序号 专利名 申请号 申请日 公开(公告)号 公开(公告)日 发明人
1 基板处理装置、程序以及基板处理方法 CN201380037331.6 2013-06-25 CN104471699B 2017-10-03 山本真弘
提供一种抑制基板处理效率下降,并且降低因开放密封容器而导致容置在内部的基板受到的破坏的技术。基板处理装置(1)具有:密封容器(11),其具有在内部容置基板(9)的空间,并形成有用于搬入或者搬出基板(9)的开口(121);开闭机构(17),开闭开口(121);基板处理部(30),对基板(9)进行清洗处理;以及,第一搬运机械手(IR1),将基板(9)搬入搬出密封容器(11)。另外,基板处理装置(1)具有进度表创建部(401),该进度表创建部(401)根据基板处理部(30)处理基板(9)的处理时间,创建规定了开闭机构(17)开闭开口(121)的时机以及基板搬运部(20)向密封容器(11)搬入基板(9)或者从密封容器(11)搬出基板(9)的时机的进度表数据(441)。
2 用于半导体工件的搬运系统 CN201611039907.4 2016-11-11 CN107039321A 2017-08-11 黎辅宪; 董启峰; 沈香吟
发明涉及用于半导体工件的搬运系统。具体的,本发明提供一种用于搬运半导体工件的具有多层轨条的高架式搬运OHT系统。第一载具经配置以在第一轨条上行进且沿着所述第一轨条移动半导体工件。第二载具经配置以在上覆于所述第一轨条的第二轨条上行进且沿着所述第二轨条移动所述半导体工件。控制器经配置以控制所述第一载具及所述第二载具以沿着所述第一轨条及所述第二轨条在处理或检验工具之间转移所述半导体工件。本发明还提供一种用于跨多层轨条转移半导体工件的方法。
3 衬底处理装置以及半导体器件的制造方法 CN201610158951.0 2016-03-18 CN106960806A 2017-07-18 芦原洋司
发明提供一种衬底处理装置以及半导体器件的制造方法。本发明提供能够在具有多个腔室的装置中实现高温处理的技术。包括:腔室,在其内侧对衬底进行处理;气体供给部,其向腔室交替地供给第一气体和第二气体;第一排气配管,其对第一气体和第二气体进行排气;加热器,其设于第一排气配管,将上述第一排气配管加热到比第一气体在蒸气压下成为气体的温度高的温度;处理模,其相邻地设有多个腔室;电子设备系统,其以与收纳第一排气配管的一部分的气体箱相邻的方式配置,按每个腔室设置;和热量降低构造,其以将设于相邻的腔室的多个第一排气配管包围的方式设置,降低从加热器对电子设备系统的热影响。
4 具有非等长前臂的多轴机械手设备、电子装置制造系统、及用于在电子装置制造中传送基板的方法 CN201380061937.3 2013-11-26 CN104823272B 2017-07-14 杰弗里·C·赫金斯; 伊贾·克雷默曼; 杰弗里·A·布罗丁; 达蒙·基思·考克斯
本文的实施方式包括用于基板传送系统的多臂机械手,所述多臂机械手包括转臂、以旋转方式耦接至转臂的第一及第二前臂(第二前臂比第一前臂短)、以旋转方式耦接至第一前臂的第一腕部部件,及以旋转方式耦接至第二前臂的第二腕部部件。转臂、第一及第二前臂,及第一及第二腕部部件中的每一个被配置成独立旋转以执行基板运动轨迹。本文描述了电子装置处理系统及传送基板的方法,还描述了许多其他态样。
5 脆化装置,拾取系统和拾取芯片的方法 CN201610022826.7 2016-01-14 CN105789127A 2016-07-20 吴祖华; M.海因里奇; J.希尔施勒; I.米勒; M.勒斯纳
