| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
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| 201 | METHOD AND DEVICE FOR PREVENTIVE TREATMENT OF AN OPTICAL SURFACE DESIGNED TO BE EXPOSED TO A LASER FLUX | US12161796 | 2007-01-26 | US20090188899A1 | 2009-07-30 | Philippe Bouchut; Jean-Guillaume Coutard; Annelise During |
| A device for preventive treatment of an optical surface designed to be exposed to a laser flow including a thermal excitation source for providing a localized thermal annealing of a site of the optical surface) by means of a beam applied to the site. The device further includes a measuring member for measuring, in real time said during said localized thermal annealing, a quantity representing the temperature of the site of the optical surface) and at least one control member for increasing the linear power density of the beam applied to the site by the excitation source and, when the quantity reaches a predetermined set point, for gradually decreasing the linear power density. | ||||||
| 202 | Method for producing microchannels having circular cross-sections in glass | US09851231 | 2001-05-07 | US20020174686A1 | 2002-11-28 | Peter Krulevitch; Julie K. Hamilton; Harold D. Ackler |
| A process for micromachining capillaries was having circular cross-sections in glass substrates. Microchannels are isotropically etched into a flat glass substrate, resulting in a semi-circular half-channel (or a rectangle with rounded corners). A second flat glass substrate is then fusion bonded to the first substrate, producing sealed microchannels with rounded bottom corners and a flat top surface having sharp corners. The process is completed by annealing at a sufficiently high temperature (approximately 750 C.) to allow surface tension forces and diffusional effects to lower the over-all energy of the microchannels by transforming the cross-section to a circular shape. The process can be used to form microchannels with circular cross-sections by etching channels into a glass substrate, then anodically bonding to a silicon wafer and annealing. The process will work with other materials such as polymers. | ||||||
| 203 | Method for forming a grooved, coated decorative glass sheet | US537237 | 1995-09-29 | US5669951A | 1997-09-23 | Keith L. Eichhorn |
| This invention teaches a method for forming a tempered, coated, grooved and/or beveled decorative glass sheet. The decorative glass sheet includes a coating on a surface thereof and a groove or bevel formed in the surface. The coating is substantially registered with at least on peripheral edge of the groove or bevel such that the coating is not disposed within the groove or bevel. The decorative glass sheet is formed by applying a coating, preferably by screen printing, to a surface of the glass panel. The coating is fired so as to set the coating into the glass panel. A groove and/or bevel is formed in the coated surface. The glass panel is then tempered. Preferably, the step of firing the coating is followed by the step of cooling the glass panel at a rate sufficient to temper the glass panel and, more preferably, at a rate sufficient to induce heat strengthening. | ||||||
| 204 | Apparatus for treating glass | US45598142 | 1942-08-25 | US2382187A | 1945-08-14 | ALFRED VANG |
