子分类：
- C23C： 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆(在表面上使用液体或其他流体材料的一般涂覆入B05;挤压法制造包覆金属的产品入B21C 23/22;通过将预先存在的薄层连接到制品上的方法用金属进行镀覆处理的见各有关位置, 例如B21D 39/00,B23K;采用电极并通过作用于工件的高度集中电流加工金属入 B23H;玻璃的金属化入C03C;砂浆、混凝土、人造石、陶瓷或天然石的金属化入C04B 41/00;涂料、合成漆、天然漆入C09D;金属的搪瓷或向金属上镀覆玻璃体层入 C23D;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制入 C23F;单晶膜生长入C30B;半导体器件的制造入H01L ;印刷线路的制造入H05K)
- C23D： 金属的搪瓷或涂玻璃层(瓷釉的化学成分入C03C)
- C23F： 非机械方法去除表面上的金属材料(用激光束加工金属入B23K 26/00;火焰法清除表层金属材料入 B23K 7/00;电侵蚀加工金属入 B23H;除去表面材料产生装饰效果,例如镂空法、蚀刻法入 B44C1/22; 电解蚀刻或抛光入C25F);金属材料的缓蚀或一般防积垢;至少一种在 C23大类中所列的方法及至少一种在 C21D、C22F 小类或 C25大类中所列的方法之多步法金属材料表面处理
- C23G： 电解法除外的化学法金属材料清洗及除油(抛光组合物入C09G;一般洗涤剂入C11D)
| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
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| 21 | 真空处理设备及处理设备 | CN201520369954.X | 2015-06-01 | CN204714897U | 2015-10-21 | 约亨·克劳瑟; 斯蒂芬·莱曼 |
| 根据不同的实施方式，真空处理设备(100)可具有：转送室(102t)，具有第一运输系统，用于在转送室(102t)内运输基体(220s)，其中，转送室(102t)的第一运输系统具有带有多个被驱动的运输滚筒(106t)的第一驱动系统，以及与第一驱动系统耦接的控制部或调节部，其被设置成将多个分批被运输进入转送室(102t)的基体汇集成基体(220s)的连续序列；至少一个与转送室(102t)连接的处理室(202p)，用于处理基体(220s)的连续序列，其中，至少一个处理室(202p)具有第二运输系统，用于在至少一个处理室(202p)内运输基体(220s)的连续序列，其中，至少一个处理室(202p)的第二运输系统具有多个被驱动的第二运输滚筒(106p)，其中，多个被驱动的第一运输滚筒(106t)和多个被驱动的第二运输滚筒(106p)具有相同的有效滚筒直径(206d)。 | ||||||
| 22 | 真空室组件 | CN201520369470.5 | 2015-06-01 | CN204690099U | 2015-10-07 | 约亨·克劳瑟; 斯蒂芬·莱曼 |
| 根据不同的实施方式提供一种真空室组件，其可具有：第一室壳体，其具有第一开口，用于容纳第一室盖；以及第二室壳体，其具有第二开口，用于容纳第二室盖；其中，第一室壳体的第一转送区域邻接第二室壳体的第二转送区域，用于将基体从第一室壳体运输进入二室壳体，或从第二室壳体运输进入第一室壳体，其中，第一室壳体和第二室壳体分别具有至少一个室法兰，用于将前级真空泵组件联接到室壳体，其中，这样地设置第一室盖，即，其减小第一室壳体的内部容积，且其中，第二室盖具有至少一个盖法兰，用于将高真空泵组件连接到第二室壳体。 | ||||||
| 23 | 车辆组件 | CN201520155050.7 | 2015-03-18 | CN204687454U | 2015-10-07 | 拉里·保罗·哈克; 金伯利·安·拉扎; 安·玛丽·斯特拉恰; 乔伊·海恩斯·弗斯马克 |