发明涉及脆化装置,拾取系统和拾取芯片的方法。各种实施例提供一种从载体系统拾取芯片的方法,其中该方法包括提供包括多个芯片的载体系统,该多个芯片包括边缘部分并且通过粘合层附着到载体系统的一个表面;在多个芯片的边缘部分处选择性地脆化粘合层;以及拾取多个芯片的至少一个芯片。
6 一种用于LED外延晶圆制程的石墨承载盘 CN201210506371.8 2012-12-03 CN102983093B 2016-04-20 谢祥彬; 南琦; 潘磊
发明旨在提供一种用于LED外延晶圆制程的石墨承载盘,该石墨承载盘包括若干个设置在承载盘上方的晶圆凹槽,用于置放外延晶圆衬底,所述晶圆凹槽的内边缘为下凹台阶,且具有复数个向内延伸的支撑部;还包括石墨承载盘的边缘以及设置在石墨承载盘中心的轴孔。根据不同工艺参数的需要,可设置不同数量及不同尺寸的凹槽。所述结构能够降低反应室气流干扰、提高晶圆的边缘良率。
7 半导体模、用于抓取、移动和电测试半导体模块的方法 CN201510516143.2 2015-08-21 CN105374760A 2016-03-02 R.科德斯; C.科赫; M.拉里施; S.申内滕
发明的一方面涉及半导体模(100)。该半导体模块包括具有四个侧壁(61、62、63、64)的外壳(6)以及在外壳(6)处所安装的具有上侧(2t)和与上侧(2t)相对的下侧(2b)的电路载体(2)。半导体芯片(1)被布置在上侧(2t)上和外壳(2t)中。被构造为凹处的第一抓取槽(71)从外壳(6)的外侧出发延伸到侧壁(61、62、63、64)的第一侧壁(61)中。
8 工业用机器人的原点位置返回方法及工业用机器人 CN201510651123.6 2013-07-25 CN105196310A 2015-12-30 矢泽隆之; 增泽佳久; 田辺智树; 渡边洋和
一种工业用机器人及其原点位置返回方法,所述方法能够用简单的方法使在当前位置的坐标为未知的状态下停止的工业用机器人返回至原点位置。所述工业用机器人的原点位置返回方法使工业用机器人返回至原点位置,所述工业用机器人的原点位置返回方法包括:假定当前位置设定工序,所述假定当前位置设定工序根据所述工业用机器人的状态对在当前位置的坐标为未知的状态下停止的所述工业用机器人的假定当前位置的坐标进行设定;动作工序,所述动作工序在所述假定当前位置设定工序后,使所述工业用机器人动作至指定位置;以及返回动作工序,所述返回动作工序在所述动作工序后,使所述工业用机器人自动返回至所述原点位置。
9 工业用机器人及其控制方法 CN201510651751.4 2013-07-25 CN105127996A 2015-12-09 矢泽隆之; 增泽佳久; 田辺智树; 渡边洋和
一种工业用机器人及其控制方法,所述工业用机器人即使在从臂的转动的轴向观察时臂的前端侧在不沿着通过臂相对于主体部的转动中心的假想线的位置直线地移动的情况下,也能够容易地指示臂的前端侧的移动位置。所述工业用机器人包括:臂,所述臂包括被连接成能够相对转动的多个臂部;多个达,所述多个马达用于使多个所述臂部转动;以及主体部,所述臂的基端侧与所述主体部连接成能够转动,控制所述工业用机器人的控制部根据所述臂的姿势和所述臂的动作方向切换是使用以所述臂相对于所述主体部的转动中心为原点的圆柱坐标系控制所述工业用机器人,还是使用以所述臂的所述转动中心为原点的直坐标系控制所述工业用机器人。
10 太阳电池夹具用静电荷移除 CN201380038318.2 2013-07-17 CN104508814A 2015-04-08 杰森·夏勒; 罗伯特·布然特·宝佩特
