| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
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| 101 | 采用浸入-自组装制备超疏水改性SiO2-聚氨酯复合涂层的方法 | CN200710119670.5 | 2007-07-30 | CN101117713A | 2008-02-06 | 李松梅; 王勇干; 韦巍; 刘建华 |
| 本发明公开了一种采用浸入－自组装制备超疏水改性SiO2－聚氨酯复合涂层的方法，该方法通过在SiO2表面利用硅烷偶联剂进行修饰后，使其带有活性基团(－NH2)，制得改性SiO2－二甲苯液；然后在基体上制备一层阿罗丁膜后，刷制一层聚氨酯涂层；最后浸入到改性SiO2－二甲苯液中制得具有超疏水性能的改性SiO2－聚氨酯复合涂层。制得的超疏水改性SiO2－聚氨酯复合涂层表面的接触角为131°～156°、滚动角为2°～15°。采用本发明方法制备的超疏水涂层可有效地防止金属表面免受被灰尘、杂质的污染，实现自清洁，同时又可以很好的保护基体不易受到腐蚀。 | ||||||
| 102 | 化学镀铜循环处理工艺 | CN200610088025.7 | 2006-06-16 | CN101089224A | 2007-12-19 | 陈其亮 |
| 一种化学镀铜循环处理工艺，其基本流程为：前处理→化学镀铜→铜回收→漂洗→漂洗废水回收处理。其中，所述工艺具体为首先将待镀铜工件表面的油脂和氧化膜层去除并清洗干净，然后即进行化学镀铜处理，镀完后进行铜回收，鉴于存在小部分残留镀液依然附于工件表面，即对其进行漂洗处理，而该步骤优选采用三级逆流漂洗工艺，漂洗完后所得废水中依然存在需处理的重金属，因此接着进行废水回收处理，将其漂洗废水中所含重金属进行回收，而所得的净水直接回用于漂洗工件。本发明的化学镀铜循环处理工艺本身已形成闭路循环，所得回收的重金属和水可以再利用，基本上实现了废水的零排放，避免其造成环境污染。 | ||||||
| 103 | 衬底处理设备和衬底处理方法 | CN03812994.9 | 2003-05-30 | CN100355021C | 2007-12-12 | 胜冈诚司; 关本雅彦; 渡边辉行; 小川贵弘; 小林贤一; 宫崎充; 本岛靖之; 横山俊夫 |
| 一种衬底处理设备，具有处理槽(10)、罩(40)、喷嘴(60)和衬底头(80)。处理槽(10)用于在容纳于其中的镀液(Q)中对衬底(W)进行镀膜；罩(40)用于有选择地打开和关闭该处理槽(10)的开口(11)；喷嘴(60)安装在罩(40)的上表面；衬底头(80)用于吸引衬底(W)的背面以夹持衬底(W)。随着罩(40)从处理槽(10)的开口(11)移开，衬底头(80)降低以把衬底(W)浸在镀液(Q)内，用于对衬底(W)进行镀膜。当衬底头(80)提升同时处理槽(10)开口(11)由罩(40)关闭时，衬底(W)通过喷嘴(60)清洁。 | ||||||
| 104 | 一种自清洁氧化物薄膜和制备方法及其应用 | CN200710021627.5 | 2007-04-18 | CN101041894A | 2007-09-26 | 殷江; 刘治国 |
