181 |
一种奥氏体不锈钢酸洗钝化剂及其制备方法 |
CN201710661113.X |
2017-08-04 |
CN107488858A |
2017-12-19 |
季吉清 |
本发明公开了一种奥氏体不锈钢酸洗钝化剂,包括如下重量份组分:过氧化氢1~4份、氟硅酸1~2份、硝酸钾0.6~1.5份、椰油酰胺丙基羟磺酸甜菜碱2~3份、十二烷基二甲基氧化胺0.5~0.8份、聚丙烯酰胺0.2~0.3份、硫脲0.6~1.5份、乌洛托品0.1~0.5份、环氧硬脂酸辛酯0.1~0.7份、水5~12份。该奥氏体不锈钢酸洗钝化剂对不锈钢表面的氧化物具有很好的去除作用,去除率达到99%以上,该产品性质温和,不会对不锈钢表面产生二次破坏,具有商业应用价值。 |
182 |
蚀刻液组合物及使用它的薄膜晶体管显示面板的制造方法 |
CN201710437114.6 |
2017-06-12 |
CN107488856A |
2017-12-19 |
金真锡; 金俸均; 金奎佈; 申贤哲; 李相赫 |
本发明涉及蚀刻液组合物及使用它的薄膜晶体管显示面板的制造方法。本发明的一实施例的蚀刻液组合物包括0.1wt%至5wt%的磺酸类化合物、0.1wt%至3wt%的氟化合物、0.1wt%至5wt%的铜化合物及余量的水,并且所述蚀刻液组合物的pKa值为3以下。 |
183 |
一种碳氮化钛涂层的制备方法 |
CN201610411125.2 |
2016-06-13 |
CN107488850A |
2017-12-19 |
马景元 |
本发明提供一种碳氮化钛涂层的制备方法,涉及一种金属涂层制备技术领域。该发明包括以下步骤:备料:打磨:清洗:预涂:干燥:高温扩散。本发明方法简单,成本低,提高了碳氮化钛增强钛基复合涂层的制备效率,从根本上解决了等离子体化学气相沉积、中温化学气相沉积、空心阴极离子镀、离子束辅助沉积、粉末冶金真空烧结、激光熔覆等方法存在的问题,开辟了碳氮化钛增强钛基复合涂层制备的新途径。 |
184 |
一种焊接件发黑处理方法 |
CN201710696361.8 |
2017-08-15 |
CN107488846A |
2017-12-19 |
周正明 |
本发明公开一种焊接件发黑处理方法,包括以下操作步骤:(1)将焊接件表面清洗干净后,放入发黑液A中浸泡处理15-20min;(2)将经过步骤(1)处理的焊接件进行超声处理20-30min;(3)将经过步骤(2)处理的焊接件放入发黑液B中,浸泡处理8-12min后,取出;(4)将经过步骤(3)处理的焊接件放入封闭液中,浸泡处理5-10min后,取出,洗净,烘干,制得成品。本发明提供的焊接件表面发黑的处理方法,操作方法简单,制得的发黑膜,黑亮、结合力好、耐蚀性强,处理工艺稳定,成品率高,可用于大批量的生产。 |
185 |
防电腐蚀用滚动轴承 |
CN201480016798.7 |
2014-01-07 |
CN105051240B |
2017-12-19 |
虻川志向 |
一种防电腐蚀用滚动轴承(1),其具备金属制的外轮(2)和藉由多个滚动体(5)所配置的金属制的内轮(3),在外轮(2)或内轮(3)的外表面(21)、(31)通过等离子体喷镀法形成有防电腐蚀用的陶瓷喷镀皮膜(10)。使被覆的外轮(2)或内轮(3)的外表面(21)、(31)的表面粗糙度为Ra:0.5μm~2.0μm,使陶瓷喷镀皮膜(10)的组成为铝氧化物的含量:98.0重量%~99.5重量%、钛氧化物的含量:0.5重量%~2重量%,使陶瓷喷镀皮膜(10)的膜厚为50μm~100μm,使陶瓷喷镀皮膜(10)的体积电阻率为1013Ωcm~1016Ωcm,使绝缘击穿电压为35kV/mm以上。 |
