| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
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| 261 | 플랫 패널 디스플레이용 유리 기판 및 그 제조 방법 | KR1020127031263 | 2012-06-29 | KR1020130014062A | 2013-02-06 | 고야마,아끼히로; 아미,사또시; 이찌까와,마나부 |
| 본 발명은, 저점 특성 온도가 높고, 또한 직접 통전 가열에 의한 용해에 있어서 용해조 용손의 문제의 발생을 회피하면서 제조가 가능한 유리로 이루어지는, p-Si·TFT 플랫 패널 디스플레이용 유리 기판과 그 제조 방법을 제공한다. 본 발명의 유리 기판은, SiO 2 52～78질량%, Al 2 O 3 3～25질량%, B 2 O 3 3～15질량%, RO(단, RO는 MgO, CaO, SrO 및 BaO의 합량) 3～20질량%, R 2 O(단, R 2 O는 Li 2 O, Na 2 O 및 K 2 O의 합량) 0.01～0.8질량%, Sb 2 O 3 0～0.3질량%를 함유하고, As 2 O 3 는 실질적으로 함유하지 않고, 질량비 CaO/RO는 0.65 이상이고, 질량비 (SiO 2 +Al 2 O 3 )/B 2 O 3 는 7～30의 범위이며, 또한 질량비 (SiO 2 +Al 2 O 3 )/RO는 5 이상이다. 본 발명의 유리 기판의 제조 방법은, 상기 유리 조성이 되도록 조합한 유리 원료를 적어도 직접 통전 가열을 이용해서 용해해서 용융 유리를 얻는 용해 공정과, 상기 용융 유리를 평판 형상 유리로 성형하는 성형 공정과, 상기 평판 형상 유리를 서냉하는 서냉 공정을 갖는다. | ||||||
| 262 | 근적외선 필터용 유리조성물 및 이를 이용한 근적외선 필터용 유리의 제조방법 | KR1020100021783 | 2010-03-11 | KR1020110102658A | 2011-09-19 | 황종희; 김진호; 임태영; 이해진; 이종화; 김영호 |
| 본 발명은 근적외선 필터용 유리조성물 및 이를 이용한 근적외선 필터용 유리의 제조방법에 관한 것으로서, 본 발명에 의한 근적외선 필터용 유리조성물은, 산화리튬(Li
2 O), 산화나트륨(Na
2 O) 또는 산화칼륨(K
2 O) 중 적어도 2개의 알칼리금속산화물 10몰% 내지 40몰%을 포함하며, 상기 산화나트륨/(상기 산화리튬+상기 산화나트륨) 또는 상기 산화칼륨/(상기 산화나트륨+상기 산화칼륨)은 0.25몰% 내지 0.75몰%인 것을 특징으로 한다.
본 발명에 의하면, 종래 내수성이 약한 인산계 모유리의 흡습성 문제를 개선하기 위하여, 근적외선 흡수 유리의 주요 성분으로 사용되고 있는 인산(P 2 O 5 )의 함량을 50몰% 이하로 제한하면서도 두가지 알카리의 함량비를 특정범위로 조절함으로써 혼합 알칼리 효과를 통해 알카리 함량이 증가하더라도 화학적 내구성 등의 특성저하가 없으면서 유리의 용융온도 상승을 막을 수 있는 장점이 있다. |
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| 263 | 돌출 테두리부가 구비된 비구면 광학렌즈의 제조방법 및 그 제조장치 | KR1020170101007 | 2017-08-09 | KR101827741B1 | 2018-02-09 | 최상관 |
