21 |
基板收纳容器 |
CN201080030867.1 |
2010-06-28 |
CN102473664A |
2012-05-23 |
益子秀洋; 三村博; 小川统 |
提供一种能够降低吸湿性及水分透过性、抑制基板的有机污染的便宜的基板收纳容器。具备将多片半导体晶片整齐排列收纳的前开盒型的容器主体(1)、和经由密封用的衬垫拆装自如地嵌合在该容器主体(1)的开口的正面(6)上的盖体(20),将这些容器主体(1)和盖体(20)用含有吸水率为0.1%以下、在80℃下加热24小时而通过动态顶空法测量的总脱气量为15ppm以下的合成树脂的成形材料分别注射成形。使成形材料的合成树脂为从环烯聚合物、液晶聚合物、聚醚醚酮、聚对苯二甲酸丁二醇酯、或聚对苯二甲酸乙二醇酯中选择的至少一种、或者它们的合金树脂。 |
22 |
吸震的基底容器 |
CN200780004398.4 |
2007-02-05 |
CN101378973A |
2009-03-04 |
克里斯汀·安徒生 |
一种基底容器主要包括盖子、底座、锁闭机构、及基底约束系统。基底容器具有角,所述角带有设在角处的法兰。各法兰具有穿孔以加强该容器的吸震能力,由此为该基底提供更好的保护。 |
23 |
掩模盒 |
CN200680044197.2 |
2006-09-27 |
CN101321674A |
2008-12-10 |
史蒂文·P·科尔博; 凯文·麦克马伦; 安东尼·M·蒂耶本; 马修·库斯; 克里斯蒂安·安德森; 王华平; 迈克尔·奇塞夫斯基; 迈克尔·L·约翰逊; 大卫·L·哈尔布迈尔; 约翰·吕斯塔德 |
本发明提供了一种提供支撑结构和环境控制装置的容器,该容器例如与容纳在其内的晶圆或掩模的接触最小,且与晶圆或掩模配合以提供防止颗粒沉降在晶圆或掩模表面上的扩散阻挡层。该容器包括基部,基部具有带突出部的平坦抛光表面,晶圆或掩模放置在突出部上。突出部具有例如球形的几何形状,使得与晶圆或掩模的接触最小,并将晶圆或掩模支撑在该基部上方以在其间提供间隙。该间隙将晶圆或掩模与该基部的平坦抛光表面隔开,但是尺寸设计为防止颗粒进入该间隙中,从而防止晶圆或掩模的敏感表面被污损。扩散过滤器提供压力平衡且没有过滤介质。顶盖上的能够移动的掩模销钉提供对掩模的限制。双重容放盒实施方式提供进一步的隔离和保护。 |
24 |
防护胶膜组件收纳容器 |
CN200610054951.2 |
2006-02-27 |
CN100398413C |
2008-07-02 |
野崎聪; 关原一敏 |
本发明提供收纳防护胶膜组件不会附着异物且可防止防护胶膜组件的污损而维持质量的照相平版印刷用防护胶膜组件收纳容器,其由用以载置防护胶膜组件的容器本体、及覆盖防护胶膜组件且边缘部与容器本体互相嵌合固定的盖体所构成的防护胶膜组件收纳容器,将框架保持销插入设于防护胶膜框架外侧面的孔来保持防护胶膜组件。该容器本体为树脂、该容器本体接合着金属构件、对保持防护胶膜组件的该框架保持销进行定位的定位构件及组装于容器本体的该金属构件是以机械方式进行连结、以及保持防护胶膜组件的该框架保持销与防护胶膜框架的接触部设置着弹性体时为佳,此外,该容器本体及该盖体的材质为树脂且具有表面电阻值为每单位面积1×1012Ω以下的防静电性能更佳。 |
25 |
掩膜容器 |
CN200680014669.X |
2006-02-27 |
CN101166672A |
2008-04-23 |
A·M·蒂本; C·安德森; B·威斯曼 |
