首页 / 国际专利分类库 / 化学;冶金 / 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆(通过金属化纺织品的入D06M11/83;通过局部金属化来装饰纺织品的入D06Q1/04);表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆(对于特定用途,见相关位置,例如用于制造电阻器的入H01C17/06);金属材料腐蚀或积垢的一般抑制(通过电解或电泳对金属的金属表面或涂层进行处理的入C25D,C25F)
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序号 专利名 申请号 申请日 公开(公告)号 公开(公告)日 发明人
81 喷嘴设备和化学气相沉积反应器 CN201120579984.5 2011-12-23 CN202671651U 2013-01-16 M·雷克
本实用新型描述了一种在化学气相沉积反应器中使用的喷嘴设备。该喷嘴设备具有喷嘴本体和至少一个控制单元,喷嘴本体具有入口、出口和位于它们之间的流动空间,控制单元包含控制部分和设定部分,其中,控制部分以可运动的方式布置在流动空间内,在流动空间内限定了流动横截面,流动横截面足够小以在气体流经喷嘴体时于控制部分产生压损失,该压力损失在流动空间内朝向出口偏置控制部分。设定部分随控制部分一起运动且包含至少一个如下部分:它随设定部分的运动而改变出口的流动横截面。此外,提供至少一个偏置元件,它在流动空间内向远离出口的方向偏置控制部分。此外,描述了一种化学气相沉积反应器,它具有限定了工艺空间的工艺室。工艺室包含在其底壁上的至少一个通孔,而上述类型的喷嘴设备至少部分地被接纳在通孔内。
82 平衡RF电桥组件 CN201190000231.2 2011-01-26 CN202671648U 2013-01-16 白宗薰; S.H.金; 朴范洙
在此所揭露的实施例一般涉及PECVD装置。当RF功率源在多个位置耦接至电极时,在多个位置上的电流电压可以是不同的。为了确保电流和电压二者在多个位置基本相同,RF电桥组件可刚好在与电极的连接之前的位置上耦接在多个位置之间。RF电桥组件使在多个位置之间的电压分布和电流分布基本相等。因而,基本相同的电流和电压在多个位置被施加至电极。
83 金属酸洗废气净化系统 CN201120306727.4 2011-08-22 CN202270453U 2012-06-13 葛国华
本实用新型属于金属加工处理技术领域,尤其是涉及一种金属酸洗废气净化系统。它解决了现有技术设计不够合理等技术问题。本系统包括若干底部敞口的集气筒,在集气筒的上方设有一根集气管,所述的集气筒分别通过支管与集气管相连通,且集气管的内径随着连接于其上的集气筒数量的增加而增大,所述的集气管与第一净化桶相连通,在第一净化桶的一侧设有第二净化桶,第一净化桶的上部和第二净化桶的下部通过管道相连通,在管道上连接有轴流机。与现有的技术相比,本金属酸洗废气净化系统的优点在于:设计合理,结构简单,净化效果好,排放出的气体完全符合环保标准,并且在净化的同时能够吸收有用物质。
84 电子蒸发坩埚 CN201020617898.4 2010-11-22 CN201864770U 2011-06-15 刘锋; 赵志刚
电子蒸发坩埚,包括坩埚(1)和坩埚(3),坩埚(1)设在坩埚(3)的上面,之间为间隙配合,其特征在于:所述的坩埚(1)和坩埚(3)中间放置有膜材料(2)。本实用新型,电子枪在工作时,电子束不直接作用于蒸发材料,而靠石墨底座进行传导加热,实现较低蒸发温度材料的蒸发。保证材料本身的性能。
85 基板支撑组件 CN200790000078.7 2007-07-23 CN201436515U 2010-04-07 罗宾·L·泰内; 约翰·M·怀特
提供一种处理腔室及控制位于处理腔室内的基板支撑组件上的基板温度的方法。基板支撑组件包含一导热本体;一基板支撑表面,其位于导热本体的表面上,并适以支撑一大面积基板于其上;一或多个加热元件,其嵌入导热本体内;及二或多个冷却通道,其嵌入导热本体内以与一或多个加热元件共面。冷却通道可分支为二或多个长度相等的冷却通路,其由一单一点入口延伸进入一单一点出口以提供相等的阻式冷却(resistance cooling)。
86 原子层沉积室及其部件 CN200820136183.X 2008-09-28 CN201367461Y 2009-12-23 迪-业·吴; 舒伯特·S·楚; 保罗·马; 杰弗里·托宾
本实用新型涉及一种原子层沉积室,其包括气体分配器,该气体分配器包括在气体入口和气体出口之间具有圆锥形通路的中心覆盖。气体分配器还具有包括连接着的第一和第二圆锥形孔的吊线板。第一圆锥形孔从中心覆盖的气体出口接收处理气体。第二圆锥形孔从第一圆锥形孔向外径向延伸。该气体分配器还具有位于室侧壁上的外围凸缘。
