一种机床平台镜面化处理的抛光方法
专利汇可以提供一种机床平台镜面化处理的抛光方法专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本 发明 公开了一种机床平台镜面化处理的 抛光 方法，其具体步骤为：（1）首先将机床平台进行前处理，包括清 水 冲洗、除油、除锈、二次冲洗、烘干；（2）将前处理过的机床平台进行粗铣，一次铣出后针对个别区 块 进行补铣；（3）再将粗铣过的机床平台进行半精铣；（4）半精铣后再将机床平台进行粗磨，粗磨过后对机床平台进行高速珩磨；（5）将珩磨后的机床平台均匀涂抹上加热的 抛光液 ，再进行精磨，精磨采用十字精磨，先横向再纵向进行精磨，精磨后再最后进行 研磨 ，研磨后进行冲洗干净后使用洁净空气吹干，覆膜；本发明的有益效果是：设置了前处理工艺，可大大提高抛光速率和 质量 ，并且利用多道工序步步推进抛光 进程 ，提高工艺本身的容错率。，下面是一种机床平台镜面化处理的抛光方法专利的具体信息内容。
1.一种机床平台镜面化处理的抛光方法，其特征在于其具体步骤为：
（1）首先将机床平台进行前处理，包括清水冲洗、除油、除锈、二次冲洗、烘干；
（2）将前处理过的机床平台进行粗铣，要求一次铣出完成度在85-95%，并且Z向切深要求比实际计算切深多出1-2mm，一次铣出后针对个别区块进行补铣；
（3）再将粗铣过的机床平台进行半精铣，半精铣采用网格区划将整个平台区划成3-5cm边长的正方形网格，分别对不同网格中平面的不同平面情况进行半精铣；
（4）半精铣后再将机床平台进行粗磨，要求粗磨工作量控制在1-3mm，粗磨过后对机床平台进行高速珩磨，珩磨进给速度控制在3-5m/min；
（5）将珩磨后的机床平台均匀涂抹上加热至40-60℃的抛光液，再进行精磨，精磨采用十字精磨，先横向再纵向进行精磨，精磨时进给速度控制在1-3m/min，精磨后再最后进行研磨，研磨后冲洗干净后使用洁净空气吹干，覆膜。
一种机床平台镜面化处理的抛光方法
技术领域
背景技术
发明内容
（2）将前处理过的机床平台进行粗铣，要求一次铣出完成度在85-95%，并且Z向切深要求比实际计算切深多出1-2mm，一次铣出后针对个别区块进行补铣；
（3）再将粗铣过的机床平台进行半精铣，半精铣采用网格区划将整个平台区划成3-5cm边长的正方形网格，分别对不同网格中平面的不同平面情况进行半精铣；
（4）半精铣后再将机床平台进行粗磨，要求粗磨工作量控制在1-3mm，粗磨过后对机床平台进行高速珩磨，珩磨进给速度控制在3-5m/min；
（5）将珩磨后的机床平台均匀涂抹上加热至40-60℃的抛光液，再进行精磨，精磨采用十字精磨，先横向再纵向进行精磨，精磨时进给速度控制在1-3m/min，精磨后再最后进行研磨，研磨后进行冲洗干净后使用洁净空气吹干，覆膜。
具体实施方式
（1）首先将机床平台进行前处理，包括清水冲洗、除油、除锈、二次冲洗、烘干；
（2）将前处理过的机床平台进行粗铣，要求一次铣出完成度在85%，并且Z向切深要求比实际计算切深多出1-2mm，一次铣出后针对个别区块进行补铣；
（3）再将粗铣过的机床平台进行半精铣，半精铣采用网格区划将整个平台区划成3cm边长的正方形网格，分别对不同网格中平面的不同平面情况进行半精铣；
（4）半精铣后再将机床平台进行粗磨，要求粗磨工作量控制在1mm，粗磨过后对机床平台进行高速珩磨，珩磨进给速度控制在3m/min；
（5）将珩磨后的机床平台均匀涂抹上加热至40℃的抛光液，再进行精磨，精磨采用十字精磨，先横向再纵向进行精磨，精磨时进给速度控制在1m/min，精磨后再最后进行研磨，研磨后进行冲洗干净后使用洁净空气吹干，覆膜。
（1）首先将机床平台进行前处理，包括清水冲洗、除油、除锈、二次冲洗、烘干；
（2）将前处理过的机床平台进行粗铣，要求一次铣出完成度在95%，并且Z向切深要求比实际计算切深多出1-2mm，一次铣出后针对个别区块进行补铣；
（3）再将粗铣过的机床平台进行半精铣，半精铣采用网格区划将整个平台区划成5cm边长的正方形网格，分别对不同网格中平面的不同平面情况进行半精铣；
（4）半精铣后再将机床平台进行粗磨，要求粗磨工作量控制在3mm，粗磨过后对机床平台进行高速珩磨，珩磨进给速度控制在5m/min；
（5）将珩磨后的机床平台均匀涂抹上加热至60℃的抛光液，再进行精磨，精磨采用十字精磨，先横向再纵向进行精磨，精磨时进给速度控制在3m/min，精磨后再最后进行研磨，研磨后进行冲洗干净后使用洁净空气吹干，覆膜。
（1）首先将机床平台进行前处理，包括清水冲洗、除油、除锈、二次冲洗、烘干；
（2）将前处理过的机床平台进行粗铣，要求一次铣出完成度在90%，并且Z向切深要求比实际计算切深多出1-2mm，一次铣出后针对个别区块进行补铣；
（3）再将粗铣过的机床平台进行半精铣，半精铣采用网格区划将整个平台区划成4cm边长的正方形网格，分别对不同网格中平面的不同平面情况进行半精铣；
（4）半精铣后再将机床平台进行粗磨，要求粗磨工作量控制在2mm，粗磨过后对机床平台进行高速珩磨，珩磨进给速度控制在4m/min；
（5）将珩磨后的机床平台均匀涂抹上加热至50℃的抛光液，再进行精磨，精磨采用十字精磨，先横向再纵向进行精磨，精磨时进给速度控制在2m/min，精磨后再最后进行研磨，研磨后进行冲洗干净后使用洁净空气吹干，覆膜。
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