| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
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| 61 | 同位体生成用の生成組立体および取り外し可能なターゲット組立体 | JP2017567338 | 2016-05-11 | JP2018524589A | 2018-08-30 | パーナスト,マーティン; エリクソン,トーマス; ラーソン,ヨハン; ボンデソン,マグヌス |
| 同位体生成システム用の生成組立体を提供する。生成組立体は、取り付けプラットフォームを備え、取り付けプラットフォームは、取り付けプラットフォームの外側に面する受け取りステージを有する。取り付けプラットフォームは、受け取りステージに開くビーム通路と、受け取りステージに沿って配置されたステージポートとを有する。粒子ビームは、同位体生成システムの動作中に、ビーム通路を通って発射され、受け取りステージを通るように構成される。ステージポートは、同位体生成システムの動作中に、受け取りステージを介して流体を供給する、または受けるように構成される。生成組立体は、同位体生成用のターゲット材料を保持するように構成された生成チャンバを有する、ターゲット組立体をさらに備える。ターゲット組立体は、取り付け動作中に、受け取りステージと取り外し可能に係合するように構成された、嵌合側面を有する。 【選択図】図1 |
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| 62 | ホウ素中性子捕捉療法のための中性子標的 | JP2018510319 | 2016-05-05 | JP2018520368A | 2018-07-26 | パーク,ウィリアム・エイチ,ジュニア; コニシュ,スティーブン・ピィ; スミック,セオデレ・エイチ; 逆瀬 卓郎 |
| ホウ素中性子捕捉療法(BNCT)などの用途のために中性子を生成する装置および方法について述べる。装置は、冷却液注入口と冷却液出口とを持つ回転式固定具と、複数の中性子生成セグメントとを含み得る。複数の中性子生成セグメントの各中性子生成セグメントは回転式固定具に取り外し可能に連結され、内部に画定された冷却液チャネル回路を有する基板と、その上に配置された固体中性子源層とを含む。冷却液チャネル回路は冷却液注入口および冷却液出口と流体連通する。 | ||||||
| 63 | 中性子発生用ターゲット | JP2013234078 | 2013-11-12 | JP6355011B2 | 2018-07-11 | 塩田 重雄; 中村 勝 |
| 64 | ターゲットウィンドウ、ターゲットシステム及びアイソトープ製造システム | JP2015503213 | 2013-02-26 | JP6352897B2 | 2018-07-04 | ノーリング,ジョナス・オーヴ; グラナス,カリン |
| 65 | 長寿命核分裂生成物の処理方法 | JP2016544629 | 2015-12-24 | JPWO2017109899A1 | 2017-12-21 | 浩二 仁井田; 和文 辻本 |
| 荷電粒子ビームを入射させるターゲットの構成を最適化することで、安定核種への変換処理を効率化させる長寿命核分裂生成物の処理方法を提供する。【解決手段】長寿命核分裂生成物の処理方法は、放射性廃棄物10からCs、Zr、Se、Sn及びPdのうち少なくとも二種類の元素(第1元素11及び第2元素12)を個別に分離抽出し(S21)、荷電粒子ビーム15が入射した場合の飛程データを取得し(S22)、長さサイズが飛程データの1.0倍から2.0倍の範囲にある第1バルク体21を第1元素11により作成し(S23〜S25)、第1バルク体の周囲に配置される第2バルク体を第2元素12により作成し(S26,S27)、核子当たりのエネルギー値が0.5〜1.5GeVの範囲内である荷電粒子ビームを照射させる(S28〜S30)。 | ||||||
| 66 | 高真空用層間熱接合性グラファイトシート | JP2016562678 | 2015-12-03 | JPWO2016088845A1 | 2017-09-14 | 村上 睦明; 睦明 村上; 正満 立花; 篤 多々見 |
| 高真空条件下においても層間熱接合材として熱伝導特性に優れており、かつ装置内部の汚染やアウトガスの心配のない材料を提供することを目的とする。本発明の高真空用層間熱接合性グラファイトシートは、厚さが9.6μm以下、50nm以上であり、25℃におけるa−b面方向の熱伝導率が1000W/mK以上である点に要旨を有する。本発明においては、密度が1.8g/cm3以上であることが好ましい。本発明の前記グラファイトシートは、高分子フィルムを2900℃以上の温度で熱処理して得られるものであることが好ましく、該高分子フィルムは、ポリアミド、ポリイミド、ポリキノキサリン、ポリオキサジアゾール、ポリベンズイミダゾール等から選択される少なくとも一種であることが好ましい。 | ||||||