| 본발명은돌출테두리부가구비된비구면광학렌즈의제조방법및 그제조장치에관한것으로비구면광학렌즈의성형과정에서돌출테두리부의외측으로발생되는스크랩의발생을차단함과아울러, 성형과정에서렌즈부및 돌출테두리부의설계치수대로정확하게생산되도록하여후가공처리과정을없앨수 있도록함으로써생산성을높일수 있도록하기위하여, 로드형태의유리봉(2)을수직으로설치하여, 그유리봉(2)의상,하단부및 측부에빛을조사하여유리봉(2)의표면및 조직을검사하는원재료검사단계(S1); 하부측에수평형태의돌출테두리부(4)가구비된비구면광학렌즈(6)를제조하기위해상기검사된유리봉(2)을 1차예열로(21a)에투입하여 300∼350℃로 2∼5분동안 1차예열하고, 상기 1차예열된유리봉(2)을 2차예열로(21b)에투입하여 600∼650℃로 2∼3분동안 2차예열한다음, 상기 2차예열된유리봉(2)을 3차가열로(21c)에투입하여 850∼950℃로 2∼5분동안 3차가열한후, 상기 3차가열로(21c)에서가열된유리봉(2)의단부하부측에스테인리스스틸재의초극박판이내면에코팅형성된운반용기(27)를위치시키고, 상기가열된유리봉(2)의단부측을일정한길이로절단하여비구면광학렌즈(6)를성형하기위한유리덩어리를운반용기(27)에수용및 운반하는단계(S2); 상기운반용기(27)에의해운반되는유리덩어리를스테인리스스틸재의초극박판으로된 홈부(32)가형성되고, 상기홈부(32)의바닥면에칼날삽입홈(34)이형성된받침대(30) 상에부어넣은다음, 1000∼1100℃로가열하면서, 비구면광학렌즈(6)의돌출테두리부(4) 외측에스크랩발생을차단하도록하단부에돌출테두리부(4)의외측직경과동일한크기로칼날부(42)가형성되어상기받침대(30)의칼날삽입홈(34) 내에칼날부(42)가삽입되면서성형되는돌출테두리부(4)의외측부를절단하는상부금형(40)을받침대(30)의상부에서수직승하강시키면서바닥측에돌출테두리부(4)를갖는비구면광학렌즈(6)를성형제조하는단계(S3); 상기성형제조된비구면광학렌즈(6)를냉각로(50) 내의벨트(56)를통해수평이동시키면서 1차냉각로(51)에투입하여 100∼150℃로 5∼10분동안 1차냉각하고, 상기 1차냉각된비구면광학렌즈(6)를 2차냉각로(52)에투입하여 50∼75℃로 5∼10분동안 2차냉각한다음, 상기 2차냉각된비구면광학렌즈(6)를 3차냉각로(53)에투입하여 25∼30℃로 10∼20분동안 3차냉각하여비구면광학렌즈(6)를온도를내려가며다단냉각하는단계(S4); 상기냉각로(50)를통해냉각된비구면광학렌즈(6)의돌출테두리부(4) 바닥면을표면연마처리하는단계(S5); 상기표면연마처리된비구면광학렌즈를세정제로세척한다음, 초음파세척기에투입하여 60∼90분동안초음파세척하는단계(S6); 상기초음파세척된비구면광학렌즈(6)를배광검사기를통해배광검사후, 외관검사를거쳐, 포장출고하는단계(S7);를포함하여이루어지며, 상기받침대(30)의홈부(32) 표면에는스테인리스스틸재질로된 0.1∼0.15㎜의초극박판(35)이탈착가능한구조로부착되어지되, 상기홈부(32)의바닥면에밀착되는바닥부(39)와, 상기바닥부(39)의테두리측에수직형성되어상기홈부(32)의수직테두리턱(31)에밀착되는테두리턱부(36)와, 상기바닥부(39) 상에함몰형성되는칼날삽입홈(34)을감싸는삽입돌부(37)로형성되어, 상기삽입돌부(37)가홈부(32)의바닥면에형성되는결합홈(91)에삽입고정되는것을특징으로한다. | ||||||
| 264 | 유리 기판 | KR1020177015490 | 2016-03-03 | KR1020170125796A | 2017-11-15 | 하야시마사히로 |
