| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 41 | 大型光罩保护膜收纳容器 | CN200580047404.5 | 2005-01-27 | CN101111802B | 2011-02-02 | 栗山芳真; 脇元一郎; 船渡彰 |
| 本发明提供一种大型光罩保护膜用收纳容器，其由收纳光罩保护膜的托盘和覆盖托盘的盖构成，所述光罩保护膜的面积为1000cm2以上，该盖和/或托盘构成为包含具有蜂窝结构的材料。 | ||||||
| 42 | 模版输送容器 | CN200510131481.0 | 2005-12-14 | CN100564196C | 2009-12-02 | 松鸟千明; 柳原公一 |
| 即使在模版输送容器(11)的方向不同的情况下，仍可将其安装于模版储存器2中。模版输送容器(11)备有：舱(12)，在一端具有开口，并具有收纳模版的内部；门(14)，通过覆盖而封闭上述开口；密封件(15)，在通过上述门(14)封闭上述舱(13)时，将内部气密地密封。以方向相差180°的方式设置有2组运动销槽(61)，所述2组运动销槽(61)形成于上述门(14)的外侧表面上，用于定位并安装于装置侧。在上述舱(13)的外侧表面中与上述运动销槽(61)相对应的位置上，配置有用于承接并保持上述运动销槽(61)的承接部(22)，所述承接部(22)配置成从任意方向均可嵌合上述两组运动销槽(61)。 | ||||||
| 43 | 用于净化光罩存储器的系统 | CN200780030581.1 | 2007-06-19 | CN101506087A | 2009-08-12 | 奥列格·P·基什科维奇; 格扎维埃·加巴尔; 威廉·M·古德温; 詹姆斯·罗; 特罗伊·斯科金斯 |
| 本发明提供了用于保护光罩、明确地说是用于使得在存储和使用过程中形成在光罩上的薄雾最小化的方法、系统和部件。通过在具有光罩上降低的湿度等级的存储壳体中基本上连续地维持净化，或者通过在不进行净化时，将光罩暂时存储在容器中，位于干燥器或吸气器的附近，能够消除、最小化或充分地控制薄雾的形成。此外，在基本上持续地净化光罩的过程中，可以将容器内的过滤器介质设置成“重新填充”，在当前不净化容器时，可易于在光罩容器中保持减小的合乎需要的湿度等级。另外，本发明的系统可包括与净化系统相关联的离子发生器。例如，离子发生器可与净化系统的多个净化管线中的至少一个相关联。本发明的系统还可包括连接到净化系统的净化气体源，其包括CDA或超CDA源。存储壳体可包括多个搁板，每个搁板包括多个光罩存储接收器。 | ||||||
| 44 | 防止衬底表面上烟雾生长的装置和方法 | CN200780005167.5 | 2007-02-12 | CN101395697A | 2009-03-25 | E·M·弗赖伊; L·E·弗里萨 |
| 公开了防止衬底表面上烟雾生长的装置和方法。该装置包括可经操作以储存衬底的容器以及连接至该容器的气体源。为了防止该衬底表面上烟雾生长，该气体源可经操作以向该容器内排放气体。 | ||||||
| 45 | 带隔离系统的光罩盒 | CN200680013975.1 | 2006-02-27 | CN101166681A | 2008-04-23 | B·格雷格森; D·哈伯梅尔; S·森纳; B·怀斯曼; A·M·蒂本; J·斯特里克 |
| 本发明提供一种光罩容器，其配备有辅助容器，所述辅助容器容纳光罩并容纳于主容器中。所述辅助容器通过震动及振动隔离部件固持于主容器内，从而使所述辅助容器在主容器内具有多个运动自由度。所述光罩紧固于所述辅助容器内部，从而使从光罩容器传递至光罩的震动及振动得到实质衰减。 | ||||||
| 46 | 大型光罩保护膜收纳容器 | CN200580047404.5 | 2005-01-27 | CN101111802A | 2008-01-23 | 栗山芳真; 脇元一郎; 船渡彰 |
| 本发明提供一种大型光罩保护膜用收纳容器，其由收纳光罩保护膜的托盘和覆盖托盘的盖构成，所述光罩保护膜的面积为1000cm2以上，该盖和/或托盘构成为包含具有蜂窝结构的材料。 | ||||||
| 47 | 大型护罩的收纳方法 | CN200480044532.X | 2004-12-02 | CN101073033A | 2007-11-14 | 栗山芳真; 脇元一郎 |
| 本发明提供一种大型护罩的收纳方法，该方法包括将面积在1000cm2以上的大型护罩收纳在由托盘和盖子构成的箱体中的过程，所述大型护罩包括框架、粘合在该框架的上缘面上的护罩膜、涂在该框架的下缘面的粘结材料、以及用于保护该粘结材料而粘附于该框架的下面的保护膜，所述收纳方法的特征在于，所述大型护罩的保护膜的外周缘的一部分或全部向外侧突出并形成余边，并且，利用胶带将该余边固定在所述托盘上，由此将大型护罩收纳在箱体内。 | ||||||
| 48 | 用于保存和使用光掩模的装置以及使用该装置的方法 | CN200610170124.X | 2006-12-22 | CN1996142A | 2007-07-11 | A·邦尼斯; M·乔德胡里; K·埃杰斯; A·弗兰根; N·卡利斯; W·克勒; C·霍克; M·勒宁; M·罗斯纳; R·孔杰; C·诺尔舍 |
| 本发明涉及一种用于保存至少一个用于光刻投影的光掩模(5)的装置以及在一种曝光设备中使用该装置的方法。设置了一种吹洗机构(44)，它通过一个容器的一个底板活门(34)与一个光掩模(5)相连接。在该光掩模(5)的范围内的杂质借助于吹洗用气体予以去除，用于防止在该光掩模(5)上形成晶体。为了能够高效地去除已有的晶体，借助于一个微波源(80)或红外线源(90)进行激励。本发明还涉及在一种曝光设备中使用该装置的方法。 | ||||||