186 |
磁控溅射腔室及磁控溅射设备 |
CN201410107896.3 |
2014-03-21 |
CN104928635B |
2017-12-19 |
杨玉杰; 邱国庆; 王厚工 |
本发明提供的磁控溅射腔室及磁控溅射设备,其包括承载件和环形磁体组件,其中,承载件用于承载环形磁体组件,并使其与磁控溅射腔室内的等离子体隔离;环形磁体组件环绕在靶材的外围,且位于靠近靶材的位置处,用以在进行溅射沉积工艺时,产生可提高靶材边缘区域的磁场强度的辅助磁场,从而可以增加自靶材边缘区域溅射出粒子的数量,且减少自靶材中心区域溅射出的粒子数量,进而可以提高基片边缘区域的薄膜厚度,减小基片中心区域的薄膜厚度。本发明提供的磁控溅射腔室,其不仅可以更灵活地调节磁控溅射腔室内产生的磁场的分布和强度,而且还可以在能够获得低应力的薄膜的前提下,提高薄膜厚度的均匀性。 |
187 |
抛光浆料以及使用所述抛光浆料的衬底抛光方法 |
CN201410432719.2 |
2014-08-28 |
CN104746080B |
2017-12-19 |
郑胜元 |
揭示一种用于钨的浆料和一种衬底抛光方法。所述浆料包含用于进行抛光且具有正动电位的磨料以及用于促进钨的氧化且用于控制所述磨料的动电位的电位调节剂。 |
188 |
对电感耦合的等离子体沉积反应器的工艺气管理 |
CN201310412808.6 |
2013-09-11 |
CN103668117B |
2017-12-19 |
F·阿洛克塞; R·B·米利根盖 |
披露了关联于加工半导体衬底的硬件和方法的实施例。一示例性薄膜沉积反应器,包括:工艺气分配器,该工艺气分配器包括:被定位以将等离子气提供给薄膜沉积反应器中的等离子发生区的等离子气馈给进口以及被定位以将薄膜前体气提供给等离子发生区的下游的前体气馈给进口;绝缘的密闭容器,其被配置成在薄膜沉积反应器中将等离子发生区维持在降低的压力下;以及电感耦合的等离子(ICP)线圈,其被设置在绝缘的密闭容器的一部分侧壁周围并被定位成使侧壁将等离子发生区与ICP线圈隔开;以及基座,其被配置成支承半导体衬底以使半导体衬底的薄膜沉积表面暴露于被形成在工艺气分配器下游的反应区。 |
189 |
一种聚四氟乙烯表面镀银的耐高温射频电缆的加工工艺 |
CN201710666220.1 |
2017-08-07 |
CN107482297A |
2017-12-15 |
王彬; 刘大亮; 徐金龙 |
本发明公开了一种聚四氟乙烯表面镀银的耐高温射频电缆的加工工艺,包括以下步骤:先将整体被聚四氟乙烯绝缘的射频电缆放入二氯乙烷中采用超声清洗;然后进行粗化、敏化、活化处理;将活化后的射频电缆置于KOH和甲醛混合溶液中30S;将射频电缆放入配制好的化学镀银溶液中化学镀银;化学镀银处理后的射频电缆再经连续镀银加厚银层并干燥得到镀银射频电缆。本工艺自配表面金属化试剂,对射频电缆外的聚四氟乙烯材料表面改性具有非常显著的效果;制得的整体被聚四氟乙烯绝缘的射频电缆形成的纯银外导体具有良好的致密性,连续性,均匀性,优良的结合力以及优良的导电性能和屏蔽性能。 |
190 |
用于改善ALN陶瓷表面蒸镀膜厚度均匀性的装置 |
CN201710595822.2 |
2017-07-20 |
CN107481919A |
2017-12-15 |
祝林; 贺贤汉; 戴洪兴 |