| 205 | METHOD TO INCREASE THE STRENGTH OF A FORM BODY OF A LITHIUM SILICATE GLASS CERAMIC | PCT/EP2016061414 | 2016-05-20 | WO2016188897A8 | 2017-06-15 | VOELKL LOTHAR; FECHER STEFAN |
| The invention relates to a method to increase the strength of a form body of lithium silicate glass ceramic, which after it has a desired end geometry and after the application of a material which influences its surface to form a coating, is subject to a heat treatment. To create a surface compressive stress through the replacement of lithium ions by alkali ions of greater diameter at least that region not covered by the application layer is covered by a melt or paste consisting of or containing a salt of an alkali metal with ions of greater diameter and the form body is in contact with the melt or paste for a period of time t at a temperature T and the melt or paste is subsequently removed from the form body. | ||||||
| 206 | METHOD AND DEVICE FOR PREVENTIVE TREATMENT OF AN OPTICAL SURFACE DESIGNED TO BE EXPOSED TO A LASER FLOW | PCT/FR2007000155 | 2007-01-26 | WO2007085744A2 | 2007-08-02 | BOUCHUT PHILIPPE; COUTARD JEAN-GUILLAUME; DURING ANNELISE |
| The invention concerns a device for preventive treatment of an optical surface (4) designed to be exposed to a laser flow, said device comprising a thermal excitation source (1) for providing a localized thermal annealing of a site of said surface to be treated (4) by means of a beam applied to said cite. The invention is characterized in that it further comprises a measuring member (5) for measuring, in real time said during said localized thermal annealing, a quantity representing the temperature of the site of the optical surface to be treated (4) and at least one control member (2, 3, 6) for increasing the linear power density of the beam applied to the site by the excitation source (1) and, when said quantity reaches a predetermined set point (NC), for decreasing gradually said linear power density. | ||||||
| 207 | 局所的に透過率を高めたガラスセラミック調理プレート、およびそのようなガラスセラミック調理プレートの製造方法 | JP2014083386 | 2014-04-15 | JP6388488B2 | 2018-09-12 | エヴェリン ワイス; バーンド ホペ; マーティン スピア; ダニエラ セイラ |
| 208 | フラットパネルディスプレイ用ガラス基板及びその製造方法 | JP2015115385 | 2015-06-08 | JP6375265B2 | 2018-08-15 | 小山 昭浩; 阿美 諭; 市川 学 |
| 209 | ケイ酸リチウムガラスセラミック製の有形物体の強度を増大させるための方法 | JP2017560975 | 2016-05-20 | JP2018518442A | 2018-07-12 | プロエプスター、ミヒャエル; ボルマン、マルクス |
| 本発明は、ケイ酸リチウムガラスセラミック製の医療用有形物体を製造するための方法に関する。この医療用有形物体の強度を増大させるために、より大きな直径のアルカリ金属イオンによるリチウムイオンの置きかえによって、ケイ酸リチウムガラス製の有形物体またはケイ酸リチウムガラスを含有する有形物体に表面圧縮応力を発生させることが提案されている。この目的のために、有形物体を、アルカリ金属を含有するペーストによって被覆する。 【選択図】 図1 |
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| 210 | ケイ酸リチウムガラスセラミック製の有形物体の強度を増大させる方法 | JP2017560970 | 2016-05-20 | JP2018516908A | 2018-06-28 | フォルクル、ローター; フェチャー、ステファン |
| 本発明は、ケイ酸リチウムガラスセラミック製の有形物体の強度を増大させる方法であって、ケイ酸リチウムガラスセラミック製の有形物体は、所望の最終的な幾何形状を有した後、その表面に影響してコーティングを形成する材料を施用したら、熱処理に供される方法関する。直径のより大きなアルカリイオンによるリチウムイオンの置きかえによって表面圧縮応力を発生させるために、施用層によって被覆されていない少なくともその領域を、直径のより大きなイオンを伴うアルカリ金属の塩からなるまたは該アルカリ金属の塩を含有する溶融物またはペーストによって被覆し、有形物体を、時間tにわたって温度Tで溶融物またはペーストと接触させておき、続いて、溶融物またはペーストを有形物体から除去する。 | ||||||
| 211 | 超低膨張チタニア・シリカガラス | JP2017542089 | 2016-02-10 | JP2018508453A | 2018-03-29 | アンナーマライ,セジアン; デュラン,カーロス アルバート; ハーディナ,ケネス エドワード; ロッシュ,ウィリアム ロジャーズ |
| 改質チタニア・シリカガラスの徐冷処理およびその徐冷処理により製造されたガラス。この徐冷処理は、ガラス中の改質剤濃度の不均一性により生じる仮想温度における不均一性の均等化を促進する等温保持を含む。この徐冷処理は、その等温保持後にガラスをより高い温度に加熱し、数時間に亘りガラスをその温度に保持する各工程も含むことがある。この徐冷処理により製造されたガラスは、改質剤の空間的不均一濃度の存在を含む、CTE、CTE勾配、および仮想温度の高い空間的均一性を示す。 | ||||||
