子分类：
- G03F1/00： 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜,光罩;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
- G03F3/00： 分色;色调值的校正(一般照相复制设备入G03B)
- G03F5/00： 网屏印刷法;其所用网屏
- G03F7/00： 图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备(用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置,例如,B44C,H01L,例如,H01L21/00,H05K)
- G03F9/00： 原版、蒙片、片框、照片、图纹表面的对准或定位,例如自动地(G03F7/22优先;照相蒙片的制备入G03F1/00;在复制用的照相印片设备中的入G03B27/00)注意: 从2012年1月1日起,G03F9/70 - G03F9/00T26组不再用于新文献分类。以前文献正逐步转移到下面新的组: - G03F9/70转入G03F9/70 - G03F9/00T12转入G03F9/7003 - G03F9/00T14转入G03F9/7049 - G03F9/00T16转入G03F9/7065 - G03F9/00T18转入G03F9/7069 - G03F9/00T20转入G03F9/7073 - G03F9/00T22转入G03F9/7088 - G03F9/00T24转入G03F9/7092 - G03F9/00T26转入G03F9/7096
| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
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| 301 | 一种抑制偏转角度的自适应弹性铰链的设计方法 | CN201610648286.3 | 2016-08-09 | CN106444290A | 2017-02-22 | 王皓; 田思玉; 肖志文; 宁鹏; 熊思勇 |
| 本发明为保证在局域等离子体共振(LSPR)接触光刻中探针的力学状态，提出一种抑制偏转角度的自适应弹性铰链的设计方法。本发明所采用的设计方法是：根据探针的工作模式，确定铰链必须为对称结构。由于光刻胶表面所承受的压强有限，确定臂的个数为4个。设计出两种弹性铰链结构，一种直线型弹性臂铰链，一种圆弧形弹性臂铰链。通过对比，选取圆形弧形弹性臂铰链。材料的选择，选取铍青铜作为铰链的制作材料。用单一变量法，分别确定铰链的尺寸。本发明所述的设计方法，能够满足较为苛刻的工作要求，对保证接触光刻中探针的力学状态有重大的意义，铰链具有很好抑制偏角能力，且根据不同的工作需求，也可使用本方法进行设计，适用性强。 | ||||||
| 302 | 一种利用双层胶实现尺寸可控的纳米流体通道的制作方法 | CN201610852344.4 | 2016-09-26 | CN106444276A | 2017-02-22 | 李小军; 魏国庆; 朱衍飞; 吴晓冬; 黄一航; 张书源 |
| 本发明公开了一种利用双层胶实现尺寸可控的纳米流体通道的制作方法，该方法先制备具有凸起的纳米光栅线条的压印模板，然后依次制备光刻胶透明基底、制备压印模板-光刻胶-透明基底的结合体、制备表面复制有纳米光栅线条的光刻胶透明基板，再制备具有自支撑键合层的光刻胶结构板，最后将光刻胶透明基板和具有自支撑键合层的光刻胶结构板复合，制得尺寸可控的纳米通道。本发明利用聚合物将模板上的纳米光栅线条复制并固化成形，同一压印模板可重复使用，有利于批量化生产；而且通过调节聚合物粘附层的厚度，使同一压印模板能获得不同高度的纳米通道。 | ||||||
| 303 | 一种同心环型拓扑超透镜及其结构获取方法、制作方法 | CN201611178153.0 | 2016-12-19 | CN106443845A | 2017-02-22 | 邓永波; 吴一辉; 刘永顺 |
| 本发明公开了一种同心环型拓扑超透镜及其结构获取方法、制作方法，其中，结构获取方法包括：以预定数值孔径对应的焦点位置处光波电场能量密度极大化为目标，进行以圆极化波或辐射极化波为激励、置于指定基底上、具有旋转对称性的超透镜主体推导，在超透镜主体的对称面内，建立无损耗二氧化钛的插值函数，通过迭代方式求解出以焦点处的光波场能量密度极大为目标的横磁波的赫姆霍兹方程，获得收敛的超透镜主体的面型结构；将收敛的超透镜主体的面型结构绕对称轴旋转，获得同心环型拓扑超透镜主体。通过采用逆推的方式，推导出超透镜主体结构，使得超透镜的数值孔径可根据需求自由指定，超透镜体积小，工艺简单，制造成本低，易于集成和阵列化。 | ||||||