| 一种自清洁氧化物薄膜是由不同价态金属离子X掺杂的SrTiO3，用公式X:SrTiO3表示，其中X为Cr3+、Zn2+、Al3+、Ga3+、Ge3+、In3+、W6+、Ta5+、Nb5+或V5+中的一种；其掺杂浓度为0.01－10mol％；其制法是按X的掺杂浓度称量原材料X的有机盐或硝酸盐、(CH3COO)2Sr.0.5H2O和Ti(OC2H5)4，将上述原料分别加到甲醇中，然后分别加入醋酸，加热搅拌至透明止，然后将含Sr2+、Ti4+和X的三种甲醇溶液进行混合，搅拌至透明，用甲醇调节浓度，用醋酸或氨水调节pH，用甩胶设备将上述混合溶液沉积在衬底上，置于管式炉中退火得到第一层薄膜，经多次沉积直至薄膜厚达10纳米－1微米，再将膜置于管式炉中退火，使薄膜完全结晶。该薄膜可应用于建材表面、镜面、金属及陶瓷器表面的涂层及室内局部空气净化。 | ||||||
| 105 | 一种微蚀液及其在印制线路板沉银前处理中的应用 | CN200710027308.5 | 2007-03-27 | CN101033550A | 2007-09-12 | 郑彤; 刘彬云; 单斌; 王植材 |
| 本发明涉及一种微蚀液及其在印制线路板沉银前处理中的应用。它公开了沉银微蚀液各组分含量为，过硫酸钠80－100g/L，硫酸1.5％－2.5％V/V，C2－C8的有机酸0.10－0.30mol/L。沉银前处理中的应用是将需要镀银的印制线路板经过常规的酸性除油除去铜表面氧化物及其油脂后，将线路板浸入到以上微蚀液中，微蚀液的温度控制在32－40℃，线路板在微蚀液中处理1.5－2.5分钟，微蚀后的线路板浸入到沉银镀液中1.5－2.5分钟，即可得到一层均匀光亮的银沉积在铜面上。本发明公开的微蚀液能调节瞬间微蚀速率，保持铜面平滑，提高镀银层的平整度，使得银层表面光亮，提高镀层的可焊性及抗老化能力，工序简单，成本低。 | ||||||
| 106 | 镁合金化学镀镍方法 | CN200610033851.1 | 2006-02-24 | CN101024877A | 2007-08-29 | 王江锋; 陈其亮 |
| 一种镁合金化学镀镍方法，其包括以下步骤：步骤1：镁合金材料表面上喷砂处理；步骤2：用酸刻蚀镁合金材料表面；步骤3：无铬钝化该镁合金材料表面；无铬钝化的溶液配方如下：高锰酸钾0.1－10g/l；磷酸二氢锌5－30g/l；氟化氢氨10－30g/l；硫酸锌1－5g/l；步骤4：化学镀镍。本发明方法使用无铬钝化工艺，在镁合金材料表面化学镀镍，该方法对人和环境友好，成本低，镀层性能优异。 | ||||||
| 107 | 冶金涂覆颗粒 | CN03801582.X | 2003-09-12 | CN101018632A | 2007-08-15 | 保罗·亚历山大·安德森; 迈克·詹姆士·埃德蒙森; 克莱夫·布莱恩·庞顿 |
| 本发明涉及一种用金属涂覆硬颗粒的方法，所述方法包括如下顺序的步骤(i)形成硬颗粒的含水浆液，(ii)向浆液添加一种或多种金属盐的水溶液，所述溶液具有从0.1m至1.6m的重量摩尔浓度，(iii)调节浆液/金属盐溶液的pH值在7至14之间，从而给硬颗粒涂覆金属盐，(iv)在升高的压力下将金属盐－涂覆颗粒浆液加热到一个升高的温度，以便将所述金属盐转化为金属氧化物，金属氧化物氢氧化物复合物(oxidehydroxide)，或金属氢氧化物，和(v)在所述升高的温度和压力下，将金属氧化物，金属氧化物氢氧化物复合物，或金属氢氧化物还原成组成金属，以形成所述金属涂覆硬颗粒，其中，硬颗粒是钨，钛，钽，铌，钼，铬，钒，锆，和铪中的一种或多种的碳化物，碳氮化物和氮化物中的一种或多种，所述金属是钴，镍和铁中的一种或多种。 | ||||||
