| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
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| 1 | 气体清洗装置及气体清洗方法 | CN201480043375.4 | 2014-06-02 | CN105474380B | 2017-10-31 | 村田正直; 山路孝 |
| 本发明的气体清洗装置及气体清洗方法，使弹性体气体导入部不因与喷嘴接触被损伤，而且使气体导入部与喷嘴不粘连。从喷嘴向定位容器、同时设置在容器的底部、底面为圆形、中心部有气体导入孔、并且由弹性体构成的气体导入部导入清洗气体。喷嘴具备气体导入部的底面以上的尺寸并且平面状的顶端面、和位于顶端面的中心部并且为容器的气体导入孔以下尺寸的喷嘴孔，顶端面被表面粗糙化或者用低摩擦系数的材料构成，从而顶端面与气体导入部滑动自由。 | ||||||
| 2 | 光掩模坯基板收纳容器、光掩模坯基板的保管方法以及光掩模坯基板的输送方法 | CN201710224861.1 | 2017-04-07 | CN107272328A | 2017-10-20 | 伊藤祥刚; 小板桥龙二 |
| 本发明的课题在于，提供一种能抑制对抗蚀剂图案的影响且能保管、输送光掩模坯基板的光掩模坯基板收纳容器。为此，提供一种光掩模坯基板收纳容器，其特征在于，具备：内部构件，其具有内部盒体与保持构件；容器本体，其具有下箱与上盖；及，密封带；容器本体和内部构件由高分子系材料构成，该高分子系材料在采取0.1g样品时在以40℃保持60分钟的情况下释放的排气成分中，根据气相色谱质谱仪检测到的排气总量以正十四烷换算为1.9×103ng以下，密封带在采取10mm×10mm尺寸的样品时在以150℃保持10分钟的情况下释放的排气成分中，根据气相色谱质谱仪检测到的排气总量以正十四烷换算为1.8×103ng以下。 | ||||||
| 3 | 光罩基底衬底收纳容器 | CN201480049627.4 | 2014-07-24 | CN105518529A | 2016-04-20 | 铃木勤; 大堀伸一; 小板桥龙二; 中川秀夫; 高坂卓郎; 木下隆裕; 福田洋 |
| 本发明抑制对光阻图案产生的影响并且更确实地降低因在保管、搬送或容器操作的过程中所有可能产生的尘埃或粒子的附着引起的光罩基底的污染，提高光罩基底的质量及良率。本发明涉及一种光罩基底衬底收纳容器(1)，其收纳、搬送或保管光罩基底衬底(2)，且其构成零件中的至少1个包含以40℃保持60分钟下通过动态顶空法测定的己内酰胺量以正癸烷换算计每树脂单位重量成为0.01ppm以下的热塑性树脂，并且该构成零件的表面电阻值为1.0E+13欧姆以下。 | ||||||
| 4 | 基板盒清洗装置 | CN201380047075.9 | 2013-09-13 | CN104620359A | 2015-05-13 | 坂下俊也 |
| 使从载置台到支承台的移载简易而不会变得复杂，而且，向支承台的定位也能够容易进行。在室(10)内具备清洗槽(40、50)，所述清洗槽(40、50)在将基板盒(C)的各部件分离的状态下容纳并清洗这些部件，设置在室(10)内对基板盒(C)进行支承的支承台(20)，具备搬送机构，该搬送机构在支承台(20)与清洗槽(40、50)之间对基板盒(C)的各部件进行搬送，在室(10)的开口(11)的外部设置载置台(13)，所述载置台(13)能够载置基板盒(C)，设置在载置台(13)与支承台(20)之间移载基板盒(C)的移载机构(30)，移载机构(30)能够移动至前进位置(R1)和后退位置(R2)这两个位置，所述前进位置(R1)是移载机构(30)搭载支承台(20)并前进到载置台(13)侧而进行与载置台(13)之间的基板盒(C)的接收和交付的位置，所述后退位置(R2)是移载机构(30)后退到室(10)内而在与搬送机构之间进行基板盒(C)的交付和接收的位置。 | ||||||
| 5 | 带隔离系统的光罩盒 | CN200680013975.1 | 2006-02-27 | CN101166681B | 2013-06-12 | B·格雷格森; D·哈伯梅尔; S·森纳; B·怀斯曼; A·M·蒂本; J·斯特里克 |