87 具有防积部件的发动机 CN200620116410.3 2006-05-18 CN201083161Y 2008-07-09 H·埃比-阿卡; 蒋向阳; J·R·阿加玛; K·C·凯利; M·W·雅瑞特
发动机部件上的沉积会对发动机性能产生负面影响。本实用新型所述的发动机包括至少一个附连于发动机壳体的防积碳发动机部件。发动机部件包括至少一个表面张相对高的表面,该表面是一个非接触磨损表面,并附着有一个表面张力相对较低的涂层。表面张力相对低的涂层的表面张力小于或等于30达因/厘米。
88 移动的PVD/CVD涂装中心 CN200590000066.5 2005-03-24 CN201080493Y 2008-07-02 D·弗兰茨; U·劳赫; H·埃根伯格; C·比肖夫; F·基亚尼; H·舒尔茨; V·比勒
一种PVD和/或CVD涂装中心,包括至少一个PVD和/或CVD系统与另外的设备以及供应该系统与设备的设施,由此将该涂装系统与另外的设备和/或设施以预组装方式安装在至少一个工业模和/或工业平台内,并提供了将涂装中心在运输模式和生产模式之间进行双向切换的装置。
89 木工机械工作台 CN200720004223.0 2007-02-02 CN201073790Y 2008-06-18 许庆海; 华毅
本实用新型针对现有的制造的木工机械工作台面存在的易生锈和硬度差易划伤而失去精度的问题,公开了一种既防锈又耐磨的木工机械工作台,包括铸铁台体(1),其特征是在所述的铸铁台体(1)的表面设有利用PVD技术沉积而形成的防锈、耐磨层(2)。它具有工艺简单,性能可靠,防锈、耐磨的特点,可提高木工机械工作台的使用寿命和精度保持周期。
90 连续式溅工件输送装置 CN200720054174.1 2007-07-13 CN201071392Y 2008-06-11 刘定国; 林宏兴
本实用新型公开一种连续式溅工件输送装置,包括具有支架的盛载盘传送单元和盛载盘。支架上装有主传送带轮和从传送带轮,主传送带轮和从传送带轮外套有传送带。支架上于传送带的一侧枢装有主动转轮和从动转轮,主动转轮和从动转轮外套装有主动转轮带。支架上于传送带的另一侧枢装有两辅助转轮,辅助转轮上套装有辅助转轮带。盛载盘包括底座,底座上枢装有若干工件支轴。工件支轴上固定有皮带轮,每排皮带轮共同套设有排皮带;相邻的两排皮带轮中有两位置相应的皮带轮上套设有排间皮带。盛载盘的后侧面与辅助转轮带抵靠,盛载盘上的支轴转轮与主动转轮带相抵靠。本实用新型连续式溅镀机工件输送装置可降低制造成本,提高劳动生产效率,并提高溅镀品质。
91 可延长靶材使用寿命的平面磁控溅射 CN200720149143.4 2007-05-15 CN201068469Y 2008-06-04 张允新
本实用新型涉及一种可提高靶材利用率,延长靶材使用寿命的磁控溅射靶,适用于物理气象沉积磁控溅射真空膜技术。所述磁控溅射靶包括靶材、靶背板、绝缘垫、靶阴极框架、阴极挡板,磁和导磁极靴调整垫,可移动的磁铁和导磁调整垫可调整靶材表面磁场的均匀性和等离子体的均匀性,使等离子体刻蚀靶材的速率降低,使靶材端部和中间部位被刻蚀之差减小,从而提高靶材利用率,大幅度降低生产产品的成本,节约生产资源,提高产品竞争
92 具有盖板的等离子处理室及其气体分配板组件 CN200620112597.X 2006-04-04 CN201021459Y 2008-02-13 王群华; 侯力; S·D·亚达夫; 古田学; 大森研治; 崔寿永; J·怀特
申请提供用于大面积基板处理室中的气体分配用的气体分配板实施例。该等实施例描述一用于具有盖板的等离子处理室的气体分配板组件,包含:一扩散板,具有:一上游侧、一面向处理区的下游侧、及数个气体通道,形成穿过该扩散板;及一档板,放置于处理室的盖板与扩散板之间,具有数个孔,由档板上表面延伸至下表面,其中该等孔具有至少两侧。档板的小针孔是用以允许足够的气体混合物通过,而档板的大孔则用以改良整个基板的处理均匀性。
93 金属工件涂装烷处理的防护层 CN200720105705.5 2007-01-22 CN200996048Y 2007-12-26 王一建; 陆国建; 支波; 沈泉飞; 托马斯·尼尔
一种金属工件涂装烷处理的防护层,包括金属工件(1),附着金属工件表面的防护层(2),其特征在于:所述的防护层(2)是硅烷处理的防护层,该防护层的结构呈致密网络状,其膜重为0.1~0.2g/m2。同现有技术比较,本实用新型具有如下优点:1)硅烷处理的防护层是致密的有机网络结构,用于替代传统的磷化膜防护层,磷化膜防护层膜重为2~3g/m2,本实用新型的防护层膜重为0.1~0.2g/m2,单位面积膜重只有磷化膜防护层的5%;2)硅烷处理的防护层不含有重金属,制备过程中无残渣、排放少,有利于环境保护。