| 본발명의기술적과제는생산성(특히, 내실투성)이우수함과아울러, HF계약액에대한에칭레이트가빠르고, 게다가변형점이높은무알칼리유리를창안함으로써, 유기기판의제조비용을저렴화하고, 또한디스플레이패널의제조공정에있어서, 박형화의효과를높이면서유리기판의열수축을저감하는것이다. 본발명의유리기판은상기과제를해결하기위해서, 유리조성으로서몰%로, SiO65~75%, AlO11~15%, BO0~5%, MgO 0~5%, CaO 0~10%, SrO 0~5%, BaO 0~6%, PO0.01~5%를함유하고, 몰비 (MgO+CaO+SrO+BaO)/AlO가 0.7~1.5인것을특징으로한다. | ||||||
| 265 | 유리 제품을 열처리하는 방법 | KR1020177021197 | 2015-12-30 | KR1020170102911A | 2017-09-12 | 엘리손,아담제임스; 키젠스키,티모시제임스; 모리스,스테파니린; 샤우트,로버트안토니; 티트제,스티븐앨빈 |
| 하나의구체예에따르면, 유리제품을열처리하는방법은 5분이상의유지시간동안유리제품의어닐링온도 ± 15℃와동일한처리온도에서유리제품을유지하는단계를포함할수 있다. 그후, 상기유리제품은처리온도로부터유리제품의변형점을거쳐 0℃/min 미만및 -20℃/min 초과의제1 냉각속도 CR로냉각될수 있고, 냉각후에상기유리제품의밀도는 0.003 g/cc 이상이다. 상기유리제품은이어서제2 냉각속도 CR에서변형점아래로부터냉각되며, 여기서 |CR| > |CR|이다. | ||||||
| 266 | 유리 원료 조립체의 제조 방법, 용융 유리의 제조 방법, 및 유리 물품의 제조 방법 | KR1020177005338 | 2015-10-21 | KR1020170068433A | 2017-06-19 | 구니사야스히로; 시노하라노부히로; 미야지마다츠야 |
| 붕산을사용하지않아도, 공정을복잡화시키지않고조립체를제조할수 있는방법을제공한다. 실리카를 45 ∼ 75 질량%, 수산화알루미늄을 3 ∼ 30 질량% 및알칼리금속수산화물을 0.4 ∼ 4.6 질량% 를함유하는유리원료조성물 (A) 를물의존재하에서조립하는공정을갖는, 유리원료조립체의제조방법. | ||||||
| 267 | 개선된 총 피치 안정성을 갖는 유리 | KR1020157019784 | 2013-12-19 | KR101632546B1 | 2016-06-21 | 앨런,더글라스클리핀저; 보우덴,브레들리프레데릭; 엘리슨,아담제임스; 킥젠스키,티모씨제임스; 포투작,마셀 |
| 활성매트릭스액정디스플레이 (AMLCDs) 및활성매트릭스유기발광다이오드디스플레이 (AMOLEDs)와같은, 평면패널디스플레이장치에서기판으로서사용하는데바람직한물리적및 화학적특성을나타내는, 알칼리-없는, 보로알루미노실리케이트유리는여기에기재된다. 이의관점중 어떤것에따르면, 상기유리들은우수한압축및 응력완화특성을보유한다. | ||||||
| 268 | 합성 석영 유리의 열 처리 방법 | KR1020150022024 | 2015-02-13 | KR1020150099433A | 2015-08-31 | 야기,히사시; 다케우치,마사키; 하라다,다이지츠 |
| 본 발명은 OH기 농도의 최댓값과 최솟값의 차(ΔOH)가 350ppm 미만인 합성 석영 유리를
1150 내지 1060℃에서 일정 시간 유지하는 제1 열 처리 공정과, 제2 열 처리 온도까지 일정 속도로 냉각하는 냉각 공정과, 1030 내지 950℃에서 일정 시간 유지하는 제2 열 처리 공정과, -25 내지 -85℃/시간의 속도로 서냉하는 공정 을 포함하는 합성 석영 유리의 열 처리 방법이며, 상기 제2 열 처리 공정 시간이 5시간 이상인 합성 석영 유리의 열 처리 방법을 제공한다. 본 발명에 따르면, 2단계의 열 처리를 행함으로써, ArF 엑시머 레이저용 광학 부재로서 레이저의 조사를 받는 유효 범위 내에서 적합한 저복굴절률의 합성 석영 유리를 얻을 수 있다. |
