子分类：
| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
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| 121 | 제2형 당뇨병 치료용 GPR40 작용제로서의 치환된 벤조티오페닐 유도체 | KR1020177012143 | 2015-10-08 | KR1020170063937A | 2017-06-08 | 구기-홍; 플레이어마크알.; 양쉬-밍; 장유에-미에; 휴앙휴이 |
| GPR40 수용체의조절에의해영향을받는장애를치료하기위한화합물, 조성물및 방법이개시된다. 이러한화합물은화학식 (I)으로나타낸다:상기식에서, R, R,R, R, R, W 및 A는본 명세서및 청구범위에정의한바와같다. | ||||||
| 122 | 유기 전계 발광 화합물, 및 이를 포함하는 유기 전계 발광 재료 및 유기 전계 발광 소자 | KR1020150135889 | 2015-09-24 | KR1020160037107A | 2016-04-05 | 문두현; 양정은; 강희룡; 임영묵; 전지송; 안희춘; 홍진리; 이수현; 김빛나리; 이태진 |
| 본발명은유기전계발광화합물, 및이를포함하는유기전계발광재료및 유기전계발광소자에관한것이다. 본발명에따른유기전계발광화합물은색순도, 용해도및 열안정성이우수할뿐만아니라, 본발명에따른유기전계발광화합물또는이를포함하는유기전계발광재료를사용함으로써구동전압이낮고, 전류효율및 전력효율이우수하고구동수명이현저히개선된유기전계발광소자를제조할수 있다. | ||||||
| 123 | 신규한 화합물, 이를 포함하는 전극 및 이를 포함하는 태양전지 | KR1020140094701 | 2014-07-25 | KR1020160013411A | 2016-02-04 | 오승훈; 정혜진; 유민진; 진예진; 강다예; 백규철; 박진주; 오재원 |
| 본발명은신규한화합물및 이를포함하는태양전지에관한것으로, 본발명에따른화합물을포함하는태양전지는광전변환효율을구현할수 있고, 높은내구성을통해수명이증가될수 있다. | ||||||
| 124 | 패턴 형성 방법, 그것에 사용된 화합물, 감활성광선성 또는 감방사선성 수지 조성물, 레지스트 필름, 전자 디바이스의 제조 방법, 및 전자 디바이스 | KR1020157020625 | 2014-01-24 | KR1020150103195A | 2015-09-09 | 야마구치슈헤이; 토미가타카미츠; 요시노후미히로; 후루타니하지메; 시라카와미치히로; 후지타미츠히로 |
| 본 발명은 (A) 산의 작용에 의해 분해되어 극성기를 생성할 수 있는 기를 갖는 수지, (C1) 활성광선 또는 방사선의 조사에 의해 제 1 산성 관능기를 발생할 수 있는 기 및 활성광선 또는 방사선의 조사에 의해 제 1 산성 관능기와는 다른 제 2 산성 관능기를 발생할 수 있는 기를 함유하는 화합물, 및 (C2) 활성광선 또는 방사선의 조사에 의해 특정 일반식으로 나타내어지는 구조를 발생할 수 있는 기로 이루어진 군으로부터 선택된 2개 이상의 기를 함유하는 적어도 하나의 화합물을 포함하는 감활성광선성 또는 감방사선성 수지 조성물을 제공한다. | ||||||
| 125 | 포토레지스트 조성물 | KR1020110012291 | 2011-02-11 | KR1020110095152A | 2011-08-24 | 마스야마다쓰로; 야마구치사토시 |
| PURPOSE: A photoresist composition and a producing method of a photoresist pattern using thereof are provided to secure the improved pattern profile of a resist pattern including the line width roughness and the depth of focus. CONSTITUTION: A photoresist composition contains the following: sulfonium salt having a negative ion marked with chemical formula IA; an acrylic resin insoluble to an alkali water solution, capable of being soluble to the alkali water solution by the action of acid by including an acid-liability group; and a photoacid generator. | ||||||
| 126 | 신규한 Ｍ3 무스카린성 아세틸콜린 수용체 길항제 | KR1020067013263 | 2004-12-03 | KR1020060123414A | 2006-12-01 | 부쉬-페터젠,야콥; 진,지안; 푸,웨이; 팔로비치,마이클,알. |
| Muscarinic Acetylcholine receptor antagonists and methods of using them are provided. | ||||||
| 127 | 안드로겐 의존성 질환 치료용 17β-하이드록시스테로이드데하이드로게나제 유형 3 억제제 | KR1020047003247 | 2002-09-05 | KR1020040031042A | 2004-04-09 | 구찌티모시제이.; 파루치카밀; 말람스알랜케이.; 리베라조셀린디.; 돌로날드제이.; 지리자발라브한비요르엠.; 파춰요나단; 리우이-충; 삭세나아닐케이. |
| 본원에는 유형 3 17β-하이드록시스테로이드 데하이드로게나제의 억제제로서 유용한, 다음 화학식 I의 화합물, 이의 프로드럭, 또는 상기 화합물 또는 프로드럭의 약제학적으로 허용되는 염이 기재되어 있다: 화학식 I 또한, 상기 화합물을 함유하는 약제학적 조성물, 및 안드로겐 의존성 질환을 치료 또는 예방하기 위한 이의 용도가 기재되어 있다. | ||||||
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