| 108 | 表面改性的不锈钢 | CN01812305.8 | 2001-07-06 | CN1330790C | 2007-08-08 | 扬·安德松; 芒努斯·塞德格伦 |
| 开发了一种用于耐高温合金，如含有1.5-8.0重量%Al的FeCrAl合金的表面改性的方法，以增加它们在高温下的耐腐蚀性。在热处理前，用含钙化合物对它涂层，在合金表面上得到一个连续的粘合层，在循环热应力下，FeCrAl合金的铝损耗减少了。通过这种表面改性，FeCrAl合金的耐高温腐蚀性和它的使用寿命显著增加了。 | ||||||
| 109 | 在陶瓷釉面砖上制备纳米薄膜的方法及纳米薄膜镀膜机 | CN200510104604.1 | 2005-12-23 | CN1986080A | 2007-06-27 | 陈玉清; 王美婷; 李世良; 陈方新; 侯和峰; 李春红; 王连增; 刘兴国 |
| 本发明涉及一种在陶瓷釉面砖上制备纳米薄膜的方法及纳米薄膜镀膜机，属于陶瓷釉面砖技术领域，制备纳米薄膜的方法是将陶瓷釉面砖附设在溶胶浸池壁上，向溶胶浸池中充入溶胶，然后再从溶胶浸池底部将溶胶放出，陶瓷釉面砖表面即附上一层溶胶膜，将附有溶胶膜的陶瓷釉面砖进行干燥后处理，即可使陶瓷釉面砖上附上一层纳米薄膜。纳米薄膜镀膜机有一用边框和密封门构成的溶胶浸池，密封门内侧面上设有陶瓷釉面砖固定件，边框的下边框上设有溶胶进出口。本发明在陶瓷釉面砖上制备纳米薄膜的方法，科学合理，简单易行；配用的纳米薄膜镀膜机结构简单，使用方便，操作容易，利于获得高质量的均匀镀膜。本发明方法也可以在平板玻璃上进行单面镀膜。 | ||||||
| 110 | 在硫化锌荧光粉表面包覆二氧化钛纳米薄膜的方法 | CN200510115294.3 | 2005-11-16 | CN1966763A | 2007-05-23 | 元炯亮 |
| 本发明涉及一种在硫化锌荧光粉表面包覆二氧化钛纳米薄膜的方法，属材料技术领域。其主要特征是：以钛酸四异丙酯为前驱体，通过溶胶一凝胶过程在硫化锌荧光粉表面包覆二氧化钛纳米薄膜。钛酸四异丙酯首先溶于冰醋酸中，然后边搅拌边加入蒸馏水，得到水合二氧化钛溶胶；硫化锌荧光粉分散于蒸馏水或乙醇中，然后加入十二烷基硫酸钠或十二烷基苯磺酸钠等阴离子表面活性剂，形成荧光粉悬浮液；将水合二氧化钛溶胶缓慢加入荧光粉悬浮液中，搅拌；反应产物经分离、洗涤、干燥、煅烧，即得到表面包覆二氧化钛薄膜的荧光粉。本发明制得的薄膜均匀、连续，而不是以岛状颗粒分散于荧光粉表面。 | ||||||
| 111 | 一种减压自组装生长三维光子晶体薄膜的方法及装置 | CN200510086449.5 | 2005-09-21 | CN1936074A | 2007-03-28 | 孟庆波; 郑中玉 |
| 本方法涉及一种减压自组装生长三维光子晶体薄膜的方法，是在8～90℃，0.5～50kPa，将单分散的用于光子晶体的胶体溶液，按照常规的垂直沉积法，进行1～2小时的自组装生长，得到三维光子晶体薄膜。本发明还提供一种自组装生长三维光子晶体薄膜的装置，包括一生长沉积瓶，装于其外部的恒温装置，和固定于生长沉积瓶中的载玻片，其特征在于：所述的生长沉积瓶为一密封的、通过真空抽气管接头及抽气管和抽真空系统相连的沉积瓶。使用本方法提供的自组装生长三维光子晶体薄膜的方法，在较低的温度和较短的时间，即可生长出1cm长、5～20层胶体颗粒厚度的三维光子晶体薄膜，且晶体的光学质量非常好。 | ||||||