本发明揭示一种具有弹簧闩锁的铰链式掩膜包装容器,其用于运输及存储衬底。该容器具有一基座与盖,其通过一可滑动的弹簧闩锁进行紧固,该可滑动的弹簧闩锁通过在盖被按下而碰到基座时沿轨道滑动而接纳该容器的盖,并随后通过滑回至其原始位置而对盖与基座进行紧固。该容器还采用通过重迭模塑工艺制成的活动铰链,从而在一第一模具中形成该铰链,并随后在一第二模具中形成该容器盖及基座,并将其接合至铰链上。 |
26 |
洁净储料机和物品的保管方法 |
CN200710138187.1 |
2007-07-31 |
CN101118375A |
2008-02-06 |
山本真 |
在洁净储料机(2)内的上部设置标线片用旋转架(4)、在下部设置晶圆盒用旋转架(6),并向下供给洁净气体。使晶圆盒运送装置(8)和标线片运送装置(10)在储料机(2)内升降,并通过晶圆盒运送装置(8)连接装载口(18~21)、晶圆盒开闭器(12)以及晶圆盒用旋转架(6)。通过标线片运送装置(10)连接晶圆盒开闭器(12)和标线片用旋转架(4)之间。可紧凑地保管多个标线片和晶圆盒,特别是可将标线片洁净地保管。 |
27 |
用于存贮和输送光掩模的设备和方法 |
CN200710004452.7 |
2007-01-23 |
CN101008791A |
2007-08-01 |
埃米丽·伊丽沙白·加拉切尔; 路易斯·M.·金特 |
一种存贮和输送光掩模的设备和方法。光掩模存贮容器具有流体密封壁、用于将光掩模移动到容器中和从容器中移出的开口和用于存贮流体的可密封入口。该方法包括通过开口将光掩模放置在存贮容器中,通过入口将存贮流体导入到容器中,封闭容器开口并密封存贮流体入口,其中存贮流体相对于光掩模基本上是惰性的。该方法还包括打开容器开口,并在从存贮容器中去除光掩模的同时,使用含乙醇气体接触光掩模表面,以便从光掩模表面上去除存贮流体。 |
28 |
惰性气体置换方法和装置、曝光装置及标线片装置 |
CN03102324.X |
2003-01-30 |
CN1235091C |
2006-01-04 |
加茂野隆 |
本发明的目的是,提供:在采用紫外线光做曝光光,以惰性气体时装置内部进行置换,经投影光学系统将底版图形照射到感光基板上的曝光装置中,用惰性气体有效地置换由底版和薄膜大致围成的空间的技术。为了实现此目的,在用包围部件对要以惰性气体置换的气体置换空间进行围合的构造体上设置多个通气孔,把在构造体的周围形成空间的容器内充满惰性气体,从而使惰性气体侵入气体置换空间内,以惰性气体对气体置换空间内部进行置换。 |
29 |
曝光装置以及器件制造方法 |
CN01818004.3 |
2001-09-06 |
CN1592948A |
2005-03-09 |
中原兼文 |
在从SMIF模板舱(28)的搬入搬出口(22A、22B)到掩模台(RST)的掩模传送路径中途设置有可以存放多个掩模而且可以进出的缓冲装置(116)。而且,掩模传送系统(32)在上述搬出搬入口(22A、22B)、上述缓冲装置(116)和上述掩模台RST三者之间传送掩模。通过传送系统(32)顺次把容纳在SMIF模板舱(28)内的搬入装置内的掩模搬入缓冲装置内,能够最大限度地容纳掩模。因此,装置内能够时常保持曝光所需要的充分数量的掩模。而且,在这种情况下,由于传送系统在搬出搬入口、缓冲装置和掩模台三者之间传送掩模,因此不需要通过操作者的手工操作交换掩模容器的操作。 |
30 |
掩模盒和传送盒内的光刻掩模以及扫描盒内的掩模的方法 |
CN200310123553.8 |
2003-12-26 |