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| 269 | 플랫 패널 디스플레이용 유리 기판 | KR1020127031520 | 2012-06-29 | KR101523832B1 | 2015-05-28 | 고야마,아끼히로; 아미,사또시; 이찌까와,마나부 |
| 본발명은, 저점특성온도가높고, 또한직접통전가열에의한용해에있어서용해조용손의문제의발생을회피하면서제조가가능한유리로이루어지는, p-Si·TFT 플랫패널디스플레이용유리기판과그 제조방법을제공한다. 본발명의유리기판은, SiO52∼78질량%, AlO3∼25질량%, BO3∼15질량%, RO(단, RO는 MgO, CaO, SrO 및 BaO의합량) 3∼20질량%, RO(단, RO는 LiO, NaO 및 KO의합량) 0.01∼0.8질량%, SbO0∼0.3질량%를함유하고, AsO는실질적으로함유하지않고, 질량비 CaO/RO는 0.65 이상이고, 질량비 (SiO+AlO)/BO는 7∼30의범위이며, 또한질량비 (SiO+AlO)/RO는 5 이상이다. 본발명의유리기판의제조방법은, 상기유리조성이되도록조합한유리원료를적어도직접통전가열을이용해서용해해서용융유리를얻는용해공정과, 상기용융유리를평판형상유리로성형하는성형공정과, 상기평판형상유리를서냉하는서냉공정을갖는다. | ||||||
| 270 | 국소적으로 증가된 투과율을 갖는 유리 세라믹 조리판, 및 이 유리 세라믹 조리판의 제조 방법 | KR1020140044712 | 2014-04-15 | KR1020140123917A | 2014-10-23 | 바이스에펠린; 호페베른트; 슈피어마르틴; 자일러다니엘라 |
| 본 발명은 부피 착색된 모놀리식 유리 세라믹 조리판에 관한 것이며, 상기 유리 세라믹 조리판은 제 1 영역(15)을 포함하고, 이 제 1 영역 내부에서 유리 세라믹의 착색은 인접한 제 2 영역(16)과 구별되며, 그럼으로써 제 1 영역(15)의 흡수 계수는 인접한 제 2 영역(16)의 흡수 계수보다 더 작고, 그에 따라 제 1 영역(15)의 가시 스펙트럼 범위에서의 통합 광 투과율은 인접한 제 2 영역(16)의 통합 광 투과율보다 더 높으며, 제 1 영역(15)의 유리 세라믹 내 광 산란은, 제 2 영역(16)의 유리 세라믹 내 광 산란에 비해, 기껏해야 20퍼센트 포인트만큼, 바람직하게는 기껏해야 5퍼센트 포인트만큼 증가된다.
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| 271 | 평판 디스플레이용 유리 기판 및 그의 제조 방법 | KR1020127021416 | 2012-06-28 | KR101409534B1 | 2014-06-19 | 고야마,아키히로; 아미,사토시; 이치카와,마나부 |
| 본 발명의 평판 디스플레이용 유리 기판은, 몰％ 표시로 SiO
2 를 55 내지 80 ％, Al
2 O
3 을 3 내지 20 ％, B
2 O
3 을 3 내지 15 ％, RO(MgO, CaO, SrO, BaO의 합계량)를 3 내지 25 ％ 함유하고, SiO
2 , Al
2 O
3 및 B
2 O
3 의 몰％로 표시되는 함유율이 (SiO
2 +Al
2 O
3 )/(B
2 O
3 )=7.5 내지 17의 관계를 만족시키고, 변형점이 665 ℃ 이상이고, 실투 온도가 1250 ℃ 이하인 유리로 구성되고, 열 수축률이 75 ppm 이하이다. 단, 상기 열 수축률이란, 승강온 속도 10 ℃/분, 550 ℃에서 2 시간 동안 유지하는 열 처리가 실시된 후의 유리 기판의 수축량을 이용하여, 이하의 수학식으로 구해지는 값이다.
