21 |
环保型金属酸洗系统 |
CN201120301281.6 |
2011-08-18 |
CN202272957U |
2012-06-13 |
葛国华 |
本实用新型属于金属加工处理技术领域,尤其是涉及一种环保型金属酸洗系统。它解决了现有技术设计不够合理等技术问题。包括酸洗槽,酸洗槽内设有用于牵引金属材料的石棍组,酸洗槽内还设有与酸洗槽相连通的清水池,清水池位于酸洗槽的一端,酸洗槽外侧设有与清水池相连通的污水池,在污水池内设有污水处理设备,污水池和酸洗槽之间铺设有由塑料制成的防护板,污水池通过输液管与沉淀池相连通,在沉淀池内装有循环水泵,循环水泵通过回液管与酸洗槽相连。本环保型金属酸洗系统的优点在于:设计合理,结构简单,废酸能够及时被处理和循环利用,环境污染少。由于设置了防护板,能够有效提高安全性。 |
22 |
铸造用模具 |
CN201020266790.5 |
2010-07-20 |
CN201862760U |
2011-06-15 |
平野雅雄; 堀部喜学 |
本实用新型实现了流动性良好且分型性优异的铸造用模具。模具(10)在型腔面(11)具备无方向性地分散形成有形成为半球面状的多个第一凹痕的凹痕区域,并且第一凹痕(12)形成为:构成以由两个以上凹痕结合而成的结合凹痕(12b)的第一凹痕(12)的数量相对于第一凹痕(12)的总数的比例来定义的连通率为80%以上。由此,在凹痕区域(D)形成多个作为随机且无方向性的短流路发挥作用的结合凹痕(12b),提高了流动性。 |
23 |
具有喷涂表面的制品 |
CN200920166787.3 |
2009-08-20 |
CN201745230U |
2011-02-16 |
拉里·P·哈克; 安·玛丽·斯特拉西亚 |
根据本实用新型的至少一个方面,提供了一种具有适合强化胶接的喷涂表面的制品,所述制品包含:具有表面的基质;与所述基质接触的第一聚合涂层;以及与所述第一聚合涂层接触的第二聚合涂层,其中所述第一聚合涂层和所述第二聚合涂层均为随机成片段的预聚物分子的交联聚合物,且其中所述第一聚合涂层和所述第二聚合涂层的基于各个涂层中碳原子占总原子数的百分比的碳差异在15%至65%之间。 |
24 |
沉积材料形成镀层的设备 |
CN200820112365.3 |
2008-08-27 |
CN201614406U |
2010-10-27 |
丹尼斯·梯尔 |
本实用新型涉及产生并且维持一个闭合场的设备,所述设备提供磁控管和/或磁体组件以在一个有待镀层的基底所处位置的一个镀层腔体内产生一个磁场。为了实现这一目标,至少提供两个磁控管和/或磁体组件,每一个都具有内部部分和相反极性的外部部分。所述磁控管和/或磁体阵列设置为:一个磁控管和/或磁体组件的外部部分和其他,或另一个磁控管和/或磁体组件的外部部分,放置在相邻位置。并且,至少一个所述磁控管或磁体组件具有相反极性。 |
25 |
保护滚轮的外罩装置 |
CN200920153532.3 |
2009-07-17 |
CN201485502U |
2010-05-26 |
安德烈·马克; 乔戈·柯斯堡穆尔; 斯蒂芬·施耐德; 阿诺·吉德尔 |
本实用新型关于一种装置,该装置包括至少一滚轮(2),用于传送一沉积系统中的基材(1);及至少外罩构件(6),其中该滚轮可从基材收回,且该外罩构件被调适成至少部分保护该收回滚轮,以免受到沉积系统中出现的物质所污染。此优点可提高沉积系统的正常运行时间。 |
26 |
用于放置在PECVD腔中的背板的夹钳机械装置 |
CN200920001753.9 |
2007-10-26 |
CN201442977U |
2010-04-28 |
萨姆·H·金; 朴范秀; 威廉·N·斯特科 |
本实用新型描述的实施例涉及用于放置在等离子体增强化学气相沉积腔中的背板的夹钳机械装置,包括固定连接到腔盖内部的上夹钳部分,以及与上夹钳部分和背板滑动接触的下夹钳部分,其中下夹钳部分包括放置在穿过该下夹钳部分和该腔盖的至少一个连接件,所述至少一个连接件包含调节部件,以及其中该调节部件的旋转引起横向移动和对该背板的压力。 |
27 |
复合牺牲阳极结构 |
CN200920084261.0 |
2009-03-20 |
CN201372311Y |
2009-12-30 |
赵应龙 |