本发明设计一种用于改善ALN陶瓷表面蒸镀膜厚度均匀性的装置,包括两个侧板,每个侧板包括上下两级台阶,每级台阶包括一个水平台阶面和一个垂直台阶面,两个侧板的两级台阶面对面平行放置;包括支撑杆,所述支撑杆两端分别焊接于两个侧板的下级台阶的垂直台阶面上;包括陶瓷板,所述陶瓷板放置于两个侧板的下级台阶的水平台阶面上。蒸镀时可将铜片直接放在装置里,在整个蒸镀过程中。ALN陶瓷与铜片不直接接触,相互之间保持固定的距离,保证了蒸镀膜厚度均匀,减少烧结后气泡,提高了产品良率。 |
191 |
一种基于参差表面结构的铝缸套及其生产方法 |
CN201710613221.X |
2017-07-25 |
CN107476894A |
2017-12-15 |
黄德松 |
本发明公开一种基于参差表面结构的铝缸套,包括缸套基体,所述缸套基体外表面形成有毛刺部和环形槽体部,所述毛刺部和环形槽体部相互独立且所述毛刺部和环形槽体部间隔错位设置;所述毛刺部具有多个凸起,所述凸起的高度在0.1~0.5mm,所述环形槽体部的槽深在0.2~0.4mm。本发明公开还公开一种制备上述铝缸套的方法。本发明公开的基于参差表面结构的铝缸套,能够提高与缸套基体的结合强度,并具备足够的耐磨性能,有助于获得有效的热传导率。 |
192 |
一种移动式酸洗槽 |
CN201710709990.X |
2017-08-18 |
CN107475733A |
2017-12-15 |
方士君; 朱达明 |
本发明公开了一种移动式酸洗槽,包括酸洗槽和底座,所述酸洗槽底部两侧设有若干滚轮;底座为不带有顶面的长方体结构,底部另具有可容纳滚轮滚动的一对轨道,底座的一侧设有出液口。本发明采用可移动式结构,免去搬运的麻烦,提高了清洗效率,不影响环境,提高了对操作员的安全保障。 |
193 |
一种新型挤压机用除锈剂 |
CN201710759638.7 |
2017-08-30 |
CN107475726A |
2017-12-15 |
徐加树 |
本发明涉及一种新型挤压机用除锈剂,按重量分数配比由以下组分制成:盐酸212-254份;磷酸42-56份;三聚磷酸钠15-18份;环烷酸14-18份;乌洛托品16-19份;氯酸钠1.5-1.8份;环烷酸铝8-12份;三乙醇胺1.4-1.9份;烷基苯磺酸钠6-12份;氯仿2.6-4.2份;脂肪醇聚氧乙烯醚16-28份;三乙醇胺4-7份;碳酸氢铵10-15份;水74-82份。本发明的优点在于:本发明制备的清洗除锈剂可以实现只需一道工序同时可完成黑色金属表面的清洗、除磷、除锈、防腐和防锈,为黑色金属表面处理减少了多道工序,使黑色金属表面基体不再遭受过酸。 |
194 |
复合型缓蚀剂 |
CN201710804299.X |
2017-09-08 |
CN107475722A |
2017-12-15 |
赵秋菊; 卓耀文; 周海军 |
本发明提供一种复合型缓蚀剂,其组成以重量百分比计,包括:羟乙基咪唑啉30~60%、炔醇3~20%、溶剂10~50%、分散剂1~4%以及改性封端聚醚5~10%,并且上述组分的含量之和为100%。本发明提供的复合型缓蚀剂可用于水性金属防腐涂料体系,可显著提高涂料的防腐蚀效果,同时降低涂料的生产成本。 |
195 |
一种使不锈钢表面清洁的处理方法 |
CN201710720901.1 |
2017-08-22 |
CN107475720A |
2017-12-15 |
崔斌 |
本发明公开了一种使不锈钢表面清洁的处理方法,包括步骤为:将待处理的不锈钢放入到溶液中,使不锈钢表面的物质与溶液反应,并使不锈钢表面形成一层膜;用湿润的毛巾顺着需要处理的不锈钢的表面纹路进行溶液的清除,再顺着表面纹路将水擦干净;对不锈钢表面进行抛光,直至表面透亮且光亮照人,将使用过的毛巾存储好以备下次使用。通过上述方式,本发明的使不锈钢表面清洁的处理方法,能够将不锈钢表面在卷板、扎边、焊接或人工表面火烤加温造成的黑色氧化皮处理掉,以达到优良的不锈钢,处理花费的成本小,没有腐蚀性。 |