| 49 | 减少光罩沉淀缺陷的方法 | CN200610064834.4 | 2006-03-14 | CN1983035A | 2007-06-20 | 戴逸明 |
| 本发明是有关于一种减少光罩沉淀缺陷的方法，在一半导体生产制程中，有一运送光罩的容器，而光罩包括一由绝缘材料制成的基底，且此基底表面沉积了一金属层。本发明揭露一种隔离和移除环境污染物的方法，此方法包括以惰性气体充填此容器，借以清除其中的环境污染物，例如以容器的入口供净化用的惰性气体通入，而容器的出口供容器内的不纯物排出，本发明提高了产品良率、光罩产能以及光罩使用寿命，减少了光罩经过清洁后的关键尺寸损失，以及减少了光罩重工率的不良影响。 | ||||||
| 50 | 防护胶膜组件收纳容器 | CN200610054951.2 | 2006-02-27 | CN1836988A | 2006-09-27 | 野崎聪; 关原一敏 |
| 本发明提供收纳防护胶膜组件不会附着异物且可防止防护胶膜组件的污损而维持质量的照相平版印刷用防护胶膜组件收纳容器，其由用以载置防护胶膜组件的容器本体、及覆盖防护胶膜组件且边缘部与容器本体互相嵌合固定的盖体所构成的防护胶膜组件收纳容器，将框架保持销插入设于防护胶膜框架外侧面的孔来保持防护胶膜组件。该容器本体为树脂、该容器本体接合着金属构件、对保持防护胶膜组件的该框架保持销进行定位的定位构件及组装于容器本体的该金属构件是以机械方式进行连结、以及保持防护胶膜组件的该框架保持销与防护胶膜框架的接触部设置着弹性体时为佳，此外，该容器本体及该盖体的材质为树脂且具有表面电阻值为1×1012Ω/□以下的防静电性能更佳。 | ||||||
| 51 | 模版输送容器 | CN200510131481.0 | 2005-12-14 | CN1792742A | 2006-06-28 | 松鸟千明; 柳原公一 |
| 即使在模版输送容器(11)的方向不同的情况下，仍可将其安装于模版储存器2中。模版输送容器(11)备有：舱(12)，在一端具有开口，并具有收纳模版的内部；门(14)，通过覆盖而封闭上述开口；密封件(15)，在通过上述门(14)封闭上述舱(13)时，将内部气密地密封。以方向相差180°的方式设置有2组运动销槽(61)，所述2组运动销槽(61)形成于上述门(14)的外侧表面上，用于定位并安装于装置侧。在上述舱(13)的外侧表面中与上述运动销槽(61)相对应的位置上，配置有用于承接并保持上述运动销槽(61)的承接部(22)，所述承接部(22)配置成从任意方向均可嵌合上述两组运动销槽(61)。 | ||||||
| 52 | 模版输送容器 | CN200510127255.5 | 2005-11-24 | CN1781826A | 2006-06-07 | 松鸟千明; 柳原公一 |
| 本发明提供一种能安全且可靠地支承模版(12)的模版输送容器。该模版输送容器(11)包括：收纳模版(12)的箱(13)、将该箱(13)封闭并将其气密地密封的门(14)和密封件(15)。在箱(13)和门(14)的各内侧面上，具有一对模版保持器(25、45)，各模版保持器(25、45)具有倾斜面部(28)，该倾斜面部(28)接触并弹性地支承模版(12)的周缘的上侧角部(12A)或下侧角部(12B)。在倾斜面部(28)的内侧，具有凹部(31、52)，该凹部使倾斜面部具有缓冲功能，即、在模版(12)的周缘的上侧角部(12A)或下侧角部(12B)接触时，允许上述倾斜面部(28)的挠曲，从而弹性地支承。 | ||||||
| 53 | 掩模、容器和制造装置 | CN200410034321.X | 2004-04-12 | CN1621555A | 2005-06-01 | 山崎舜平; 坂田淳一郎; 桑原秀明 |
| 通过对大面积基板进行选择性的蒸镀，本发明提供了掩模精度高的大型掩模。本发明将掩模本体固定在固定位置处，该固定位置是设置在通过掩模框架的热膨胀中心的线上的。还有，在本发明中，使掩模本体和基板固定，通过使蒸镀源沿X方向或Y方向移动来进行蒸镀。这种使蒸镀源沿X方向或Y方向移动的方法适合于大型基板的蒸镀。 | ||||||
| 54 | 十字标记保持方法、十字标记保持装置以及曝光装置 | CN03142811.8 | 2003-06-11 | CN1474236A | 2004-02-11 | 大久保至晴; 菊地秀和 |
| 一种十字标记保持装置，是将市售的十字标记保持装置(十字标记容器)改良成EB曝光的十字标记所使用的容器。十字标记保持装置(1)具有容器底座(3)与容器上盖(5)。从下方支撑圆形十字标记基板(R)外周缘上约略相等分离的三个点(支撑点)的支撑部材(19)是被固定在容器底座(3)上。软质且非粘着性的押压部材(31)是设置在上盖(5)，用弹性恢复力从十字标记基板(R)的支撑点的正上方押住支撑点，利用从上下方三个地方，支撑与SEMI规格晶片相同形状的EB曝光用十字标记的外周缘，十字标记可以被稳定地支撑。 | ||||||
| 55 | 光刻标线片的保护和转移 | CN02802985.2 | 2002-08-12 | CN1473129A | 2004-02-04 | 圣地亚哥·E·德尔普埃尔托; 迈克尔·A·德马尔科; 格伦·M·弗雷德曼; 豪尔赫·S·艾瓦尔蒂; 詹姆斯·A·麦克莱 |