复合牺牲阳极结构,它由位于内层的锌阳极(1)和在位于锌阳极外层的镁阳极(2)组成,镁阳极(2)浇铸在锌阳极(1)外。它克服了现有镁牺牲阳极长期使用,则消耗大、费用高的缺点。及锌牺牲阳极输出电流小,寿命比较长,费用低,但驱动电位低的缺点。本实用新型复合牺牲阳极结构充分利用了镁阳极和锌阳极的特点,通过锌阳极来提供维持电流,使钢结构既得到了很好的保护,同时节省了时间,降低了成本。 |
28 |
温控喷淋头 |
CN200820135478.5 |
2008-10-15 |
CN201343570Y |
2009-11-11 |
亨纳·迈因霍尔德; 丹·M·多布尔; 斯蒂芬·刘; 文斯·威尔逊; 伊斯瓦尔·斯里尼瓦桑 |
一种用于化学气相沉积(CVD)腔室的温控喷淋头增强热耗散,以实现用电加热器来进行准确的温度控制,所述喷淋头包括:杆,其具有对流冷却流体通路;背板,其热耦合到所述杆;加热器,其物理附接到所述背板;面板,其热耦合到所述背板;以及温度传感器,其用于测量所述面板的温度。热量通过穿过喷淋头杆和流体通路的传导以及从背板的辐射而耗散。温度控制系统包含位于CVD腔室中的一个或一个以上温控喷淋头,其具有串联连接到热交换器的流体通路。 |
29 |
滑动轴承 |
CN200720187556.1 |
2007-12-19 |
CN201297342Y |
2009-08-26 |
Ch·克诺布劳赫; U·比朔夫贝格尔 |
本实用新型涉及一种滑动轴承(10),它包括一层用金属材料的承载层(12)、一层施加在承载层(12)上的铜基轴承金属层(14)、一层施加在轴承金属层(14)上的防扩散层(16)和一层施加在防扩散层(16)上的锡基滑动层(18)。根据本实用新型规定,防扩散层(16)为纯铁。 |
30 |
精密喷射成形-逐层碾压修复和制造设备 |
CN200820107982.4 |
2008-03-31 |
CN201295754Y |
2009-08-26 |
杨云峰 |
本实用新型提供一种精密喷射成形-逐层碾压修复和制造设备,所述设备由下列机构或功能部件组成:喷射单元,所述喷射单元包括:金属液熔炼制备或供给装置;所述金属液熔炼制备或供给装置提供金属液;位于所述金属液熔炼制备或供给装置的下游的惰性气体雾化喷射装置;逐层碾压修复和制造单元,所述逐层碾压修复和制造单元包括:位于所述待覆层工件周围并对所述待覆层工件表面预热的加热装置;位于所述金属覆层一侧并对所述金属覆层进行逐层碾压的逐层碾压装置;容纳所述待覆层工件的移动机械操作装置;连接所述逐层碾压装置的金属覆层厚度检测控制机构。 |
31 |
用于放置在PECVD腔中的背板的夹钳机械装置 |
CN200720195738.3 |
2007-10-26 |
CN201217693Y |
2009-04-08 |
萨姆·H·金; 朴范秀; 威廉·N·斯特科 |
本实用新型描述的实施例涉及用于放置在增强等离子体化学汽相淀积腔中的背板的夹钳机械装置,包括固定连接到腔盖内部的上夹钳部分,以及与上夹钳部分和背板滑动接触的下夹钳部分,其中下夹钳部分包括放置在穿过该下夹钳部分和该腔盖的至少一个连接件,包含调节部件的至少一个连接件,以及其中该调节部件的旋转引起水平移动和对该背板的压力。 |
32 |
磁控溅射靶结构及设备 |
CN200820079516.X |
2008-03-21 |
CN201162043Y |
2008-12-10 |
张文余; 赵鑫 |
本实用新型公开一种磁控溅射靶结构及磁控溅射靶设备。本实用新型所述的磁控溅射靶结构包括:传动装置,至少两个转动轴和多个磁靶条;所述传动装置缠绕于所述转动轴上,形成传动装置式传动结构;所述磁靶条并排布设于所述传动装置上。本实用新型所述的磁控溅射靶设备包括除上述磁控溅射靶结构外,还包括:靶材,位于所述传动装置式传动结构的外侧。通过本实用新型,由于采用传动装置带动磁体规律性的运动,形成平行均匀磁场,因此能够使靶材消耗非常均匀,避免了局部损耗过大的问题,从而提高了靶材的利用率;延长了靶材的使用寿命。 |
33 |
具发光涂料的卷尺 |
CN200720154016.3 |
2007-05-22 |
CN201072322Y |
2008-06-11 |
翁荣华; 王玉治; 翁松逸; 翁诚鸿 |