| 112 | 钼酸盐功能薄膜及其制备方法 | CN200610020845.2 | 2006-05-18 | CN1888134A | 2007-01-03 | 余萍; 胡国兵; 肖定全; 刘洋; 郭吾卿 |
| 一种钼酸盐功能薄膜，以导电或不导电的、晶态或非晶态的材料为衬底，晶粒度范围10～500nm，厚度100～3000nm。制备钼酸盐功能薄膜的工艺步骤为：(1)配制含Mo离子络合物的溶液，以钼酸铵或/和钼酸为溶质，以丙二醇或丙三醇或丙二醇、丙三醇与丙二醇甲醚、冰乙酸的混合液为溶剂；(2)配制含金属离子络合物的溶液，以碱金属及碱土金属的碳酸盐或/和过渡金属及稀有金属的硝酸盐为溶质，以丙二醇或丙三醇或丙二醇、丙三醇与丙二醇甲醚、冰乙酸的混合液为溶剂；(3)制备钼酸盐前驱物溶液，将上述含Mo离子络合物溶液和含金属离子络合物溶液充分搅拌混合，然后至少静置40分钟；(4)采用旋涂技术成膜和干燥。 | ||||||
| 113 | 钢制球体振动化学镀的方法 | CN200610021015.1 | 2006-05-29 | CN1884614A | 2006-12-27 | 张卫东; 宋红文; 刘传慧 |
| 一种钢制基体实心球体振动化学镀铜制备方法，其工艺流程依次是：钢制球体除锈—水洗—表面除油—水洗—活化—水洗—振动化学镀—水洗—防腐蚀处理—水洗或烘干，其中，振动化学镀是将镀槽装在振动台上，并在镀槽中装入镀液和被镀钢制球体。在本发明中，除锈、表面除油、防腐蚀处理、振动强化抛光、水洗等具体工艺可采用现有的常用成熟工艺技术。 | ||||||
| 114 | 制作钢质材料表面镀有防腐层接地装置的方法 | CN200610009964.8 | 2006-04-26 | CN1848525A | 2006-10-18 | 王锋 |
| 制作钢质材料表面镀有防腐层接地装置的方法，它涉及接地装置的制作方法。它解决了现有接地装置先镀防腐层，然后焊接，在焊接的过程中易将焊接处的防腐层损坏，使接地装置的性能下降，使用寿命缩短的问题。方法为：1.将钢制材料焊接成接地极主件的形状，管材两端焊接封口；2.将焊接的钢制接地极部件的外表面进行化学镀防腐层；三、将经步骤二化学镀防腐层的钢制接地极主件插入地孔内，用部件固定连接，即形成本发明的接地装置。本发明先焊接接地极主件，然后镀防腐层，解决了在焊接的过程中易将焊接处的防腐层损坏的问题。该装置不仅具有良好的耐腐蚀性能，接地装置电阻值的稳定性显著提高，延长了接地装置的使用寿命。 | ||||||
| 115 | 有机半导体膜的图案形成方法 | CN200510116655.6 | 2003-03-06 | CN1821442A | 2006-08-23 | 石川贵之; 榊原悌互; 三浦大祐; 宇野英满; 小野升 |
| 一种有机半导体膜的图案形成方法，其特征为，利用印刷将至少含有二环化合物的溶液赋予到基材上所希望的位置，使二环骨架中的一部分从所述二环化合物上脱离，扩张π共轭系统，将所述二环化合物转变成有机半导体材料，由此在该基材上所选择的位置处发生逆狄尔斯－阿德尔反应，从而在基材上所希望的位置形成有机半导体膜。 | ||||||
| 116 | 可UV固化的催化剂组合物 | CN200510128699.0 | 2005-11-28 | CN1792434A | 2006-06-28 | P·R·莱维; N·E·布雷斯; N·D·布朗; S·J·雅斯尼 |