열 수축률(ppm)={열 처리 후의 유리 기판의 수축량/열 처리 전의 유리 기판의 길이}×10 6 |
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| 272 | 플랫 패널 디스플레이용 유리 기판 | KR1020127031520 | 2012-06-29 | KR1020140018085A | 2014-02-12 | 고야마,아끼히로; 아미,사또시; 이찌까와,마나부 |
| 본 발명은, 저점 특성 온도가 높고, 또한 직접 통전 가열에 의한 용해에 있어서 용해조 용손의 문제의 발생을 회피하면서 제조가 가능한 유리로 이루어지는, p-Si·TFT 플랫 패널 디스플레이용 유리 기판과 그 제조 방법을 제공한다. 본 발명의 유리 기판은, SiO 2 52∼78질량%, Al 2 O 3 3∼25질량%, B 2 O 3 3∼15질량%, RO(단, RO는 MgO, CaO, SrO 및 BaO의 합량) 3∼20질량%, R 2 O(단, R 2 O는 Li 2 O, Na 2 O 및 K 2 O의 합량) 0.01∼0.8질량%, Sb 2 O 3 0∼0.3질량%를 함유하고, As 2 O 3 는 실질적으로 함유하지 않고, 질량비 CaO/RO는 0.65 이상이고, 질량비 (SiO 2 +Al 2 O 3 )/B 2 O 3 는 7∼30의 범위이며, 또한 질량비 (SiO 2 +Al 2 O 3 )/RO는 5 이상이다. 본 발명의 유리 기판의 제조 방법은, 상기 유리 조성이 되도록 조합한 유리 원료를 적어도 직접 통전 가열을 이용해서 용해해서 용융 유리를 얻는 용해 공정과, 상기 용융 유리를 평판 형상 유리로 성형하는 성형 공정과, 상기 평판 형상 유리를 서냉하는 서냉 공정을 갖는다. | ||||||
| 273 | ＴｉＯ₂-ＳｉＯ₂ 유리체의 제조 방법 및 열처리 방법, ＴｉＯ₂-ＳｉＯ₂ 유리체, ＥＵＶＬ용 광학 기재 | KR1020117027468 | 2010-05-11 | KR1020120030373A | 2012-03-28 | 고이께아끼오; 미쯔모리다까히로; 이와하시야스또미; 오가와도모노리 |
| 본 발명은 투명 유리화 후의 TiO
2 -SiO
2 유리체의 서냉점을 T
1 (℃)로 할 때, 투명 유리화 후의 유리체를 T
1 +400℃ 이상의 온도에서 20시간 이상 가열하는 공정과, 상기 가열하는 공정 후의 유리체를 T
1 (℃)부터 T
1 -400(℃)까지 평균 강온 속도 10℃/hr 이하로 냉각하는 공정을 포함하는, TiO
2 -SiO
2 유리체의 제조 방법에 관한 것이다.
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| 274 | 박판글라스 강화 열처리장치 | KR1020090126163 | 2009-12-17 | KR100967799B1 | 2010-07-05 | 김한곤 |
| PURPOSE: A heat treatment apparatus for tempering a thin glass is provided to induce stable and smooth flow in a procedure of automatically performing heat treatment, to reduce a moving time between processes, and to improve the productivity. CONSTITUTION: A heat treatment apparatus for tempering a thin glass comprises a first driving unit(50) and a second driving unit(80). The first driving unit is installed to make a transfer cart(40) move along an upper rail(52) which is parallelly installed on the upper side of a preheating furnace(10), a main body channel(20), and a cooling channel. The second driving unit includes a rack(61) for accepting the thin glass within the transfer cart. The second driving unit which is connected to a rack elevating unit, a muffle, and the lower side of the preheating furnace, the main body channel, and the cooling channel. | ||||||
| 275 | 고화상도를 갖는 강화안전거울의 제조 방법 | KR1020070041197 | 2007-04-27 | KR100845249B1 | 2008-07-09 | 임태영; 황종희; 김창열; 박연민; 이정우 |
| A method for manufacturing a tempered mirror is provided to produce the tempered mirror with high quality image which is improved in strength, does not form sharp fragments of glass when the mirror is broken, and hardly causes image distortion on the mirror surface due to low tortuosity. A method for manufacturing a tempered mirror includes the steps of: heat-treating a plate glass; spraying a coolant gas having a temperature of -50 to -10 °C on the heat-treated plate glass at a pressure of 200-400 Pa for 10-60 seconds to quench the plate glass; cooling the cooled plate glass to ambient temperature slowly; and applying a reflection film onto the slow-cooled plate glass. The coolant gas is liquid nitrogen or dry ice. Further, a temperature difference of a surface and an inside of the plate glass is 150 to 200 °C. | ||||||
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