| 本发明提供一种光罩容器，其配备有辅助容器，所述辅助容器容纳光罩并容纳于主容器中。所述辅助容器通过震动及振动隔离部件固持于主容器内，从而使所述辅助容器在主容器内具有多个运动自由度。所述光罩紧固于所述辅助容器内部，从而使从光罩容器传递至光罩的震动及振动得到实质衰减。 | ||||||
| 6 | 吸震的基底容器 | CN200780004398.4 | 2007-02-05 | CN101378973B | 2012-05-30 | 克里斯汀·安徒生 |
| 一种基底容器主要包括盖子、底座、锁闭机构、及基底约束系统。基底容器具有角，所述角带有设在角处的法兰。各法兰具有穿孔以加强该容器的吸震能力，由此为该基底提供更好的保护。 | ||||||
| 7 | 掩模、容器和制造装置 | CN200410034321.X | 2004-04-12 | CN1621555B | 2011-06-15 | 山崎舜平; 坂田淳一郎; 桑原秀明 |
| 通过对大面积基板进行选择性的蒸镀，本发明提供了掩模精度高的大型掩模。本发明将掩模本体固定在固定位置处，该固定位置是设置在通过掩模框架的热膨胀中心的线上的。还有，在本发明中，使掩模本体和基板固定，通过使蒸镀源沿X方向或Y方向移动来进行蒸镀。这种使蒸镀源沿X方向或Y方向移动的方法适合于大型基板的蒸镀。 | ||||||
| 8 | 掩模盒和传送盒内的光刻掩模以及扫描盒内的掩模的方法 | CN200310123553.8 | 2003-12-26 | CN1512273B | 2010-11-24 | G·-J·希伦斯 |
| 本发明涉及一种盒，它能把掩模(MA)封闭起来。该盒(70)对于至少一个预定波长的辐射至少是部分透明的，而且是按这样的方式构成，使得可以利用该波长的光从掩模(MA)的盒(70)的外面得到象。盒(70)的透明部分可由下列材料中的至少一种制成：玻璃、有机玻璃。 | ||||||
| 9 | 掩模盒 | CN200680044197.2 | 2006-09-27 | CN101321674B | 2010-10-13 | 史蒂文·P·科尔博; 凯文·麦克马伦; 安东尼·M·蒂耶本; 马修·库斯; 克里斯蒂安·安德森; WANG,Huaping; 迈克尔·奇塞夫斯基; 迈克尔·L·约翰逊; 大卫·L·哈尔布迈尔; 约翰·吕斯塔德 |
| 本发明提供了一种提供支撑结构和环境控制装置的容器，该容器例如与容纳在其内的晶圆或掩模的接触最小，且与晶圆或掩模配合以提供防止颗粒沉降在晶圆或掩模表面上的扩散阻挡层。该容器包括基部，基部具有带突出部的平坦抛光表面，晶圆或掩模放置在突出部上。突出部具有例如球形的几何形状，使得与晶圆或掩模的接触最小，并将晶圆或掩模支撑在该基部上方以在其间提供间隙。该间隙将晶圆或掩模与该基部的平坦抛光表面隔开，但是尺寸设计为防止颗粒进入该间隙中，从而防止晶圆或掩模的敏感表面被污损。扩散过滤器提供压力平衡且没有过滤介质。顶盖上的能够移动的掩模销钉提供对掩模的限制。双重容放盒实施方式提供进一步的隔离和保护。 | ||||||
| 10 | 模版输送容器 | CN200510127255.5 | 2005-11-24 | CN1781826B | 2010-06-09 | 松鸟千明; 柳原公一 |
| 本发明提供一种能安全且可靠地支承模版(12)的模版输送容器。该模版输送容器(11)包括：收纳模版(12)的箱(13)、将该箱(13)封闭并将其气密地密封的门(14)和密封件(15)。在箱(13)和门(14)的各内侧面上，具有一对模版保持器(25、45)，各模版保持器(25、45)具有倾斜面部(28)，该倾斜面部(28)接触并弹性地支承模版(12)的周缘的上侧角部(12A)或下侧角部(12B)。在倾斜面部(28)的内侧，具有凹部(31、52)，该凹部使倾斜面部具有缓冲功能，即、在模版(12)的周缘的上侧角部(12A)或下侧角部(12B)接触时，允许上述倾斜面部(28)的挠曲，从而弹性地支承。 | ||||||
| 11 | 光掩模储放装置 | CN200810130539.3 | 2008-07-07 | CN101546115A | 2009-09-30 | 陈信元; 李智富; 许继中; 李星甫 |
