| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
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| 121 | 非水電解液、それを用いた蓄電デバイス、及びそれに用いられるカルボン酸エステル化合物 | JP2015553583 | 2014-12-17 | JPWO2015093532A1 | 2017-03-23 | 圭 島本; 安部 浩司; 浩司 安部; 敷田 庄司; 庄司 敷田; 三好 和弘; 和弘 三好 |
| 本発明は、蓄電デバイスを高温、高電圧で使用した場合の電気化学特性を向上させ、更に高電圧、高温保存後の容量維持率だけでなくガス発生を抑制することができる非水電解液及びそれを用いた蓄電デバイスに関し、非水溶媒に電解質塩が溶解されている非水電解液において、下記一般式(I)で表されるカルボン酸エステル化合物を含有する非水電解液である。(式中、R1及びR2はそれぞれ独立して、水素原子、−C(=O)−OR4基等を示し、R1とR2が結合して環構造を形成してもよい。また、R3は水素原子等を示し、nは1〜3の整数を示す。nが1の場合、L及びR4は、炭素数1〜6のアルキル基等を示し、nが2又は3の場合、Lは、n価の連結基であり、Xは、−C(=O)−基、−S(=O)−基、−S(=O)2−基、−S(=O)2−R5−S(=O)2−基、又はCR6R7基を示し、R5は、炭素数1〜4のアルキレン基を示し、R6及びR7は水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基を示す。) | ||||||
| 122 | 電池用非水電解液、及びリチウム二次電池 | JP2015539140 | 2014-09-17 | JP6017697B2 | 2016-11-02 | 宮里 将敬; 藤山 聡子; 林 剛史 |
| 123 | 1,3−プロパンジスルホン酸を送達するための方法、化合物、および組成物 | JP2015179480 | 2015-09-11 | JP2016034960A | 2016-03-17 | コング,シェンチー; レーベンス,ナイジェル; ボウジド,アブデルラヒーム; シブラ,ステファン; フレネット,リチャード; レナウド,ジョアン |
| 【課題】AAアミロイドーシスの処置のための治療薬である1,3−プロパンジスルホン酸(1,3PDS)を対象、好ましくはヒト対象に送達するための方法、化合物、および組成物の提供。 【解決手段】式Iで示される1,3−プロパンジスルホン酸化合物又は薬学的に許容しうるその塩もしくは溶媒化合物、又はそれを含む組成物を、必要とする対象、好ましくはヒト対象に投与することを含む、疾患の処置または予防の方法。 (R1及びR2は各々独立にOR3、−NHC(O)R5、−NHC(NH)NHR5、−NH(C5−C10ヘテロアリール)等;R3及びR5は各々独立にH、C1−C12アルキル、C2−C12アルケニル、C3−C15シクロアルキル、C6−C15アリール等;) 【選択図】なし |
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| 124 | Cyclic sulfate compound, a nonaqueous electrolyte solution containing the same, and a lithium secondary battery | JP2012539785 | 2011-10-21 | JP5524347B2 | 2014-06-18 | 茂 三尾; 光雄 中村; 佳一郎 春田; 栄信 野木; 聡子 藤山; 剛史 林; 角田 秀俊 |
| 125 | The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, and the resist film pattern forming method, a method of manufacturing an electronic device using the same, and an electronic device | JP2011207018 | 2011-09-22 | JP5501318B2 | 2014-05-21 | 薫 岩戸; 秀知 高橋; 三千紘 白川 |
| Provided are an actinic-ray-sensitive or a radiation-sensitive resin composition with greater residual film ratio and capable of suppressing pattern collapse and an occurrence of bridge defects after development, and a resist film, a pattern forming method, an electronic device manufacturing method, and an electronic device, each using the same. An actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition includes a resin (P) having a repeating unit (a) represented by following General Formula (I), a compound (B) represented by any of following General Formulae (B-1) to (B-3), and a solvent, in General Formula (I), R0 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R1, R2 and R3 each independently represent a straight chain or branched alkyl group. | ||||||
| 126 | Method for producing a cyclic sulfonium salt | JP2008552203 | 2008-01-04 | JP5296555B2 | 2013-09-25 | 修 村岡; 元三 田邉 |
| Disclosed are: kotalanol which has an inhibitory activity on a glucosidase; a method for producing kotalanol or a cyclic sulfonium salt which is an analogue to kotalanol by an organic synthesis technique; a cyclic sulfonium salt produced by the method; a glucosidase inhibitor comprising the compound; an anti-diabetic agent or an anti-diabetic food comprising the glucosidase inhibitor. A sulfonium compound including kotalanol can be produced by coupling a thio-sugar synthesized from D-xylose (e.g., a compound having a cyclic structure composed of 4 carbon atoms and one sulfur atom, such as 1,4-dideoxy-1,4-epithio-D-arabinitol) with a heptitol cyclic sulfate ester having a protected hydroxyl group and synthesized from a pentose (D-xylose, D-ribose, D-arabinose, D-lyxose, L-xylose, L-ribose, L-arabinose or L-lyxose) to produce a cyclic sulfonium salt having a protected hydroxyl group, and then deprotecting the hydroxyl group. | ||||||