| 304 | 纳米级微结构的制备方法 | CN201310209010.1 | 2013-05-30 | CN104217928B | 2017-02-22 | 刘军库; 任梦昕; 张立辉; 陈墨; 李群庆; 范守善 |
| 本发明涉及一种纳米级微结构的制备方法，其包括以下步骤：提供一绝缘基底，在所述绝缘基底的一表面形成一导电层，所述导电层包括一石墨烯膜；在所述导电层上形成一掩模预制层；采用电子束曝光对所述掩模预制层进行图案化处理，形成一图形化的掩模层，所述图形化的掩模层包括多个凹部和多个凸部，位于凹部位置处的所述导电层暴露出来；通过干法刻蚀去除位于所述多个凹部位置处的所述导电层，暴露出所述绝缘基底的部分表面；形成一预制层至少覆盖所述暴露出来的绝缘基底表面；以及，去除所述掩模层以及所述导电层，在所述绝缘基底的表面形成纳米级微结构。 | ||||||
| 305 | 树脂组合物、使用其的触摸面板传感器用透明膜以及触摸面板 | CN201380018011.6 | 2013-03-28 | CN104204010B | 2017-02-22 | 那须慎太郎; 盐田聪; 武市浩 |
| 本发明的主要目的在于提供一种可形成硬度及耐热性优异的树脂膜的树脂组合物。为达成上述目的，本发明提供一种树脂组合物，其含有：具有显影性基团且实质上不含自由基聚合性基团的显影性聚硅氧烷、具有自由基聚合性基团且实质上不含显影性基团的聚合性聚硅氧烷以及多官能性单体，从而实现了上述目的。 | ||||||
| 306 | 掩膜 | CN201280059575.X | 2012-01-19 | CN103959155B | 2017-02-22 | 金信英; 洪敬奇; 尹赫; 朱元喆; 赵镛一; 朴文洙; 高铜浩; 柳秀英 |
| 本发明涉及一种制造发光器件的方法和光取向层。在本发明的发光器件的一个实施方式中包括的掩膜被设置成以高亮度发射具有良好平行性的光到距离一定距离的要照射的表面上，并且通过使用所述掩膜能够制造具有精确形成的取向图案的光取向层。 | ||||||
| 307 | 用于电容式测量系统的有源屏蔽 | CN201280032762.9 | 2012-07-02 | CN103649688B | 2017-02-22 | C.沃伯格; R.莫赛尔; K.P.帕德耶; E.德科克; W.维斯 |
| 一种产生表示对一目标的测量位置或距离的测量信号的电容式测量系统。该系统具有第一电路，其包括：薄膜电容式传感器(1a)，配置成提供取决于测量位置或距离的传感器电容；电缆(30a)，包括传感器接线(31a)和同轴屏蔽导体(32a)，电缆具有远程末端和本地末端，传感器接线在电缆的本地末端处电连接到电容式传感器；电压源(24a)，具有在电缆的远程末端处连接至传感器接线的输出端子，并被配置成供给电容式传感器能量，并以与传感器接线大致相同的电压供给屏蔽导体能量；以及电流测量电路(21a)，其具有第一和第二输入端子和一输出端子，电流测量电路与电压源和传感器接线串联连接，其中第一输入端子连接到电压源的输出端子并且第二输入端子在电缆的远程末端处连接到传感器接线，电流测量电路布置成测量在传感器接线中流动的电流并且在输出端子处产生测量信号。 | ||||||
| 308 | 黑色感光性树脂组合物及其应用 | CN201610580709.2 | 2016-07-22 | CN106406025A | 2017-02-15 | 廖豪伟; 周泓佳 |
| 本发明涉及一种黑色感光性树脂组合物及其应用。该黑色感光性树脂组合物包含碱可溶性树脂(A)、具有乙烯性不饱和基的化合物(B)、光起始剂(C)、溶剂(D)及黑色颜料(E)。其中，光起始剂(C)包含第一光起始剂(C-1)，且黑色颜料(E)包含第一黑色颜料(E-1)。当此黑色感光性树脂组合物并用第一光起始剂(C-1)及第一黑色颜料(E-1)，所制得的黑色间隙体和/或黑矩阵具有较佳的耐热阻抗稳定性及高精细度的图案直线性。 | ||||||
| 309 | 感光性树脂组合物以及使用其的感光性膏 | CN201280054319.1 | 2012-12-03 | CN103917917B | 2017-02-15 | 久保田正博 |