| 本发明是有关于一种光掩模储放装置，包括有底座和上盖。此光掩模储放装置包括有聚醚醚酮材料。一锁扣组件用以耦接底座和上盖。光掩模固定组件设置于上盖上，而光掩模支撑组件则设置于底座上，用以避免光掩模震动。此光掩模储放装置设计有通气孔结构使气体以360度的方式被喷入由底座与上盖所构成的光掩模置放空间。在通气孔结构中另有额外设计的粒子过滤器来防止微粒进入光掩模盒内，一密封衬垫设计于底座底板以提升底座与上盖密合时的气密性。本发明所提出的光掩模储放装置，藉以在运送、储放过程中能更有效的保护例如光掩模、基材或晶圆等对象。 | ||||||
| 12 | 光致变色基板容器 | CN200480038896.7 | 2004-10-25 | CN1934014A | 2007-03-21 | 约翰·布恩斯; 马修·A·福勒; 杰佛瑞·J·肯; 马丁·L·佛比斯; 马克·V·斯密斯 |
| 一种包括一个用于指示暴露在不希望的电磁辐射中的光致变色指示器的半导体晶片、基板或掩膜的存储或运输容器(10，24)。本发明包括将光致变色材料结合到用于制造半导体晶片、磁盘或掩膜的存储或运输容器的至少一部分的塑料中。容器包括光致变色材料，其以透明窗户或大部份透明的型态存在。该光致变色材料暴露在选定波长范围的光内可以改变颜色或暗度。 | ||||||
| 13 | 光刻用的标线片转移系统和方法，基片转移盒及转移方法 | CN02802985.2 | 2002-08-12 | CN1261334C | 2006-06-28 | 圣地亚哥·E·德尔普埃尔托; 迈克尔·A·德马尔科; 格伦·M·弗雷德曼; 豪尔赫·S·艾瓦尔蒂; 詹姆斯·A·麦克莱 |
| 本发明涉及一种基片保护和转移系统，以及在光刻工具内转移一个基片由大气压至真空的方法。此系统包括一个或多个基片转移盒(111)。每个盒具有至少一个通气孔和至少一个过滤器。此系统还包括一个端部操作装置(113)，与一个机器人臂(115)匹配，以便能使基片(109)定位在一个盒(111)内，从而形成一个盒-基片装置。此系统还包括一个具有一个底板(711)和一个盖子(713)的箱子(701)。箱子(701)保持一个或多个盒-基片装置。用这种方式提供了一个箱子(盒)基片装置。为了转移基片，基片(109)首先装载进入一个可移动的基片转移盒(111)。随后，盒-基片装置装载进入箱子(701)。此箱子(盒)基片装置随后转移到真空外存储架的一个搁板上。 | ||||||
| 14 | 模版处理系统 | CN200510131478.9 | 2005-12-14 | CN1790168A | 2006-06-21 | 松鸟千明; 柳原公一 |
| 对方向错误地安装的模版输送容器(11)进行自动修正。该模版处理系统具有模版输送容器、输送模版输送容器的输送机构(4、5)、烧制电路图案的曝光设备、保管多个模版(12)的模版储存器(2)。在从模版储存器至曝光设备(1)的烧制位置之间的路径上，备有检测模版输送容器的朝向并将模版输送容器变换为适当朝向的朝向变换机构(81)。朝向变换机构(81)备有：使模版输送容器旋转的旋转驱动部(82)、设置于从模版储存器到曝光设备(1)的烧制位置之间的路径的任意处并检测模版输送容器的方向的方向检测机构(83)、当由方向检测机构(83)检测出的方向偏离180°时控制旋转驱动部(82)修正成标准方向的控制部(84)。 | ||||||
| 15 | 惰性气体置换方法和装置、曝光装置及标线片装置 | CN03102324.X | 2003-01-30 | CN1442756A | 2003-09-17 | 加茂野隆 |
| 本发明的目的是，提供：在采用紫外线光做曝光光，以惰性气体时装置内部进行置换，经投影光学系统将底版图形照射到感光基板上的曝光装置中，用惰性气体有效地置换由底版和薄膜大致围成的空间的技术。为了实现此目的，在用包围部件对要以惰性气体置换的气体置换空间进行围合的构造体上设置多个通气孔，把在构造体的周围形成空间的容器内充满惰性气体，从而使惰性气体侵入气体置换空间内，以惰性气体对气体置换空间内部进行置换。 | ||||||
