1.一种热学腔室，其特征在于，所述热学腔室包括：
腔室主体，所述腔室主体限定大小适于接收一或多个掩模和/或基板在其中的空间；
盖构件，所述盖构件可滑动地耦接到所述空间外的所述腔室主体；
加热构件，所述加热构件耦接到所述空间内的所述腔室主体；
测温设备，所述测温设备耦接到所述腔室主体；以及
平台，所述平台与所述盖构件相对地设置在所述空间内，其中所述平台可移动地耦接到所述腔室主体。
2.根据权利要求1所述的热学腔室，其特征在于，所述平台耦接到第一直线致动器，所述第一直线致动器被配置成平移所述平台穿过所述空间。
3.根据权利要求2所述的热学腔室，其特征在于，所述直线致动器是滚珠螺杆装置。
4.根据权利要求2所述的热学腔室，其特征在于，所述直线致动器被配置成使所述平台沿第一方向平移。
5.根据权利要求4所述的热学腔室，其特征在于，跟踪构件被配置成使所述盖构件沿垂直于所述第一方向的第二方向以可滑动的方式平移。
6.根据权利要求5所述的热学腔室，其特征在于，跟踪构件被配置成使所述盖构件相对于所述腔室主体以可滑动的方式平移。
7.根据权利要求5所述的热学腔室，其特征在于，所述跟踪构件耦接到所述腔室主体。
8.根据权利要求1所述的热学腔室，其特征在于，一或多个第二致动器被配置成使所述盖构件与所述腔室主体解耦。
9.根据权利要求1所述的热学腔室，其特征在于，所述加热构件是反射式加热器。
10.根据权利要求1所述的热学腔室，其特征在于，所述测温设备是热电偶。
11.根据权利要求1所述的热学腔室，其特征在于，进一步包括：
泵送设备，所述泵送设备被配置成在所述空间中产生真空。
12.根据权利要求11所述的热学腔室，其特征在于，所述泵送设备是低温泵。
13.一种热学腔室，其特征在于，所述热学腔室包括：
腔室主体，所述腔室主体限定大小适于接收一或多个掩模和/或基板在其中的空间；
盖构件，所述盖构件耦接到所述空间外的所述腔室主体；
反射加热构件，所述反射加热构件耦接到所述空间内的所述腔室主体；
热电偶，所述热电偶耦接到所述腔室主体；以及
平台，所述平台耦接到所述腔室主体，并且可移动地设置在所述空间内。
14.根据权利要求13所述的热学腔室，其特征在于，进一步包括：
第一致动器，所述第一致动器耦接到所述腔室主体，所述第一致动器被配置成使所述平台沿第一方向平移穿过所述空间。
15.根据权利要求14所述的热学腔室，其特征在于，进一步包括：
第二致动器，所述第二致动器耦接到所述腔室主体，所述第二致动器被配置成使所述盖构件沿垂直于所述第一方向的第二方向平移。
16.根据权利要求13所述的热学腔室，其特征在于，进一步包括：
泵送设备，所述泵送设备被配置成在所述空间中生成真空。
17.根据权利要求16所述的热学腔室，其特征在于，所述泵送设备是低温泵。
18.一种热学腔室，其特征在于，所述热学腔室包括：
腔室主体，所述腔室主体限定空间；
盖组件，所述盖组件可滑动地耦接到所述腔室主体；
狭缝阀，所述狭缝阀耦接到所述腔室主体，位于所述盖组件下方；
热电偶，所述热电偶耦接到所述腔室主体，位于所述狭缝阀下方；
多个反射式加热器，所述多个反射式加热器耦接到所述空间内的所述腔室主体；
平台，所述平台可移动地设置在所述空间内；以及
对准设备，所述对准设备耦接到所述平台并从所述平台延伸，所述对准设备包括轴承构件。
19.根据权利要求18所述的热学腔室，其特征在于，进一步包括：
低温泵，所述低温泵耦接到所述腔室主体以与所述空间流体连通，其中所述低温泵被配置成在所述空间内产生真空。
20.根据权利要求18所述的热学腔室，其特征在于，所述空间大小适于接收一或多个晶盒，所述一或多个晶盒容纳多个掩模和一或多个基板，并且所述平台被配置成接触所述一或多个晶盒并使所述一或多个晶盒在所述空间内平移。