| 本发明涉及一种基片保护和转移系统，以及在光刻工具内转移一个基片由大气压至真空的方法。此系统包括一个或多个基片转移盒(111)。每个盒具有至少一个通气孔和至少一个过滤器。此系统还包括一个端部操作装置(113)，与一个机器人臂(115)匹配，以便能使基片(109)定位在一个盒(111)内，从而形成一个盒－基片装置。此系统还包括一个具有一个底板(711)和一个盖子(713)的箱子(701)。箱子(701)保持一个或多个盒－基片装置。用这种方式提供了一个箱子－盒－基片装置。为了转移基片，基片(109)首先装载进入一个可移动的基片转移盒(111)。随后，盒－基片装置装载进入箱子(701)。此箱子－盒－基片装置随后转移到真空外存储架的一个搁板上。 | ||||||
| 56 | SUBSTRATE TRANSFER APPARATUS, SUBSTRATE TRANSFER METHOD AND EXPOSURE APPARATUS | EP05795225.1 | 2005-10-21 | EP1806767B1 | 2018-07-04 | Hirayanagi, Noriyuki, |
| In a substrate transfer apparatus, an inner surface of a protective cover is covered with a cover protection means when the substrate is being used. Therefore, the inner surface of the protective cover can be prevented from being contaminated when the substrate is being used. Further, the protective cover is grounded at a standby position. Therefore, the protective cover is prevented from being electrostatically charged and adhesion of particles on the protective cover is reduced. In the substrate transfer method, the protective cover is permitted to wait in a condition where the inner surface of the protective cover is being covered when the substrate is being used. Therefore, the inner surface of the protective cover can be prevented from being contaminated. In an exposure apparatus, since the substrate transfer apparatus is used, a product can be obtained at a high yield by using the less contaminated substrate. | ||||||
| 57 | A CONTAINER FOR STORING A PELLICLE FOR LITHOGRAPHY | EP15197003.5 | 2015-11-30 | EP3043207A1 | 2016-07-13 | Toru, Shirasaki |
There is provided a pellicle container for storing a pellicle (2) used in lithography, having a tray and a cover between which the pellicle is stored, and the tray has a pellicle mount section (6) on which the pellicle is used to be mounted, but the tray of this container further has a plane plate (7), preferably a quartz plane plate, having a flatness of 10 micrometers or smaller provided on top of the pellicle mount so as to stabilize the flatness of the pellicle, especially its agglutinant layer (4).
|
||||||
| 58 | System for purging reticle storage | EP12000081.5 | 2007-06-19 | EP2453310B1 | 2015-12-09 | Kishkovich, Oleg; Gabarre, Xavier; Goodwin, William; Lo, James; Scoggins, Troy |
| 59 | RETICLE POD WITH COVER TO BASEPLATE ALIGNMENT SYSTEM | EP13847167.7 | 2013-10-17 | EP2909110A1 | 2015-08-26 | LYSTAD, John; KOLBOW, Steven P. |