94 经喷前处理的发动机气缸 CN200520119081.3 2005-09-16 CN2880851Y 2007-03-21 关川岳; 饭泉雅彦; 荻野崇; 西村公男; 盐谷英尔; 高桥秀夫
一种经喷前处理的发动机气缸体,其包括:气缸体的缸孔内表面,其进行喷镀前处理,包括准备用于喷镀镀层的工作表面,通过使工具施压该工作表面来粗化工作表面,使工作表面的材料在工作表面上移位,以在其上形成凹陷,保持工作表面的材料不从工作表面上移除;和该气缸体的缸孔内表面的喷镀镀层。本实用新型的经喷镀前处理的发动机气缸体可实现喷镀镀层的形成稳定,提高其可靠性。
95 具有喷涂金属保形涂层的电子装置 CN03900013.3 2003-09-15 CN2865209Y 2007-01-31 G·R·沃奇科; C·V·罗德里格兹; M·T·加弄; P·W·刘; M·德索尔戈; W·G·利昂内塔; S·M·奥彭海姆
一种用于具有外壳电子装置的热耗散和电磁干扰(EMI)屏蔽件。外壳的内表面覆盖有保形金属层,其设置成与外壳内的一个或多个发热电子元件或其它发热源形成热邻接,并且可为装置提供热耗散和电磁干扰屏蔽。该层可在熔融状态下喷涂在内表面上,并固化以形成自粘附性涂层。
96 具有被引导的气流的气体分布器 CN200420117779.7 2004-10-25 CN2794658Y 2006-07-12 拉克斯曼·穆鲁盖什; 帕德马纳班·克里希纳拉利; 卡尔·邓纳姆
本实用新型公开了一种具有被引导的气流的气体分布器。气体分布器将气体分布通过衬底处理室的表面。该气体分布器具有轮轴、从轮轴沿径向向外延伸的导流片、第一组叶片和第二组叶片。在一种方案中,轮轴具有气体进口和气体出口。导流片具有相对的第一和第二表面。第一叶片位于导流片的第一表面上,引导气体通过室表面。在一种方案中,第一叶片包括从轮轴向外弯曲并逐渐变细的弓形板。第二叶片位于导流片的第二表面上,引导气体通过导流片的第二表面。在一种方案中,轮轴中的气体连通管可以允许气体绕开第一和第二组叶片。
97 热处理用的器皿和纵向型热处理装置 CN02292606.2 2002-12-27 CN2684373Y 2005-03-09 入江伸次; 酒井裕史
本实用新型提供了一种热处理用的器皿,其特征在于,它具有下列各部分:许多根支柱;在上述各支柱上沿着高度方向隔开规定的间隔形成的许多爪部;通过上述爪部,安装在上述许多根支柱上的许多格上,具有能装载被处理物体的装载面的许多支承板;设置在上述被处理物体的装载面上的沟槽,以及设置在上述沟槽内的许多通孔。按照本实用新型,由于在被处理物体的装载面上设置了沟槽,并且在沟槽内设有许多通孔,因而能阻止在支承板的被处理物体装载面与被处理物体之间形成了一层空气层,以及被处理物体的粘附。借助于这种结构,即使在高温热处理时,也能够阻止被处理物体因粘附而发生滑移。
98 用于衬底处理室的气体喷嘴 CN03261846.8 2003-05-15 CN2659541Y 2004-12-01 拉克斯曼·穆鲁盖什
用于衬底制造装置的气体输送喷嘴具有气体输送管。所述气体输送管包含具有不对称锥形开口的气体通道。所述的不对称锥形开口由(i)向上突入所述的气体通道中以部分地阻挡所述气体通道的下盖以及(ii)向下突入所述的气体通道并突出在所述的下盖之上的上缘所限定。
99 用金属掩模 CN201720954355.3 2017-08-02 CN207619515U 2018-07-17 西刚广
用金属掩模具备包括多个掩模孔的掩模区域,位于掩模区域的中央以外的位置的各掩模孔的连接部具有遍及掩模孔的整周地朝向掩模孔的内侧突出的形状,由作为掩模区域的中央附近的部分的第1部分、和作为掩模区域的端部附近的部分的第2部分构成。第1部分与掩模区域的背面之间的距离是第1台阶高度,端部区域中的第1台阶高度比中央区域中的第1台阶高度小。
100 用于处理腔室中的腔室部件 CN201721058541.5 2017-08-23 CN207587699U 2018-07-06 王建齐; 尤吉塔·巴瑞克; 朱丽亚·巴文; 凯文·A·派克
本公开内容的实现方式提供用于处理腔室中的腔室部件。腔室部件包括:主体,所述主体在等离子体处理腔室中使用;化物阻挡层,所述氧化物阻挡层形成在主体的暴露表面的至少一部分上,氧化物阻挡层具有2gm/cm3或大于2gm/cm3的密度;以及氟氧化层,所述氟氧化铝层形成在氧化物阻挡层上,氟氧化铝层具有2nm或大于2nm的厚度。
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