一种制造系统包含龙架模,具有用于将工件从传送机系统移动到工作区的末端执行器,例如,交换模块。交换模块从装载移除已处理的工件的矩阵且将未处理的工件的矩阵放置在其位置。接着通过龙门架模块将已处理的工件移动回到传送机。归因于操作速度,末端执行器可能累积过量静电荷。为了移除此累积电荷,接地导电刷子策略性地定位,以使得当末端执行器在正常操作期间移动时,其与刷子接触,移除末端执行器上的累积电荷,而不影响产量。在另一实施例中,当交换模块将矩阵移动到装载锁且从装载锁移动矩阵时,末端执行器在刷子上方移动。
11 一种用于LED外延晶圆制程的石墨承载盘 CN201210506371.8 2012-12-03 CN102983093A 2013-03-20 谢祥彬; 南琦; 潘磊
发明旨在提供一种用于LED外延晶圆制程的石墨承载盘,该石墨承载盘包括若干个设置在承载盘上方的晶圆凹槽,用于置放外延晶圆衬底,所述晶圆凹槽的内边缘为下凹台阶,且具有复数个向内延伸的支撑部;还包括石墨承载盘的边缘以及设置在石墨承载盘中心的轴孔。根据不同工艺参数的需要,可设置不同数量及不同尺寸的凹槽。所述结构能够降低反应室气流干扰、提高晶圆的边缘良率。
12 低多变性机器人 CN201280054326.1 2012-09-14 CN103917337B 2017-12-15 M·霍塞克; T·哈; C·霍夫迈斯特
一种设备,包括框架、第一位置传感器驱动器和腔室。该框架具有至少三个构件,该至少三个构件包括至少两个连杆,形成可动臂和末端效应器。末端效应器和连杆由可动关节连接。末端效应器被配置成支撑在其上的衬底。第一位置传感器在框架上靠近关节的第一个关节。第一位置传感器被配置成感应两个构件相对于彼此的位置。驱动器被连接到框架上。该驱动器被配置成移动该可动臂。框架位于腔室中,并且驱动器通过腔室中的壁延伸。
13 用于自动校正膜片架上的晶圆的旋转错位的系统和方法 CN201380045373.4 2013-09-02 CN104718607B 2017-10-03 林靖
自动地校正未适当地安装在膜片架上的晶圆的旋转错位包括在检查系统开始晶圆检查过程之前,使用图像捕获装置捕获晶圆的多个部分的图像;数字地确定晶圆相对于膜片架和/或图像捕获装置的视野的一组参考轴的旋转错位度和旋转错位方向;以及借助于与检查系统分离的膜片架操持设备校正晶圆的旋转错位,所述晶圆操持设备被构造为在与旋转错位方向相反的方向上将膜片架旋转旋转错位角度。能够在没有减少膜片架操持吞吐量或检查处理吞吐量的情况下,在将膜片架放置在晶圆台上之前进行这样的膜片架旋转。
14 具备末端执行器机器人及其运行方法 CN201510663580.7 2010-01-29 CN105415346B 2017-08-01 桥本康彦; 吉田哲也
发明末端执行器构成为安装在机器人机械臂上,其特征在于,具备:多个托板部件,构成为能够分别保持基板,并能够改变托板部件彼此的托板间隔;托板支撑部,支撑多个托板部件,与多个托板部件一体地被机器人驱动;以及托板驱动单元,使多个托板部件中的至少一个相对于其它的托板部件移动,改变托板间隔。
15 多功能晶圆及膜片架操持系统 CN201380045369.8 2013-09-02 CN104641461B 2017-06-06 金剑平; 李龙谦
一种多功能晶圆和膜片架操持系统包括晶圆台组件,其具有提供被构造为承载晶圆或膜片架的超平面晶圆台表面的晶圆台;以及下述中的至少一个:展平设备,其被构造为在与晶圆台表面垂直方向上将向下的自动地施加到翘曲或非平面的晶圆的各部分;移位限制设备,其被构造为在所施加的负压停止并且经由晶圆台将正压施加到晶圆的下侧之后自动地约束或防止晶圆相对于晶圆台表面的非受控的横向运动;以及旋转错位补偿设备,其被构造为自动地补偿安装在膜片架上的晶圆的旋转错位。
16 收纳容器、收纳容器的开闭器开闭单元、及使用它们的晶圆储料器 CN201380019946.6 2013-04-10 CN104221136B 2017-05-31 崎谷文雄; 坂田胜则