CN1512273A |
2004-07-14 |
G·-J·希伦斯 |
本发明涉及一种盒,它能把掩模(MA)封闭起来。该盒(70)对于至少一个预定波长的辐射至少是部分透明的,而且是按这样的方式构成,使得可以利用该波长的光从掩模(MA)的盒(70)的外面得到象。盒(70)的透明部分可由下列材料中的至少一种制成:玻璃、有机玻璃。 |
31 |
传送贮藏箱中掩模或基片的方法和所用设备及其制造方法 |
CN03110781.8 |
2003-02-27 |
CN1474233A |
2004-02-11 |
G·-J·赫伦斯; B·L·W·M·范德文; R·G·M·兰斯伯根; E·L·哈姆 |
一种用来将贮藏箱中的一个或多个基片或掩模传送到一个设备或装置的方法,反之亦然,所述设备或装置用来处理、加工或使用所述基片或掩模,所述贮藏箱包括一个含有一个可打开的盖部件的盖子。该方法包括将所述贮藏箱提供到所述设备或装置的封闭的保护性环境的壁的一个可打开的壁部上,使得所述贮藏箱的所述可打开的壁部与所述保护性环境的所述可打开的壁部重叠,所述保护性环境适合于填充一种惰性气体或被排空;打开所述贮藏箱的所述可打开的盖部和所述保护性环境的所述可打开的壁部,借此,所述贮藏箱的所述盖子形成所述保护性环境的所述壁的一部分,所述贮藏箱的内部成为所述保护性环境的一部分;将至少一个所述基片或掩模从所述贮藏箱的内部空间传送到所述保护性环境的所述壁的内部空间,反之亦然。 |
32 |
用来照射紫外线的掩膜架 |
CN03103033.5 |
2003-01-28 |
CN1439916A |
2003-09-03 |
卞溶相; 朴武烈; 丁圣守 |
本发明中公开了一种照射紫外线的掩膜架。该掩膜架包括:一下部,它有一框架和支撑一掩膜的掩膜支撑部件,其中该掩膜支撑部件在该框架内并且具有多个第一连接部分;和一上部,它有与第一连接部分对齐的多个第二连接部分。 |
33 |
用于制造表膜的设备和方法以及表膜 |
CN201480066420.8 |
2014-11-19 |
CN105793775A |
2016-07-20 |
M·M·M·詹森; J·D·阿里亚斯埃斯皮纳扎; J·P·H·德库斯特 |
一种用于制造表膜的设备,设备包括:用于受应力的膜层的施加应力的组件;以及用于支撑衬底的衬底支撑件,施加应力的组件和衬底制作能够相对移动以便使得当膜层被施加应力时衬底与膜层接触。 |
34 |
掩模、容器和制造装置 |
CN201110099753.9 |
2004-04-12 |
CN102174688B |
2015-05-27 |
山崎舜平; 坂田淳一郎; 桑原秀明 |
掩模、容器和制造装置通过对大面积基板进行选择性的蒸镀,本发明提供了掩模精度高的大型掩模。本发明将掩模本体固定在固定位置处,该固定位置是设置在通过掩模框架的热膨胀中心的线上的。还有,在本发明中,使掩模本体和基板固定,通过使蒸镀源沿X方向或Y方向移动来进行蒸镀。这种使蒸镀源沿X方向或Y方向移动的方法适合于大型基板的蒸镀。 |
35 |
光罩盒子外壳材料的固定方法 |
CN201310524340.X |
2013-10-29 |
CN104570591A |
2015-04-29 |
沈波; 吴根兴 |
本发明提出了一种光罩盒子外壳材料的固定方法,包括:提供一光罩盒子,所述光罩盒子设有外壳材料;将一隔离片固定在所述外壳材料的下表面;其中,所述隔离片为L型薄片状;将隔离片固定在外壳材料的下表面,可以避免外壳材料与设备机台发生碰撞,从而可以彻底避免外壳材料因碰撞而产生缺口,提高光罩盒子的使用寿命,降低生产成本,提高生产效率。 |