一种具发光涂料的卷尺包含一壳体、一主动轴、一卷尺以及一发光涂料。其中上述壳体形成一容置空间,主动轴设置于容置空间内,卷尺围绕在主动轴上,使得卷尺容置于壳体内部。发光涂料涂布于该卷尺上。 |
34 |
超音速火焰喷涂喷枪 |
CN200720032255.1 |
2007-07-13 |
CN201064747Y |
2008-05-28 |
黄伟伟; 韦江利 |
本实用新型涉及一种超音速火焰喷涂喷枪,包括燃烧室和喷管,燃烧室和燃烧室壳体之间、喷管和喷管壳体之间的冷却通道内设有螺旋状导流叶片。本实用新型可用燃料或者氧化剂本身做冷却液,可以简化冷却系统,强化冷却液扰动,提高对流放热系数,达到增强换热量、降低喷枪壁温、延长喷枪寿命的目的。而且在提高喷枪冷却效果的同时完成燃料或氧化剂的预热,增强雾化效果,使燃烧更为稳定、充分。实验证明,合理运用本实用新型可使传热量达到普通轴流冷却的两倍以上。本实用新型成功解决了超音速喷涂喷枪的冷却问题,使喷枪及喷涂系统小型化和便携性能提高,也可用在其他管道冷却场合。本实用新型方便生产、加工,易于实施。 |
35 |
用于处理平板显示器衬底的化学气相沉积系统 |
CN200620117624.2 |
2006-05-26 |
CN200996046Y |
2007-12-26 |
崔寿永 |
本实用新型提供一种用于清洗化学气相沉积室的装置。该化学气相沉积室包括将来自远程等离子体源的反应性物种绕过室的气体分配组件引入室中的入口和将来自远程等离子体源的反应性物种经由气体分配组件引入室中的入口。 |
36 |
具有多层涂层的抗腐蚀铝元件 |
CN200620000359.X |
2006-01-18 |
CN2935467Y |
2007-08-15 |
阿施施·布特那格尔; 拉克斯曼·牧鲁格施 |
一种具有多层涂层的抗腐蚀铝元件,可用于衬底处理室中,并包括铝主体、形成于铝主体上的阳极化氧化铝层、以及阳极化氧化铝层上的包括氧化铝的溅射层。 |
37 |
一种用于半导体晶片处理系统中喷头的双气体面板 |
CN200520114897.7 |
2005-07-27 |
CN2848367Y |
2006-12-20 |
S·P·乌姆托; L·C-L·雷; A·N·源; S·H·乔; H·D·源 |
本实用新型提供了一种用于半导体晶片处理系统喷头的面板。面板具有多个气体通道,以向处理区域提供多种气体,并且这些气体在到达处理腔内的处理区域前不会混合。喷头包括一个面板和一个气体分配歧管装置。面板限定了多个第一气体孔,用来运输第一气体,把它们从歧管装置通过面板送到处理区域。面板还限定了多个通道,用来把多个第二气体孔连接到一个从歧管装置接收第二气体的圆周形气室。面板和歧管装置均由基本上为固体的镍成分制成。 |
38 |
可避免电荷效应所导致电子束偏移的光罩母片 |
CN200420059606.4 |
2004-05-18 |
CN2699337Y |
2005-05-11 |
林政旻 |
本实用新型提供了一种可避免电荷效应所导致电子束偏移的光罩母片,其结构包括:一透明基底;以及一遮蔽层,涂布于该透明基底上以完全遮蔽该透明基底。 |
39 |
立式热处理装置 |
CN02295806.1 |
2002-11-29 |
CN2600455Y |
2004-01-21 |
门部雅人; 中尾贤; 山贺健一 |
本实用新型容易进行加热元件的更换等维护操作,谋求维护性的提高。具有用于容纳多个被处理物体w并进行热处理的处理容器4,覆盖该处理容器4的周围的筒状加热器6,安置该加热器6的加热器安置部7,和以可从一侧进行维护的方式容纳所述加热器6的筐体11,所述加热器6具有可单个更换的多个加热元件31,在所述加热器安置部7设置了可旋转地支持加热器6的旋转支持机构40。 |
40 |
六米光亮钛金管 |
CN95244083.0 |
1995-05-30 |
CN2221032Y |
1996-02-28 |
朱英臣; 侯跃清; 毕跃先 |
一种长度为六米、基础材料为钢管的表面镀覆有氮化钛层的六米光亮钛金管,其特征在于:在铜管和氮化钛镀层之间设置有一定厚度的由(Cr,Fe)2O3·(Fe,Ni)XH2O组成的氧化膜层。本实用新型不仅能制取六米长的具有光亮氮化钛层的钛金管,也可以制造六米以下的钛金管;且具有制造方便、成本低廉的优点。 |