー アブリル; ブランドスタッド カート; タン グエン ビン; クック サイモン; ツゥオ ミン−シン; テイラー リチャード
組成物は、(A)ヒドロシリル化反応触媒と、(B)分子あたり平均で1個以上のヒドロシリル化反応を進行させることができる脂肪族不飽和有機基を有する脂肪族不飽和化合物と、を含有する。この組成物は、ヒドロシリル化反応を介して反応して、シラン、ガム、ゲル、ゴム又は樹脂といった反応生成物を形成することができる。成分(A)は、金属前駆体と配位子を反応させることを含む方法により調製できる金属−配位子錯体を含有する。
95 鉄含有ヒドロシリル化触媒及びこの触媒を含有する組成物 JP2014530974 2012-09-20 JP2014532045A 2014-12-04 ブランドスタッド カート; クック サイモン; タン グエン ビン; サージェナー アブリル; テイラー リチャード; ツゥオ ミン−シン; ダッシュ アスウィニ; オルセン マシュー
組成物は、(A)ヒドロシリル化反応触媒及び(B)ヒドロシリル化反応を起こすことができる脂肪族不飽和有機基を1分子当たり平均1個以上有する脂肪族不飽和化合物を含有する。この組成物は、ヒドロシリル化反応を介して反応して、シラン、ガム、ゲル、ゴム又は樹脂のような反応生成物を生成することができる。成分(A)は金属前駆体とリガンドとの反応を含む方法により製造できる金属リガンド錯体を有する。
96 ルテニウム含有ヒドロシリル化触媒及びこの触媒を含有する組成物 JP2014530967 2012-09-20 JP2014532044A 2014-12-04 ブランドスタッド カート; クック サイモン; タン グエン ビン; サージェナー アブリル; テイラー リチャード; ツゥオ ミン−シン; ダッシュ アスウィニ; オルセン マシュー
組成物は、(A)ヒドロシリル化反応触媒と、(B)分子あたり平均で1個以上のヒドロシリル化反応を進行させることができる脂肪族不飽和有機基を有する脂肪族不飽和化合物と、を含有する。この組成物は、ヒドロシリル化反応を介して反応して、シラン、ガム、ゲル、ゴム又は樹脂といった反応生成物を形成することができる。成分(A)は、金属前駆体と配位子を反応させることを含む方法により調製できる金属−配位子錯体を含有する。
97 コバルト含有ヒドロシリル化触媒及びその触媒を含有する組成物 JP2014530964 2012-09-20 JP2014531446A 2014-11-27 ブランドスタッド カート; クック サイモン; タン グエン ビン; サージェナー アブリル; テイラー リチャード; ツゥオ ミン−シン; ダッシュ アスウィニ; オルセン マシュー
組成物は、(A)ヒドロシリル化反応触媒と、(B)分子あたり平均で1個以上のヒドロシリル化反応を進行させることができる脂肪族不飽和有機基を有する脂肪族不飽和化合物と、を含有する。この組成物は、ヒドロシリル化反応を介して反応して、シラン、ガム、ゲル、ゴム又は樹脂といった反応生成物を形成することができる。成分(A)は、金属前駆体と配位子を反応させることを含む方法により調製できる金属−配位子錯体を含有する。
98 Substituted ethynyl gold - the preparation of heterocyclic carbene complex nitrogen-containing JP2010520902 2009-07-17 JP5594139B2 2014-09-24 整 藤村; 貴志 本間
99 Metal complex JP2013543572 2011-12-13 JP2014506241A 2014-03-13 クンツ、ドリス; ギルツ、フェレナ
本発明は、ビスイミダゾリウム塩と、それらに由来する新規のモノおよびビスカルベンと、対応するモノおよびビスカルベンをリガンドとして含有する金属錯体と、本発明のビスイミダゾリウム塩、本発明のモノおよびビスカルベンならびに本発明の金属錯体を調製するための方法と、本発明のビスイミダゾリウム塩、本発明のモノおよびビスカルベンの使用と、本発明の金属錯体の使用とに関する。
【選択図】 なし
100 Nitrogen-containing heterocyclic carbene complexes, manufacturing and methods of use thereof that JP2013535571 2011-10-27 JP2013542219A 2013-11-21 シュテフェン カー. ハシュミ,アー.; ロトシュッツ,クリスティアン
N-heterocyclic carbene complexes of the formula (I) is disclosed, wherein the radicals have the meanings as defined in the invention. The preparation and the use as catalysts employed in a C-C, C-O, C-N or C-H bond formation reaction of said complexes are also disclosed.
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