| 67 | 放射性金属のサイクロトロン生成用の溶液ターゲット | JP2016567827 | 2015-05-15 | JP2017521645A | 2017-08-03 | ティモシー アール． ディグラード; ムケシュ パーンデー; ジョン バーン |
| 68Ga、89Zr、64Cu、63Zn、86Y、61Cu、99mTc、45Ti、13N、52Mnまたは44Scを生成および単離する方法、ならびに前記方法において使用するための溶液ターゲットを開示する。68Ga、89Zr、64Cu、63Zn、86Y、61Cu、99mTc、45Ti、13N、52Mnまたは44Scを生成する前記方法は、クローズド・ターゲット・システムに陽子ビームを照射する工程を含む。前記クローズド・ターゲット・システムは、溶液ターゲットを含むことができる。単離された68Ga、89Zr、64Cu、63Zn、86Y、61Cu、99mTc、45Ti、52Mnまたは44Scを生成する前記方法は、イオン交換クロマトグラフィーによって68Ga、89Zr、64Cu、63Zn、86Y、61Cu、99mTc、45Ti、52Mnまたは44Scを単離する工程をさらに含む。一例の溶液ターゲットは、ターゲット材料を受けるためのターゲットキャビティを含むターゲット本体と、前記ターゲットキャビティに粒子ビームを指向させるための通路を画成するハウジングと、前記ターゲットキャビティの開口部を覆うためのターゲットウィンドウと、前記通路内のターゲットウィンドウの上流に配置された冷却ガス流路とを含む。【選択図】図1A | ||||||
| 68 | アイソトープ生成システム用の自己シールドターゲット | JP2013506159 | 2011-03-23 | JP6152341B2 | 2017-06-21 | エリクソン・トーマス; ノーリン,ジョナ・オーヴ |
| 69 | 中性子捕捉療法用ビーム整形アセンブリ | JP2015115129 | 2015-06-05 | JP6147296B2 | 2017-06-14 | ▲劉▼渊豪; 李珮▲儀▼ |
| 70 | 放射性廃棄物の処理方法 | JP2015057179 | 2015-03-20 | JP6106892B2 | 2017-04-05 | 藤田 玲子; 大津 秀暁; 松崎 禎市郎; 櫻井 博儀; 下浦 享; 水口 浩司; 大井川 宏之; 小澤 正基; 仁井田 浩二 |
| 71 | 医学的用途のためのセラミックカプセルを使用したCu67放射性同位体の製造方法および製造するためのターゲットユニット、Zn68をCu67から昇華させる装置 | JP2014533532 | 2012-08-23 | JP6105595B2 | 2017-03-29 | エスト デイヴィッド エイ; ウィリット ジャイムズ エル |
| 72 | 放射性廃棄物の処理方法 | JP2015057179 | 2015-03-20 | JP2016176812A | 2016-10-06 | 藤田 玲子; 大津 秀暁; 松崎 禎市郎; 櫻井 博儀; 下浦 享; 水口 浩司; 大井川 宏之; 小澤 正基; 仁井田 浩二 |
| 【課題】核分裂生成物の中から長寿命放射性核種のみを選択的に消滅させる核分裂生成物の処理方法を提供する。 【解決手段】放射性廃棄物から核分裂生成物のうち放射性核種を含み原子番号が共通する同位体元素の群を同位体分離を伴わずに抽出する工程S11と、加速器により生成した高エネルギー粒子を前記同位体元素の群に照射して前記放射性核種のうち長寿命放射性核種を半減期の短い短寿命放射性核種又は資源として再利用可能な安定核種に核変換させる工程S13とを含む。 【選択図】図1 |
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| 73 | ゲルマニウムの生成プロセス | JP2016524207 | 2014-06-26 | JP2016527492A | 2016-09-08 | ウィリアム シー． ウーラント，; デイビッド ウェイン パイプス，; メリッサ ダイアン ペリーゴ， |
| 本開示は放射性同位元素を生成するプロセスに関する。プロセスは、開始材料を含むターゲット体をボンバードすることを含み、開始材料をボンバードすることによってターゲット体内に放射性同位元素が生成し、プロセスは更に、ボンバードされたターゲット体を崩壊させること、ボンバードされたターゲット体を酸性化合物で剥離分解して剥離分解溶液を生成すること、無極性溶媒を用いて剥離分解溶液から放射性同位元素を抽出して酸性化合物を除去し、放射性同位元素を含む無極性溶媒部分を生成すること、放射性同位元素を含む無極性溶媒部分を洗浄すること、及び水を用いて無極性溶媒部分から放射性同位元素を抽出することを含む。 | ||||||
| 74 | 荷電粒子収集装置及び荷電粒子収集方法、ターゲット照射装置及びターゲット照射装置の作動方法 | JP2015515393 | 2012-06-04 | JP5968526B2 | 2016-08-10 | オリヴァー ハイト; ティモシー ヒューズ |