| 本发明揭示了可UV固化的组合物和在基材上沉积一种或多种金属或金属合金的方法。所述可UV固化的组合物包含催化剂、一种或多种载体颗粒、一种或多种UV固化剂和一种或多种水溶性的或水分散性的有机化合物。金属或金属合金可通过化学镀或电镀沉积在基材上。 | ||||||
| 117 | 低温制备C轴择优取向二氧化钛薄膜的方法 | CN200510019713.3 | 2005-11-01 | CN1786264A | 2006-06-14 | 余家国; 余火根; 程蓓 |
| 本发明提出了一种低温制备c轴择优取向二氧化钛薄膜的方法。该方法是将钛的氟化物或/和氟钛酸盐溶解在纯水中，然后加入硼酸作为氟离子捕获剂，配成处理溶液，处理溶液的pH值为1.0～2.3，把不锈钢基片垂直浸入到上述处理溶液中，密封后放入温度为40～80℃的烘箱中保温处理5～24小时，取出不锈钢基片并用蒸馏水或去离子水冲洗，在＜100℃干燥，即得到c轴择优取向二氧化钛薄膜。本方法所获得的c轴择优取向二氧化钛薄膜除了可用作光电子功能材料、建筑和装饰装修材料之外，还可用于污水处理、室内外空气净化及杀菌；同时制备方法简单，具有工业化生产的前景。 | ||||||
| 118 | 形成电磁波干扰遮蔽膜的方法 | CN00100516.2 | 2000-01-20 | CN1243464C | 2006-02-22 | 刘启志; 陈在朴; 黄光昭 |
| 本发明是有关一种结合物理气相沉积及电镀来形成电磁波干扰(EMI)遮蔽膜的方法。以物理气相沉积在一非导电材料的表面上形成一第一金属膜的第一步骤；及在一电镀系统中于第一金属膜上电镀一第二金属膜的第二步骤。第一金属膜提供了导电性质，于是可作为第二步骤中的电镀系统中的阴极而在其上电镀第二金属膜。第二金属膜可为导电性良好的铜或银。本发明方法进一步包含在第二金属膜上形成一保护膜的步骤，例如镍保护膜。 | ||||||
| 119 | 聚合物基质的无电金属喷镀的方法 | CN03813062.9 | 2003-06-03 | CN1659310A | 2005-08-24 | 桑尼尔·麦德修卡·班盖尔; 彼得·麦尔康·莫伦 |
| 一种活化和金属喷镀芳族聚合物薄膜的方法，包括如下步骤：用碱溶液处理该薄膜的第一表面；对该薄膜的所述第一表面施用包含聚合物稳定催化剂颗粒的接种水溶液；和将该薄膜浸入包含所需金属的离子的无电电镀槽中，以便在所述薄膜的第一表面上沉积所述金属的层。 | ||||||
| 120 | 复合氧化物半导体纳米材料的制备方法 | CN200410061353.9 | 2004-12-15 | CN1622283A | 2005-06-01 | 贺平; 金航 |
| 复合氧化物半导体纳米材料的制备方法，涉及复合氧化物半导体纳米材料氧化铟锡，氧化锑锡及氧化铝锌的制备方法。它是将生成复合金属氧化物的两种金属盐，按所需重量配比溶入含有同金属离子络合的有机物的有机溶剂中，另取去离子水溶解高分子保护剂配成水溶液，将反应物滴入水溶液中，发生水解反应生成两种金属氢氧化物的共沉淀物，将生成物过滤清洗、烘干、再煅烧，得到5－25nm的复合金属纳米粉。本发明使用金属的有机络合剂，同金属离子形成络合物，使两种金属在同一pH值下同时水解，高分子保护剂在反应中阻止生成物粒子长大，使两种金属的氢氧化物达到分子级的均匀混合。采用本发明，能批量生产粒度小、导电性好、分散度好的复合金属氧化物纳米粉。 | ||||||
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