| 127 | Chiral sulfate binaphthyls for use as a liquid crystal material | JP2009504589 | 2007-03-16 | JP5295948B2 | 2013-09-18 | ルイーズ ダイアン ファーランド、; パトリシア エイリーン サックストン、 |
| The invention relates to chiral compounds, methods of their preparation, and to their use in optical, electrooptical, electronic, semiconducting or luminescent components or devices, and in decorative, security, cosmetic or diagnostic applications. | ||||||
| 128 | 非水電解液、それを用いた電気化学素子、及びそれに用いられる１，２−ジオキシプロパン化合物 | JP2012508251 | 2011-03-24 | JPWO2011122449A1 | 2013-07-08 | 三好 和弘; 和弘 三好; 雄一 古藤; 敷田 庄司; 庄司 敷田 |
| 本発明は、高温充電保存後の低温負荷特性を向上できる非水電解液、それを用いた電気化学素子、及びそれに用いられる1,2−ジオキシプロパン化合物を提供することを目的とする。本発明の非水電解液は、非水溶媒に電解質塩が溶解されている非水電解液において、非水電解液中に、下記一般式(I)で表される1,2−ジオキシプロパン化合物を含有することを特徴とする。 | ||||||
| 129 | New structural analogs of corosolic acid having anti-diabetic and anti-inflammatory | JP2007519984 | 2004-07-08 | JP4732454B2 | 2011-07-27 | ガンガ， ラジュ ゴカラジュ，; ラマ， ラジュ ゴカラジュ，; ヴェンカタ， スバラジュ ゴツムカラ，; トリムルツル ゴラコチ，; ヴェンカテスワルル ソメパリ，; ヴェンカテスワラ， ラオ チラヴリ， |
| 130 | 環状スルホニウム塩、環状スルホニウム塩の製造方法およびグルコシダ−ゼ阻害剤 | JP2008552203 | 2008-01-04 | JPWO2008082017A1 | 2010-04-30 | 修 村岡; 元三 田邉 |
| グルコシダ−ゼに対して阻害活性を有するコタラノールおよびコタラノールと類縁の環状スルホニウム塩の有機合成による製造方法およびこの製造法によって製造される環状スルホニウム塩を提供するとともに、該化合物を含有するグルコシダ−ゼ阻害剤、およびグルコシダ−ゼ阻害剤を含有する抗糖尿病剤または抗糖尿病食品を提供する。この発明によれば、D−キシロースから合成したチオ糖(例えば1,4−ジデオキシ−1,4−エピチオ−D−アラビニト−ルなどの炭素原子4個と硫黄原子1個の環状構造をもつ化合物)と、5単糖(D−キシロース、D−リボース、D−アラビノース、D−リキソースあるいはL−キシロース、L−リボース、レアラビノース、L−リキソース)から合成した水酸基が保護されたヘプチトール環状硫酸エステルのカップリング反応により水酸基保護された環状スルホニウム塩を得、続いて水酸基の脱保護によりコタラノールなどのスルホニウム化合物を得ることができる。 | ||||||
| 131 | Chiral sulfate binaphthyls for use as a liquid crystal material | JP2009504589 | 2007-03-16 | JP2009533360A | 2009-09-17 | パトリシア エイリーン サックストン、; ルイーズ ダイアン ファーランド、 |
| 【課題】液晶材料として使用するためのキラル硫酸ビナフチル類を提供する。
【解決手段】本発明は式（Ｉ）のキラル化合物類、それらの調製方法、および光学的、電気光学的、電子、半導体または発光素子または装置におけるそれらの使用に関する。 【選択図】なし |
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| 132 | Method for producing polysulfide compound and rubber composition containing the same | JP2004056647 | 2004-03-01 | JP2005247704A | 2005-09-15 | SAI MOTOFUMI |
| <P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing a polysulfide compound under anhydrous reaction conditions. <P>SOLUTION: The method for producing the polysulfide compound comprises carrying out a reaction between a dihalogen compound of formula(I):X-R-X[ wherein, X is a halogen atom; and R is a (substituent- or heteroatom-containing) 2-24C alkylene group or an aromatic alkylene group ] and a metal polysulfide of formula(II):M-Sx-M( wherein, M is a groupIA metal atom; and x is an integer of 2-6 on average ) in an anhydrous solvent system. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI | ||||||
| 133 | Improved endosulfan formulations and methods of use thereof | JP2002542204 | 2001-11-20 | JP2004522708A | 2004-07-29 | ジョン グラハム オークショット; タラ ディーン サザーランド; ロビン ジョイス ラッセル; マイケル ジェイムズ レーシー |
| 本発明者らは、αエンドスルファンおよびβエンドスルファンの対照的な化学的、物理的、および環境上の特徴が、環境へのリスクの低い有効なエンドスルファン製剤を調合する可能性を提供することを見いだした。 したがって、本発明は害虫に侵されているか、あるいは侵されている可能性がある地域の害虫の数を制御する、または減少させる方法であって、βエンドスルファンおよびαエンドスルファンを含み、ただし製剤中のβエンドスルファンとαエンドスルファンの比は少なくとも3.5：6.5w/wであるエンドスルファン製剤をその地域に適用する段階を含む方法を提供する。 | ||||||
| 134 | Production method of alkane sulfonic acid | JP2000597260 | 2000-02-03 | JP2002540066A | 2002-11-26 | フロイデンターラー エヴァ; ハルプリッター クラウス; シュテルツェル ハンス−ヨーゼフ; アイアーマン マティアス |