196 |
一种套筒及制备方法 |
CN201610407391.8 |
2016-06-07 |
CN107475717A |
2017-12-15 |
金玉谟; 尚召华; 陶温军; 刘天才 |
本发明提供一种套筒及其制备方法,所述套筒表面布满沟槽,沟槽宽度10-1000纳米,沟槽采用化学刻蚀方式获得。采用化学刻蚀技术在套筒表面形成微纳织构,一方面减小了金属表面与润滑油脂的接触角,增大了金属表面与润滑油脂的粘附力,一方面减小了套筒表面的摩擦系数。本发明的有益效果是:1)减小摩擦系数;2)驻存润滑脂,使润滑时间延长。 |
197 |
用于Zn电镀钢板的磷酸盐膜的组合物,涂覆有其的Zn电镀钢板和其涂覆所述钢板的方法 |
CN201611089987.4 |
2016-11-30 |
CN107475707A |
2017-12-15 |
崔载雄 |
本发明涉及用于Zn电镀钢板的磷酸盐膜的组合物,涂覆有其的Zn电镀钢板和其涂覆所述钢板的方法。所述用于Zn电镀钢板的磷酸盐膜的组合物,可以包含锌(Zn)、镍(Ni)和锰(Mn),其中Mn的含量是6至8wt%。 |
198 |
一种普通钢涂装基底用钝化剂及其制备方法 |
CN201710824285.4 |
2017-09-13 |
CN107475705A |
2017-12-15 |
宋肖肖; 苏启顺; 苏阳 |
本发明公开了一种普通钢涂装基底用钝化剂及其制备方法,属于金属表面处理技术领域,其特征在于,包括以下质量百分比的组分:磷酸二氢钠0.5-1.5%,氯化钠10-15%,草酸15-20%,草酸铵0.3-0.7%,石墨烯分散液1-5%,余量为去离子水;其制备过程采用首先机械剥离法制备石墨烯分散液,然后将石墨烯分散液加入到由磷酸二氢钠、氯化钠、草酸、草酸铵组成的钝化剂基础液中;本发明的钝化体系成本低廉、无毒无铬,适用于普通钢涂装基底,能够大幅度提高普通钢涂装后的耐腐蚀性、耐盐雾性及附着力。 |
199 |
一种电工钢表面钝化处理方法 |
CN201710687367.9 |
2017-08-11 |
CN107475702A |
2017-12-15 |
王立涛; 裴英豪; 裴陈新 |
本发明提供了一种电工钢表面钝化处理方法,方法为:在电工钢生产线的退火段出口后的水冷却部分,向水冷却槽的水中添加具有钝化功能的水溶性有机物质,电工钢浸泡在水冷却槽,取出,即可。与现有技术相比,本发明可在现有电工钢连续退火生产线,在退火段出口后的水冷却部分,向水冷却槽中添加具有钝化功能的水溶性有机物质,电工钢经过水冷却槽,溶解在水中的有机物质在电工钢通过后,形成一层非常薄的表面钝化层,使得退火后的电工钢提高防腐蚀能力,满足电工钢储存、冲片和电镀的要求。同时冷却水降低了带钢的温度。 |
200 |
玻璃基板承载装置、加工辅助机构以及辅助加工的方法 |
CN201710765133.1 |
2017-08-30 |
CN107475690A |
2017-12-15 |
张恺 |
本发明提供一种玻璃基板承载装置,用于承载玻璃基板,包括承载台及连接承载台的第一驱动部,玻璃基板置于承载台上,承载台分成三个承载体,所述第一驱动部带动三个承载体中的位于两侧的承载体远离中间的承载体并与所述中间的承载体之间相对且间隔以形成有间隙,且所述第一驱动部带动所述三个承载体相对合并以支撑所述玻璃基板。本发明了解决了玻璃基板成膜过程中,为避开支撑杆而导致玻璃基板的有效利用面积低,整体收益低的问题。 |