| 本实用新型提供了一种车辆组件，包括：第一零件；由有机硅成分构成的等离子体增强气相沉积膜涂层；应用于等离子体增强气相沉积膜涂层的粘合剂层；装配至第一零件的第二零件；以及将第一零件连接至第二零件的机械接头，其中，等离子体增强气相沉积膜涂层和粘合剂层设置在第一零件和第二零件之间。本实用新型的车辆组件具有增强的接合强度。 | ||||||
| 24 | 电容式触控面板 | CN201520106889.1 | 2015-02-13 | CN204631839U | 2015-09-09 | 李志宗; 林义哲; 赖纪光; 赵仁扬 |
| 一种电容式触控面板，包括基板、第一电连接层、阻隔件及第二电连接层。该第一电连接层设置于该基板，具有导通部位以及基底部位，且该导通部位不与该基底部位接触。该阻隔件部份覆盖于该导通部位上。该第二电连接层具有相互分离的二第一极板部位及一第二极板部位，且该二第一、第二极板部位至少的一者设置于该基底部位上；该二第一极板部位分别与该导通部位两端连接，以形成第一感应电极组；该第二极板部位形成第二感应电极组；另，该第二极板部位位于该阻隔件上，不与该导通部位接触，使该第二感应电极组与该第一感应电极组之间不连通。 | ||||||
| 25 | 透明的反射红外线的层系统 | CN201420429170.7 | 2014-07-31 | CN204111594U | 2015-01-21 | 罗尼·博尔舍尔; 克里斯多佛·科克尔特 |
| 一种透明的、反射红外线的层系统，其布置在基材(S0)上并且从基材(S0)向上观察包括至少带有一个基底层的基底层组件(GA)，至少带有一个功能层(F)的功能层组件(FA、FA1、FA2)以及至少带有一个覆盖层(D1、D2)的覆盖层组件(DA)。为了在维持能通过层系统获得的、特别是在透射和色彩稳定性方面的退火能力的情况下，进一步降低反射红外线的层系统的发射率，功能层组件(FA、FA1、FA2)包括位于功能层之下的起始层，该起始层包括下方起始子层(K1)和上方起始子层(K2)。 | ||||||
| 26 | 组件保护性包胶模 | CN201290000570.5 | 2012-03-29 | CN204036746U | 2014-12-24 | 斯科特·富拉姆; 斯基普·托马斯·奥韦斯 |
| 用于组件保护性包胶模的技术包括，选择性地将保护性材料大体上涂敷到被连接到框架上的一个以上的部件外面，大体上在框架、被连接到框架上的一个以上的电气部件以及保护性材料外面形成内模。在某些实例中，在保护性材料已经被选择性地涂敷之后，内模被形成，在内模外面大体上形成外模，且外模被配置成保护框架并提供被配置成接受图案的表面。更进一步地，如果在外模被形成之后所进行的检查期间发现有瑕疵，则外模可以被设置成可移除。 | ||||||
| 27 | 真空装置 | CN201420307421.4 | 2014-06-10 | CN203960327U | 2014-11-26 | 约亨·克劳瑟 |
| 本实用新型涉及一种真空装置。根据不同的实施方式，真空装置(100)可具有：真空室(102)，设置成在真空中处理基体(200)；以及至少一个通道(104)，设置成使基体(200)进入真空室(102)和/或从真空室(102)中出来，其中，该至少一个通道(104)具有至少一个元件(106)，该至少一个元件这样地可移动地布置和设置，即，至少一个通道(104)的通过开口(105)的尺寸(109)可改变，从而使基体(200)进入该元件(106)的不同打开位置。 | ||||||
| 28 | 一种海工用空心牺牲阳极 | CN201120438680.7 | 2011-11-08 | CN202323032U | 2012-07-11 | 王在峰; 兰志刚; 刘耀华 |
| 本实用新型公开了一种空心牺牲阳极。所述空心牺牲阳极包括牺牲阳极本体，所述牺牲阳极本体内设有空心腔体。本实用新型提供的空心牺牲阳极，在其牺牲阳极本体内部通过设置占位空心腔体以增大阳极外部径向尺寸，从而达到增大阳极接水面积、减小阳极的接水电阻的方式提高等量阳极的发生电流。 | ||||||
| 29 | 环保型金属酸洗系统 | CN201120301281.6 | 2011-08-18 | CN202272957U | 2012-06-13 | 葛国华 |