36 |
防尘薄膜组件收纳容器的收纳密闭方法 |
CN201110125924.0 |
2011-05-16 |
CN102275641B |
2014-02-19 |
永田爱彦 |
提供一种气密性收纳封存防尘薄膜组件盒于袋中的收纳方法。该方法保护防尘薄膜组件盒不受外部灰尘的污染。本方法不需要额外的薄膜袋,不需要薄膜袋的改良。本发明对薄膜袋就象折纸一样折叠,最后,用粘结材料固定即可。简单的说,对袋的开口部分进行数次紧密折叠即可。 |
37 |
防尘薄膜组件收纳容器的收纳密闭方法 |
CN201110125924.0 |
2011-05-16 |
CN102275641A |
2011-12-14 |
永田爱彦 |
提供一种气密性收纳封存防尘薄膜组件盒于袋中的收纳方法。该方法保护防尘薄膜组件盒不受外部灰尘的污染。本方法不需要额外的薄膜袋,不需要薄膜袋的改良。本发明对薄膜袋就象折纸一样折叠,最后,用粘结材料固定即可。简单的说,对袋的开口部分进行数次紧密折叠即可。 |
38 |
用于净化光罩存储器的系统 |
CN200780030581.1 |
2007-06-19 |
CN101506087B |
2011-09-21 |
奥列格·P·基什科维奇; 格扎维埃·加巴尔; 威廉·M·古德温; 詹姆斯·罗; 特罗伊·斯科金斯 |
本发明提供了用于保护光罩、明确地说是用于使得在存储和使用过程中形成在光罩上的薄雾最小化的方法、系统和部件。通过在具有光罩上降低的湿度等级的存储壳体中基本上连续地维持净化,或者通过在不进行净化时,将光罩暂时存储在容器中,位于干燥器或吸气器的附近,能够消除、最小化或充分地控制薄雾的形成。此外,在基本上持续地净化光罩的过程中,可以将容器内的过滤器介质设置成“重新填充”,在当前不净化容器时,可易于在光罩容器中保持减小的合乎需要的湿度等级。另外,本发明的系统可包括与净化系统相关联的离子发生器。例如,离子发生器可与净化系统的多个净化管线中的至少一个相关联。本发明的系统还可包括连接到净化系统的净化气体源,其包括CDA或超CDA源。存储壳体可包括多个搁板,每个搁板包括多个光罩存储接收器。 |
39 |
掩模、容器和制造装置 |
CN201110099753.9 |
2004-04-12 |
CN102174688A |
2011-09-07 |
山崎舜平; 坂田淳一郎; 桑原秀明 |
掩模、容器和制造装置通过对大面积基板进行选择性的蒸镀,本发明提供了掩模精度高的大型掩模。本发明将掩模本体固定在固定位置处,该固定位置是设置在通过掩模框架的热膨胀中心的线上的。还有,在本发明中,使掩模本体和基板固定,通过使蒸镀源沿X方向或Y方向移动来进行蒸镀。这种使蒸镀源沿X方向或Y方向移动的方法适合于大型基板的蒸镀。 |
40 |
洁净储料机和物品的保管方法 |
CN200710138187.1 |
2007-07-31 |
CN101118375B |
2011-06-22 |
山本真 |
在洁净储料机(2)内的上部设置标线片用旋转架(4)、在下部设置晶圆盒用旋转架(6),并向下供给洁净气体。使晶圆盒运送装置(8)和标线片运送装置(10)在储料机(2)内升降,并通过晶圆盒运送装置(8)连接装载口(18~21)、晶圆盒开闭器(12)以及晶圆盒用旋转架(6)。通过标线片运送装置(10)连接晶圆盒开闭器(12)和标线片用旋转架(4)之间。可紧凑地保管多个标线片和晶圆盒,特别是可将标线片洁净地保管。 |