提供一种可以防止外部气氛的流入,通过比较少量的气体能够将晶圆收纳空间维持成所希望的气氛,并且能够防止尘埃向晶圆表面的附着的晶圆储料器。将开闭器相对于主体部隔开间隙地配置,该开闭器由具有与配置于收纳容器内部的搁板的间隔相同的高度尺寸的多个遮挡板构成,通过向收纳容器内部供给清洁气体而与外部环境相比维持成高压的清洁环境,并且通过使遮挡板与支承晶圆的搁板独立地上下移动而对开闭器部进行开闭。
17 片传输系统 CN201510270081.1 2015-05-24 CN106292194A 2017-01-04 刘凯; 胡松立; 姜杰
发明公开了一种片传输系统,包括:双臂机械手、上片直线手和下片直线手;其中,所述双臂机械手从硅片存储装置中将待曝光的硅片取出并移送到预对准装置上,并从缓存台将曝光完成的硅片取下放回硅片存储装置中;上片直线手用于将预对准后的硅片移动至工件台,下片直线手将曝光完成后的硅片移动至缓存台。所述双臂机械手、上片直线手和下片直线手可以并行动作,达到节省硅片传输时间的目的。
18 基板翻转装置以及基板处理装置 CN201380031528.9 2013-02-28 CN104380456B 2016-12-14 篠原敬; 涩川润; 加藤洋
发明的目的在于提供能够使多张基板一起适当地翻转的技术。为了达到该目的,基板翻转装置具有:支撑机构(70),将多张基板(W)支撑为呈平姿势且在上下方向上隔开间隔地层叠的状态;夹持翻转机构(80),对被支撑机构(70)支撑的多张基板(W)分别进行夹持,并且使多张基板(W)一起翻转。在支撑机构(70)中,支撑基板(W)的支撑构件(74)一边在上下方向上观察时远离基板的中心,一边向下方移动,从支撑位置移动至待避位置。另一方面,在夹持翻转机构(80)中,夹持基板的夹持构件(83)通过夹持构件驱动部从远离位置移动至接近位置,在该接近位置被弹性构件朝向基板的侧面施加弹性
19 基片输送设备以及用于制造电子装置的系统和方法 CN201080068599.2 2010-08-17 CN103069559B 2016-08-24 渡边和人; 田代征仁; 中村聪史; 小日向大辅; 佐佐木俊秋; 野泽直之
包括第一基片保持器和第二基片保持器(该第一基片保持器和第二基片保持器能够各自保持基片)的基片输送设备,包括:第一驱动臂,该第一驱动臂有第一和第二端部部分,并可随着第一驱动轴的旋转而旋转;第二驱动臂,该第二驱动臂有与第一端部部分间隔开第一距离的第三端部部分和与第二端部部分间隔开第二距离的第四端部部分,并可随着第二驱动轴的旋转而旋转,第二驱动轴与第一驱动轴同轴;两个第一从动臂,这两个第一从动臂与第一基片保持器连接;以及两个第二从动臂,这两个第二从动臂与第二基片保持器连接。
20 搬入搬出机器人 CN201310455928.4 2013-09-29 CN103707285B 2016-06-29 安藤宽晃
提供一种搬入搬出机器人,是机器人设计的自由度更高的结构,且使机器人的动作更简单。该搬入搬出机器人具备:臂单元(40),安装于能够升降的支撑单元(20);和手单元(60),安装于臂单元(40),用于对搬入搬出对象物进行搬运,支撑单元(20)具备能够围绕升降轴回转的基座部(22)以及能够相对于基座部(22)转动的头部(23),臂单元(40)具备能够相对于头部转动的臂(41、51),臂能够沿着其前端从头部穿过的进退方向进退移动,手单元(60)具备能够旋转地安装于臂的搬入搬出手,从头部(23)的转动轴到基部臂(42、52)的旋转轴的轴间距离比从基座部(22)的回转轴到头部(23)的旋转轴的轴间距离短。
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