| 本实用新型属于金属加工处理技术领域，尤其是涉及一种环保型金属酸洗系统。它解决了现有技术设计不够合理等技术问题。包括酸洗槽，酸洗槽内设有用于牵引金属材料的石棍组，酸洗槽内还设有与酸洗槽相连通的清水池，清水池位于酸洗槽的一端，酸洗槽外侧设有与清水池相连通的污水池，在污水池内设有污水处理设备，污水池和酸洗槽之间铺设有由塑料制成的防护板，污水池通过输液管与沉淀池相连通，在沉淀池内装有循环水泵，循环水泵通过回液管与酸洗槽相连。本环保型金属酸洗系统的优点在于：设计合理，结构简单，废酸能够及时被处理和循环利用，环境污染少。由于设置了防护板，能够有效提高安全性。 | ||||||
| 30 | 铸造用模具 | CN201020266790.5 | 2010-07-20 | CN201862760U | 2011-06-15 | 平野雅雄; 堀部喜学 |
| 本实用新型实现了流动性良好且分型性优异的铸造用模具。模具(10)在型腔面(11)具备无方向性地分散形成有形成为半球面状的多个第一凹痕的凹痕区域，并且第一凹痕(12)形成为：构成以由两个以上凹痕结合而成的结合凹痕(12b)的第一凹痕(12)的数量相对于第一凹痕(12)的总数的比例来定义的连通率为80％以上。由此，在凹痕区域(D)形成多个作为随机且无方向性的短流路发挥作用的结合凹痕(12b)，提高了流动性。 | ||||||
| 31 | 具有喷涂表面的制品 | CN200920166787.3 | 2009-08-20 | CN201745230U | 2011-02-16 | 拉里·P·哈克; 安·玛丽·斯特拉西亚 |
| 根据本实用新型的至少一个方面，提供了一种具有适合强化胶接的喷涂表面的制品，所述制品包含：具有表面的基质；与所述基质接触的第一聚合涂层；以及与所述第一聚合涂层接触的第二聚合涂层，其中所述第一聚合涂层和所述第二聚合涂层均为随机成片段的预聚物分子的交联聚合物，且其中所述第一聚合涂层和所述第二聚合涂层的基于各个涂层中碳原子占总原子数的百分比的碳差异在15％至65％之间。 | ||||||
| 32 | 沉积材料形成镀层的设备 | CN200820112365.3 | 2008-08-27 | CN201614406U | 2010-10-27 | 丹尼斯·梯尔 |
| 本实用新型涉及产生并且维持一个闭合场的设备，所述设备提供磁控管和/或磁体组件以在一个有待镀层的基底所处位置的一个镀层腔体内产生一个磁场。为了实现这一目标，至少提供两个磁控管和/或磁体组件，每一个都具有内部部分和相反极性的外部部分。所述磁控管和/或磁体阵列设置为：一个磁控管和/或磁体组件的外部部分和其他，或另一个磁控管和/或磁体组件的外部部分，放置在相邻位置。并且，至少一个所述磁控管或磁体组件具有相反极性。 | ||||||
| 33 | 保护滚轮的外罩装置 | CN200920153532.3 | 2009-07-17 | CN201485502U | 2010-05-26 | 安德烈·马克; 乔戈·柯斯堡穆尔; 斯蒂芬·施耐德; 阿诺·吉德尔 |
| 本实用新型关于一种装置，该装置包括至少一滚轮(2)，用于传送一沉积系统中的基材(1)；及至少外罩构件(6)，其中该滚轮可从基材收回，且该外罩构件被调适成至少部分保护该收回滚轮，以免受到沉积系统中出现的物质所污染。此优点可提高沉积系统的正常运行时间。 | ||||||
| 34 | 用于放置在PECVD腔中的背板的夹钳机械装置 | CN200920001753.9 | 2007-10-26 | CN201442977U | 2010-04-28 | 萨姆·H·金; 朴范秀; 威廉·N·斯特科 |
| 本实用新型描述的实施例涉及用于放置在等离子体增强化学气相沉积腔中的背板的夹钳机械装置，包括固定连接到腔盖内部的上夹钳部分，以及与上夹钳部分和背板滑动接触的下夹钳部分，其中下夹钳部分包括放置在穿过该下夹钳部分和该腔盖的至少一个连接件，所述至少一个连接件包含调节部件，以及其中该调节部件的旋转引起横向移动和对该背板的压力。 | ||||||
| 35 | 复合牺牲阳极结构 | CN200920084261.0 | 2009-03-20 | CN201372311Y | 2009-12-30 | 赵应龙 |