| 本发明提供一种感光性树脂组合物、使用它而形成的感光性膏，其即使在非氧气氛中进行热处理时，光固化物的热分解性也高且不产生碳的残留。其组成为含有(a)光聚合引发剂、(b)丙烯酸单体和(c)聚亚烷基碳酸酯，并且，相对于丙烯酸单体和聚亚烷基碳酸酯的总量的聚亚烷基碳酸酯的比例为50重量％～90重量％。作为聚亚烷基碳酸酯，使用聚丙撑碳酸酯。配合上述感光性组合物、溶剂和无机粉末而制成感光性膏。此外，作为无机粉末，使用绝缘性无机材料粉末或导电性金属粉末。 | ||||||
| 310 | 用于在低表面能基底上制造浮雕图案的环氧制剂和方法 | CN201280049485.2 | 2012-09-05 | CN103874731B | 2017-02-15 | 丹尼尔·J·纳夫罗茨基; 杰里米·V·戈尔登; 威廉·D·韦伯 |
| 本发明涉及可用于在低表面能聚合物基底上制备负性色调永久性光致抗蚀剂浮雕图案的永久性环氧光致抗蚀剂组合物，其包含：（A）一种或更多种根据式I至VI的环氧树脂；（B）一种或更多种阳离子光引发剂；（C）一种或更多种铸膜溶剂和（D）一种或更多种含氟化合物。本发明还涉及使用所公开组合物在低表面能聚合物基底上形成永久性光致抗蚀剂浮雕图案的方法。 | ||||||
| 311 | 100质量%的比率包含R1O（C2H4O）2R（2 R1表示甲基，负型感光性树脂组合物、分隔壁、黑色矩阵 R2表示碳原子数2或3的烷基。）所表示的化合物，以及光学元件 以及由该固化膜形成的分隔壁，所述分隔壁形成 | CN201280042629.1 | 2012-08-27 | CN103782237B | 2017-02-15 | 山田光太郎; 高桥秀幸; 川岛正行; 小尾正树 |
| 为将基板表面分隔成像素形成用的多个分区的提供一种负型感光性树脂组合物、通过将该 形态。感光性组合物固化而形成的、遮光性高的分隔壁、以及具有该分隔壁的光学元件，所述负型感光性树脂组合物能够制造高浓度含有颜料的、遮光性高的黑色矩阵，且再溶解性高、在利用狭缝涂布法得到的涂膜中不产生缺陷、且具有可利用狭缝涂布法进行涂布的粘度。一种负型感光性树脂组合物，所述负型感光性树脂组合物包含碱可溶性树脂、光聚合引发剂、黑色着色剂和溶剂，黑色着色剂相对于该组合物的总固体成分的含量超过20质量%，溶剂以相对于溶剂的总量为20～ | ||||||
| 312 | 耐UV油墨UV-CTP版成像涂层 | CN201610880070.X | 2016-10-09 | CN106371290A | 2017-02-01 | 陈翔风 |
| 本发明涉及一种耐UV油墨UV-CTP版成像涂层，其特征在于：按质量百分比计，包括有耐溶剂树脂10-60%、增溶剂2-12%、促溶树脂3-25%、成膜树脂10-65%、阻溶树脂0-1%、烷基酚-甲醛树脂与2-重氮-1-萘醌-4-磺酰氯的酯化物6-30%、邻苯三酚-丙酮树脂与2-重氮-1-萘醌-5-磺酰氯酯化物0-30%、抗醇阻溶剂0-20%、染料0.85-2%。采用上述技术方案，本发明提供了一种耐UV油墨UV-CTP版成像涂层，其耐UV油墨性强，不会被溶解，印刷寿命长。 | ||||||
| 313 | 基板平整度监控装置 | CN201610951757.8 | 2016-10-27 | CN106370134A | 2017-02-01 | 曾祥波 |
| 本发明公开了一种基板平整度监控装置，包括光路系统、信号处理系统和显示监控系统，光路系统包括线光源和受光系统；线光源用于发射光束照射基板表面；受光系统用于接收经基板反射的光信号；信号处理系统用于分析受光系统接收到的光信号，判断基板平整度是否存在异常；显示监控系统用于显示信号处理系统的结果并在基板平整度存在异常时发出警报。本监控装置实时监控基板平整度，在不影响设备运行的情况下，可以及时发现基板平整度的异常并发出警报，可以及时进行处理，避免了不良产品的产生，降低了生产成本。 | ||||||
| 314 | 半导体器件及制造方法 | CN201610549022.2 | 2016-07-13 | CN106356288A | 2017-01-25 | 高振宏; 潘正圣; 刘继文; 陈敏璋; 杨博轩 |
| 本发明的实施例提供了一种半导体器件和制造方法，其中，使用照射的掩模材料形成具有减小的尺寸的部件。在实施例中，利用通过带电离子照射过的掩模材料来聚焦后续的照射工艺。在另一实施例中，照射掩模材料以使掩模材料再成型并且减小在掩模材料中形成的开口的尺寸。通过这样的工艺，可以避免光刻的限制并且可以实现更小的部件尺寸。 | ||||||
| 315 | 一种微观可视化刻蚀低渗透模型制备方法 | CN201610953629.7 | 2016-11-03 | CN106338889A | 2017-01-18 | 施雷庭; 王瑶; 舒政; 叶仲斌; 陈洪; 朱诗杰; 曹杰 |