| (57)【要約】 以下の工程：ジアルキルスルフィットを適当な触媒の存在下に転位させて、相応するアルキルアルカンスルホネートを形成する及び生成したアルキルアルカンスルホネーを加水分解して、相応するアルカンスルホン酸を得るからなるジアルキルスルフィットからアルカンスルホン酸を製造する方法。 | ||||||
| 135 | Novel ring-opening monomer | JP51460394 | 1993-12-21 | JP3299542B2 | 2002-07-08 | エバンズ、リチャード・アレグザンダー; サン、サン・ホア; モード、グレーム; リザード、エジオ |
| 136 | Novel ring-opening monomer | JP51460394 | 1993-12-21 | JPH08504771A | 1996-05-21 | エバンズ、リチャード・アレグザンダー; サン、サン・ホア; モード、グレーム; リザード、エジオ |
| (57)【要約】 式１： ［式中、Ｒ 1およびＲ 2は各々、水素、Ｃ 1 −Ｃ 6アルキル、Ｃ 1 −Ｃ 6ハロアルキル、フェニル、および置換フェニルから成る群から選択される；Ｘは、硫黄、スルホン、二硫化物から成る群から選択される；Ｙは、酸素、炭素、Ｎ−Ｈ、Ｎ−アルキル、Ｎ−アリール、または硫黄から選択される；Ｚは、いずれかの結合官能基である。 ］で示される化合物。 この化合物は新規な開環モノマーである。 | ||||||
| 137 | JPH05507936A - | JP51187791 | 1991-07-08 | JPH05507936A | 1993-11-11 | |
| 138 | Production of carbocyclic nucleosides and intermediates | JP32629792 | 1992-11-12 | JPH05294964A | 1993-11-09 | HAINTSU MOOZAA |
| PURPOSE: To obtain the subject compds. useful for antiviral agents or the like in high yield by bringing a specified racemic compd. to react under specified conditions, thereafter eliminating a protecting group and efficiently attaining the simultaneous synthesis of natural and unnatural system nucleoside analogues. CONSTITUTION: A compd. in the form of an enantiomer of formula I (R 1 is a protecting group) is brought to react with a compound of the formula X-CO-X, X-CS-X, X-SO-X, X-SO 2-X (X is an eliminable group) or the like to obtain the enantiomer of formula III [Y is C(O), C(S), SO, SO 2 or the like]. The obtd. compd. is brought to react with a nucleic acid base of group B [B is a group of a nucleic acid base from the series comprising purine, purine analogues or a pyridine analogues] or an alkali metal salt of the nucleic acid of the group B in the absence or presence of a nonnucleophilic base to obtain the enantiomer of formula III, and a protecting group R 1 and a group YOM in the obtd. compd. are removed to obtain the objective compd. of formula IV (R is H or R 1). COPYRIGHT: (C)1993,JPO | ||||||
| 139 | Production of cyclopropanenitrile derivative | JP33186391 | 1991-12-16 | JPH04275267A | 1992-09-30 | PAURU HANSERUMAN |
| PURPOSE: To obtain a cylcopropanenitrile deriv. effective as an intermediate for synthesis of a medicine at a low cost without damaging the environment by allowing a diol to react with thionyl chloride, oxidizing the product and further allowing the product to react with a cyanide. CONSTITUTION: A diol expressed by formula I is made to react with thionyl chloride at -10 to 80°C obtain compd. expressed by formula II. In formula I, R 1, R 2 are H, a 1 to 6C alkyl, 1 to 6C alkenyl or R 1 and R 2 may form a 4 to 6C cycloalkyl ring. Then the obtd. product is oxidized by using an alkali permanganate, etc., in the presence of a catalyst (e.g. ruthenium trichloride) at 0 to 80°C to obtain a compd. expressed by formula III. Then the obtd. compd. is made to react with a cyanide (e.g. sodium cyanide) in the presence of a base (e.g. sodium carbonate) at 80 to 300°C to obtain a compd. of the purpose expressed by formula IV. To one mole of the diol, 1 to 3 moles of thionyl chloride is used, and to one mole of the compd. of formula II, 1 to 3 moles of the oxidizing agent is used. To one mol of the compd. of formula III, 1 to 3 moles of the cyanide is used. COPYRIGHT: (C)1992,JPO | ||||||
| 140 | JPS585161B2 - | JP1636574 | 1974-02-12 | JPS585161B2 | 1983-01-29 | SHIDONII BII RIHITAA; JON KURENZAA |
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