| An alignment system for aligning the cover and base of an inner pod of a reticle carrier. The cover and base can each be provided with hard planar surface seal zones on the bottom surface and the top surface, respectively. The cover of the inner pod may be provided with a through hole or a blind hole into which an alignment pin is disposed. The base is provided with a guide recess to receive the distal end of the alignment pin. The alignment pin operates to limit contact surface area between the cover and the base during that is in sliding contact, thus inhibiting particulate generation. Low particulate-generating materials, such as stainless steel or polyamide-imide, can also be utilized to further reduce particulate generation. Furthermore, the cover and base can each be unitary without need for fastening components thereto, thereby eliminating clamped surfaces that can entrap and subsequently shed particulates. | ||||||
| 60 | SYSTEM FOR PURGING RETICLE STORAGE | EP07809746 | 2007-06-19 | EP2035320A4 | 2010-07-28 | KISHKOVICH OLEG P; GABARRE XAVIER; GOODWIN WILLIAM M; LO JAMES; SCOGGINS TROY |
| The present invention provides a method, system, and components for protecting reticles and specifically for minimizing haze formation on reticles during storage and use. By substantially continually maintaining a purge in a storage housing (54.1) having a reduced humidity level on reticles or by temporarily storing the reticle in a container in proximity to a desiccant or getter (54.8) when not being purged, haze formation can be eliminated, minimized, or sufficiently controlled. Moreover, a filter media in the container may be positioned to be "recharged" during the substantially continual purging of the reticle, a reduced desireable humidity level can be readily maintained in the reticle container when the container is not currently being purged. Additionally, the system of the invention can comprise an ionizer associated with the purge system (50,52). For example, the ionizer can be associated with at least one of the plurality of purge lines (54.9) of the purge system. The system of the invention can also include a purge gas source connected to the purge system that comprises a source of CDA or extra CDA. The storage housing can comprise a plurality of shelves (80) that each include a plurality of reticle storage receptacles (58). | ||||||
QQ群二维码
意见反馈
意见反馈