| 本发明公开了一种微观可视化刻蚀低渗透模型制备方法，其工艺流程包括如下步骤：1.洗玻片、2.烘玻片、3.匀胶、4.前烘、5.曝光、6.显影、7.坚膜、8.封蜡、9.酸蚀、10.去蜡去胶；通过在匀胶过程中分别采用两层底胶和刻蚀胶，紧密的贴合待加工的玻璃片，再针对这两种胶混合后的特性，设定特别的工艺参数，以此制得微观可视化刻蚀模型。本发明所提供的方法，其加工出来的刻痕最大精度能达到1.2μm，所得刻痕为V型刻痕，其宽度均匀，深度合适，能很好地模拟真实地层孔隙情况，更加满足实验室分析的使用需求。 | ||||||
| 316 | 量子点分散体、自发光型感光性树脂组合物、滤色器和图像显示装置 | CN201610133057.8 | 2016-03-09 | CN106338885A | 2017-01-18 | 金胄皓; 王贤正 |
| 本发明涉及量子点分散体和包含该量子点分散体的自发光型感光性树脂组合物、以及利用该自发光型感光性树脂组合物制造的滤色器和图像显示装置，更详细而言，本发明的特征在于，上述量子点分散体包含光致发光量子点粒子、分散剂和溶剂，并且上述分散剂为在1分子内具有羧酸和不饱和双键的化合物。此外，本发明的特征在于，由包含上述量子点分散体的自发光型感光性树脂组合物制造的滤色器和包含该滤色器的图像显示装置。 | ||||||
| 317 | 制造包括至少两个不同的功能性高度的一体式微机械构件的方法 | CN201410049720.7 | 2014-02-13 | CN103979483B | 2017-01-18 | A·弗辛格; M·斯特兰策尔 |
| 本发明涉及一种制造包括至少两个不同的功能性高度的一体式微机械构件（31，41，61，91）的方法。根据本发明，所述方法（1）包括在单个高度上的LIGA工艺以及对直接在衬底（2）上的LIGA沉积物进行机加工的工艺。 | ||||||
| 318 | 确定掩模图案和曝光条件的方法以及计算机 | CN201310593722.8 | 2013-11-21 | CN103838089B | 2017-01-18 | 三上晃司 |
| 本发明涉及确定掩模图案和曝光条件的方法以及计算机。一种确定方法包括如下步骤：设定用于定义掩模的多个图案元素的形状的第一参数；设定用于定义有效光源分布的第二参数；以及在改变第一参数和第二参数的值的同时重复掩模图案的图像的计算以及评价项目的值的计算的过程，由此确定有效光源分布以及掩模图案，其中通过使用表示邻近效应的指标的值将图案元素的参数设定作为一个参数。 | ||||||
| 319 | 一种马口铁圆罐网版丝印工艺 | CN201210204495.0 | 2012-06-20 | CN103507455B | 2017-01-18 | 林宏钟 |
| 本发明属于网板丝印领域，公开了马口铁圆罐网版丝印工艺，先制作网板，再选择精度高的气动曲面丝印机进行丝印；所述网板工件四周延长3mm，所述3mm在网板的尾部分别为50%、35%、15%的网点渐变，作为丝印的接头，所述网板上涂有UV光油，所述UV光油按重量份主要由以下成分制成：丙烯酸混合树脂70%、丙烯酸混合单体C15H20O6,C1H2406,C12H1804)20%、混合光敏剂C10H12O2，C13H10O）4%-8%，辅助剂有机硅氧烷2%-6%，光油的调配室温为23℃-33℃，本发明的目的在于提供一种节约油墨、透明度高、工件表面光滑、无任何增加纹理的马口铁圆罐网版丝印工艺。 | ||||||
| 320 | 一种高耐水易脱模丝网感光胶的制备方法 | CN201610715424.5 | 2016-08-23 | CN106324990A | 2017-01-11 | 刘日生; 夏智明; 柴一鸣 |
| 本发明公开一种高耐水易脱模丝网感光胶的制备方法，包括以下步骤：1)用300ml水充分溶解40g碱化的聚乙烯醇，得质量浓度为0.114g/ml的聚乙烯醇溶液；2)在步骤1)所得的溶液中依次准确加入12g聚醋酸乙烯乳液、5g丙烯酰胺、3g甲基丙烯酸乙酯、0.4g乙二胺,1.8g光引发剂0.3g聚丙烯酰胺乳化剂、0.5g乳化硅油消泡剂及0.8g染色剂；3)将步骤2)中所得的溶液85℃反应3h，期间不断搅拌，形成分散均匀的乳液体系；4)将步骤3)中所得的溶液降至室温，静置24h消泡后，密封避光保存；该高耐水易脱模丝网感光胶的制备方法耐水性好，易脱膜。 | ||||||
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