| 16 | 光罩箱、保管装置及方法、搬送装置及方法、及曝光装置 | CN201680016449.4 | 2016-01-22 | CN107407867A | 2017-11-28 | 吹田文吾; 向井干人 |
| 一种光罩箱，能够保管于保管装置，且包括第一箱部和第二箱部，该第一箱部具有设置有支承光罩的支承部的底面，该第二箱部设置成能够相对于第一箱部装拆，并具有与底面相对配置的上表面，第二箱部具有在保持于保管装置时使用的保持部，保持部包括：第一光通过部，在安装于第一箱部的第二箱部位于被保管于保管装置的第一位置时，光通过第一光通过部；和与第一光通过部不同的第二光通过部，在从第一箱部拆下的第二箱部的保持部位于被保持于保管装置的第二位置时，光通过第二光通过部。 | ||||||
| 17 | 基板盒清洗装置 | CN201380047075.9 | 2013-09-13 | CN104620359B | 2017-07-11 | 坂下俊也 |
| 使从载置台到支承台的移载简易而不会变得复杂，而且，向支承台的定位也能够容易进行。在室(10)内具备清洗槽(40、50)，所述清洗槽(40、50)在将基板盒(C)的各部件分离的状态下容纳并清洗这些部件，设置在室(10)内对基板盒(C)进行支承的支承台(20)，具备搬送机构，该搬送机构在支承台(20)与清洗槽(40、50)之间对基板盒(C)的各部件进行搬送，在室(10)的开口(11)的外部设置载置台(13)，所述载置台(13)能够载置基板盒(C)，设置在载置台(13)与支承台(20)之间移载基板盒(C)的移载机构(30)，移载机构(30)能够移动至前进位置(R1)和后退位置(R2)这两个位置，所述前进位置(R1)是移载机构(30)搭载支承台(20)并前进到载置台(13)侧而进行与载置台(13)之间的基板盒(C)的接收和交付的位置，所述后退位置(R2)是移载机构(30)后退到室(10)内而在与搬送机构之间进行基板盒(C)的交付和接收的位置。 | ||||||
| 18 | 防尘薄膜组件收纳容器 | CN201610022706.7 | 2016-01-14 | CN105807560A | 2016-07-27 | 関原一敏 |
| 提供一种在运送未使用分离片的防尘薄膜组件时掩模粘着层不发生损伤等的防尘薄膜组件收纳容器。本发明的防尘薄膜组件收纳容器是包括收纳未使用保护掩模粘着层(22)的分离片的矩形防尘薄膜组件的防尘薄膜组件(20)收纳容器本体、嵌合于所述防尘薄膜组件收纳容器本体(20)中的密闭的盖体(17)的防尘薄膜组件收纳容器，其特点是，在上述防尘薄膜组件收纳容器本体(11)上设置外侧高起的阶梯状防尘薄膜组件框架支承装置(12)，防尘薄膜组件框架的掩模粘着层未涂布区域(23)支承在阶梯状防尘薄膜组件框架支承装置(12)的低阶梯部上。 | ||||||
| 19 | 气体清洗装置及气体清洗方法 | CN201480043375.4 | 2014-06-02 | CN105474380A | 2016-04-06 | 村田正直; 山路孝 |
| 本发明的气体清洗装置及气体清洗方法，使弹性体气体导入部不因与喷嘴接触被损伤，而且使气体导入部与喷嘴不粘连。从喷嘴向定位容器、同时设置在容器的底部、底面为圆形、中心部有气体导入孔、并且由弹性体构成的气体导入部导入清洗气体。喷嘴具备气体导入部的底面以上的尺寸并且平面状的顶端面、和位于顶端面的中心部并且为容器的气体导入孔以下尺寸的喷嘴孔，顶端面被表面粗糙化或者用低摩擦系数的材料构成，从而顶端面与气体导入部滑动自由。 | ||||||
| 20 | 防尘薄膜组件收纳方法 | CN201210088641.8 | 2012-03-29 | CN102736403A | 2012-10-17 | 永田爱彦 |
| 提供一种在保管·输送·开封时，灰尘发生少的在袋中收纳的产品，特别是提供一种不污染在防尘薄膜组件容器的内部收纳的防尘薄膜组件的防尘薄膜组件收纳方法。该方法的特点是将在防尘薄膜组件的收纳容器放入清洁规格的第一袋，将其开口封闭，接着，将其放入具有防止带电防功能的第二袋，将其开口封闭，进一步放入具有防止带电功能的第三袋，将其封闭。 | ||||||
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