| 75 | 中性子捕捉療法用ビーム整形アセンブリ | JP2015115129 | 2015-06-05 | JP2016107048A | 2016-06-20 | ▲劉▼渊豪; 李珮▲儀▼ |
| 【課題】中性子源の放射フラックスと品質を向上させる 、中性子捕捉療法用ビーム整形アセンブリを提供する。 【解決手段】ビーム整形アセンブリ20は、ビーム入口21と、ターゲット22と、ターゲットに隣接する減速部23と、減速部の周囲に配置される反射体24と、減速部に隣接する熱中性子フィルター25と、ビーム整形アセンブリ内において設置されている放射線遮蔽体26と、ビーム出口27とを備える。ターゲットとビーム入口から入射した陽子ビームとの原子核反応により中性子が生成され、反射体は、熱外中性子ビーム強度を高めるため、主軸X1から逸れた中性子を主軸に導く。熱中性子フィルターは、治療時に表層の正常組織への過度の線量を避けるために熱中性子の吸収に用いられる。放射線遮蔽体は、非照射領域における正常組織への線量を減らすために漏れた中性子と光子の遮蔽に用いられる。 【選択図】図4 |
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| 76 | 中性子捕捉療法用ビーム整形アセンブリ | JP2015115128 | 2015-06-05 | JP2016107047A | 2016-06-20 | ▲劉▼渊豪; 李珮▲儀▼ |
| 【課題】中性子源の放射フラックスと品質を向上させるためになされたものであって、中性子捕捉療法用ビーム整形アセンブリを提供する。 【解決手段】ビーム整形アセンブリ10において、ターゲット12とビーム入口11から入射した陽子ビームとの原子核反応により中性子が生成され、中性子により中性子ビームが形成され、中性子ビームは1つの主軸Xを定義する。減速部13により、ターゲットからの中性子が熱外中性子エネルギー領域に減速される。熱外中性子束を向上させるために減速部と反射体14との間には隙間通路18が設けられる。反射体は、熱外中性子ビーム強度を高めるため、主軸から逸れた中性子を主軸に導く。熱中性子フィルター15は、治療時に表層の正常組織への過度の線量を避けるために熱中性子の吸収に用いられる。放射線遮蔽体16は、非照射領域における正常組織への線量を減らすために漏れた中性子と光子の遮蔽に用いられる。 【選択図】図3 |
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| 77 | パルス磁場によりレーザープラズマを磁化するための装置 | JP2015558540 | 2014-02-26 | JP2016516257A | 2016-06-02 | フーシュ，ジュリアン; アルベルタツィ，ブルーノ; ペパン，アンリ; ポルトゥガル，オリヴィエ; ベアルド，ジェローム |
| 【課題】コイルに流れる大電流による熱、該レーザーが発射されうる速度の低下などの問題を少なくとも部分的に解決したパルス磁場によりレーザープラズマを磁化するための装置の提供。【解決手段】本発明は、パルス磁場によりレーザープラズマを磁化するための装置(1)に関しており、該装置は、レーザーパルス(3)を放射するためのレーザー源(2);ターゲット(5)と該レーザーパルスとの相互作用の間、レーザープラズマ(6)を生成することが可能な該ターゲット(5)がその中に置かれているところの真空チャンバー(4);およびパルス磁場を該レーザープラズマ内で生成することが可能なコイル(8)を備え、該装置は、該コイル(8)が冷却液(11)を収容しているリエントラントチャンバー(10)内に配置されていることを特徴とする。【選択図】図1 | ||||||
| 78 | 複合型ターゲット、複合型ターゲットを用いる中性子発生方法、及び複合型ターゲットを用いる中性子発生装置 | JP2013533804 | 2013-04-12 | JPWO2013154177A1 | 2015-12-17 | 松本 浩; 浩 松本; 小林 仁; 仁 小林; 正和 吉岡; 俊一 栗原 |
| 陽子による部材の放射化を低減することが可能なターゲットを提供する。陽子による部材の放射化を低減させるためにベリリウム材料、リチウム材料、及び非金属材料を複合して成る新規のターゲットを用いる。 | ||||||
| 79 | リチウムループのトリチウム除去装置 | JP2011170599 | 2011-08-04 | JP5812477B2 | 2015-11-11 | 三浦 邦明; 古林 徹; 林▲崎▼ 規託; 並木 伸夫 |
| 80 | 照射ターゲット保持システム及び同位体を製造する方法 | JP2010185694 | 2010-08-23 | JP5798305B2 | 2015-10-21 | メリッサ・アレン; ニコラス・アール・ギルマン; へザー・ハットン; ウィリアム・アール・ラッセル,ザ・セカンド |
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