| 复合牺牲阳极结构，它由位于内层的锌阳极(1)和在位于锌阳极外层的镁阳极(2)组成，镁阳极(2)浇铸在锌阳极(1)外。它克服了现有镁牺牲阳极长期使用，则消耗大、费用高的缺点。及锌牺牲阳极输出电流小，寿命比较长，费用低，但驱动电位低的缺点。本实用新型复合牺牲阳极结构充分利用了镁阳极和锌阳极的特点，通过锌阳极来提供维持电流，使钢结构既得到了很好的保护，同时节省了时间，降低了成本。 | ||||||
| 36 | 温控喷淋头 | CN200820135478.5 | 2008-10-15 | CN201343570Y | 2009-11-11 | 亨纳·迈因霍尔德; 丹·M·多布尔; 斯蒂芬·刘; 文斯·威尔逊; 伊斯瓦尔·斯里尼瓦桑 |
| 一种用于化学气相沉积(CVD)腔室的温控喷淋头增强热耗散，以实现用电加热器来进行准确的温度控制，所述喷淋头包括：杆，其具有对流冷却流体通路；背板，其热耦合到所述杆；加热器，其物理附接到所述背板；面板，其热耦合到所述背板；以及温度传感器，其用于测量所述面板的温度。热量通过穿过喷淋头杆和流体通路的传导以及从背板的辐射而耗散。温度控制系统包含位于CVD腔室中的一个或一个以上温控喷淋头，其具有串联连接到热交换器的流体通路。 | ||||||
| 37 | 滑动轴承 | CN200720187556.1 | 2007-12-19 | CN201297342Y | 2009-08-26 | Ch·克诺布劳赫; U·比朔夫贝格尔 |
| 本实用新型涉及一种滑动轴承(10)，它包括一层用金属材料的承载层(12)、一层施加在承载层(12)上的铜基轴承金属层(14)、一层施加在轴承金属层(14)上的防扩散层(16)和一层施加在防扩散层(16)上的锡基滑动层(18)。根据本实用新型规定，防扩散层(16)为纯铁。 | ||||||
| 38 | 精密喷射成形-逐层碾压修复和制造设备 | CN200820107982.4 | 2008-03-31 | CN201295754Y | 2009-08-26 | 杨云峰 |
| 本实用新型提供一种精密喷射成形－逐层碾压修复和制造设备，所述设备由下列机构或功能部件组成：喷射单元，所述喷射单元包括：金属液熔炼制备或供给装置；所述金属液熔炼制备或供给装置提供金属液；位于所述金属液熔炼制备或供给装置的下游的惰性气体雾化喷射装置；逐层碾压修复和制造单元，所述逐层碾压修复和制造单元包括：位于所述待覆层工件周围并对所述待覆层工件表面预热的加热装置；位于所述金属覆层一侧并对所述金属覆层进行逐层碾压的逐层碾压装置；容纳所述待覆层工件的移动机械操作装置；连接所述逐层碾压装置的金属覆层厚度检测控制机构。 | ||||||
| 39 | 用于放置在PECVD腔中的背板的夹钳机械装置 | CN200720195738.3 | 2007-10-26 | CN201217693Y | 2009-04-08 | 萨姆·H·金; 朴范秀; 威廉·N·斯特科 |
| 本实用新型描述的实施例涉及用于放置在增强等离子体化学汽相淀积腔中的背板的夹钳机械装置，包括固定连接到腔盖内部的上夹钳部分，以及与上夹钳部分和背板滑动接触的下夹钳部分，其中下夹钳部分包括放置在穿过该下夹钳部分和该腔盖的至少一个连接件，包含调节部件的至少一个连接件，以及其中该调节部件的旋转引起水平移动和对该背板的压力。 | ||||||
| 40 | 磁控溅射靶结构及设备 | CN200820079516.X | 2008-03-21 | CN201162043Y | 2008-12-10 | 张文余; 赵鑫 |
| 本实用新型公开一种磁控溅射靶结构及磁控溅射靶设备。本实用新型所述的磁控溅射靶结构包括：传动装置，至少两个转动轴和多个磁靶条；所述传动装置缠绕于所述转动轴上，形成传动装置式传动结构；所述磁靶条并排布设于所述传动装置上。本实用新型所述的磁控溅射靶设备包括除上述磁控溅射靶结构外，还包括：靶材，位于所述传动装置式传动结构的外侧。通过本实用新型，由于采用传动装置带动磁体规律性的运动，形成平行均匀磁场，因此能够使靶材消耗非常均匀，避免了局部损耗过大的问题，从而提高了靶材的利用率；延长了靶材的使用寿命。 | ||||||
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