| 212 | トータルピッチ安定性が改善されているガラス | JP2015198516 | 2015-10-06 | JP6152576B2 | 2017-06-28 | クリッピンガー アラン ダグラス; フレデリック ボーデン ブラッドリー; ジェームズ エリソン アダム; ジェームズ キチェンスキー ティモシー; ポツザック マーセル |
| 213 | フラットパネルディスプレイ用ガラス基板及びその製造方法 | JP2016216072 | 2016-11-04 | JP2017071548A | 2017-04-13 | 小山 昭浩; 阿美 諭; 市川 学 |
| 【課題】低粘特性温度が高く、直接通電加熱熔解での熔解槽熔損の発生を回避できる、p−Si・TFTフラットパネルディスプレイ用ガラス基板とその製造方法の提供。 【解決手段】SiO252〜78質量%、Al2O33〜25質量%、B2O33〜15質量%、RO(但し、ROはMgO、CaO、SrO及びBaOの合量)3〜20質量%、R2O(但し、R2OはLi2O、Na2O及びK2Oの合量)0.01〜0.8質量%及びSb2O30〜0.3質量%を含有し、As2O3は実質的に含有せず、質量比CaO/ROは0.65以上であり、質量比(SiO2+Al2O3)/B2O3は7〜30の範囲であり、かつ質量比(SiO2+Al2O3)/ROは5以上であるガラス基板。上記ガラス組成となる原料を直接通電加熱の熔解工程、熔融ガラスを平板状ガラスに成形する成形工程、平板状ガラスを徐冷する徐冷工程と、を有する、基板の製造方法。 【選択図】なし |
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| 214 | 合成石英ガラスの熱処理方法 | JP2012186392 | 2012-08-27 | JP5912999B2 | 2016-04-27 | 原田 茂雄 |
| 215 | フラットパネルディスプレイ用ガラス基板及びその製造方法 | JP2015115385 | 2015-06-08 | JP2015231942A | 2015-12-24 | 小山 昭浩; 阿美 諭; 市川 学 |
| 【課題】低粘特性温度が高く、かつ直接通電加熱による熔解において熔解槽熔損の問題の発生を回避しつつ製造が可能であるガラスからなる、p−Si・TFTフラットパネルディスプレイ用ガラス基板とその製造方法を提供する。 【解決手段】ガラス基板は、SiO2:52〜78質量%、Al2O3:3〜25質量%、B2O3:3〜15質量%、RO(ROはMgO、CaO、SrO及びBaOの合量):3〜20質量%、R2O(R2OはLi2O、Na2O及びK2Oの合量):0.01〜0.8質量%、Sb2O3:0〜0.3質量%、を含有し、As2O3は実質的に含有せず、質量比CaO/ROは0.65以上であり、質量比(SiO2+Al2O3)/B2O3は7〜30の範囲であり、かつ質量比(SiO2+Al2O3)/ROは5以上であるガラス基板。 【選択図】なし |
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| 216 | フラットパネルディスプレイ用ガラス基板およびその製造方法 | JP2012529839 | 2012-06-28 | JPWO2013005401A1 | 2015-02-23 | 小山 昭浩; 昭浩 小山; 諭 阿美; 学 市川 |
| 本発明のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板は、モル%表示で、SiO2を55〜80%、Al2O3を3〜20%、B2O3を3〜15%、RO(MgO、CaO、SrO、BaOの合量)を3〜25%を含有し、SiO2、Al2O3およびB2O3のモル%で表す含有率が(SiO2+Al2O3)/(B2O3)=7.5〜17の関係を満たし、歪点が665℃以上であり、かつ、失透温度が1250℃以下であるガラスから構成され、熱収縮率が75ppm以下である。ただし、前記熱収縮率とは、昇降温速度が10℃/min、550℃で2時間保持の熱処理が施された後のガラス基板の収縮量を用いて、次式にて求められる値である。熱収縮率(ppm)={熱処理後のガラス基板の収縮量/熱処理前のガラス基板の長さ}?106 | ||||||
| 217 | Glass substrate and a method of manufacturing the same for the flat panel display | JP2012530015 | 2012-06-29 | JP5172045B2 | 2013-03-27 | 昭浩 小山; 諭 阿美; 学 市川 |
| 218 | ＴｉＯ２−ＳｉＯ２ガラス体の製造方法及び熱処理方法、ＴｉＯ２−ＳｉＯ２ガラス体、ＥＵＶＬ用光学基材 | JP2011514387 | 2010-05-11 | JPWO2010134449A1 | 2012-11-12 | 小池 章夫; 章夫 小池; 喬宏 三森; 康臣 岩橋; 朝敬 小川 |
| 本発明は、透明ガラス化後のTiO2−SiO2ガラス体の徐冷点をT1(℃)とするとき、透明ガラス化後のガラス体をT1+400℃以上の温度で20時間以上加熱する工程と、該加熱する工程後のガラス体をT1(℃)からT1−400(℃)まで平均降温速度10℃/hr以下で冷却する工程と、を含む、TiO2−SiO2ガラス体の製造方法に関する。 | ||||||
| 219 | Float glass plate for display substrate and its manufacturing method | JP2003286261 | 2003-08-04 | JP2005055669A | 2005-03-03 | MARUO HIROSHI; ASAI YOSHIO |
| PROBLEM TO BE SOLVED: To solve the problem that the technology of suppressing the yellow coloring occurring near an Ag electrode on the surface of a display substrate as represented by a PDP has not yet been developed. SOLUTION: The float glass for the display substrate is ≤0.3 wt% in the difference between the average content of Na 2O up to 3 μm from the front layer of the glass plate on the side facing the silver electrode and the content of Na 2O existing in a glass body, in which 0.05 to 0.15 wt% Fe 2O 3 exists in the glass body of 11 to 15 wt% Na 2O+K 2O and Na 2O/K 2O is 0.1 to 0.7. The method for manufacturing the float glass for the display substrate comprises specifying the concentration of the gaseous hydrogen in a molten metal bath in a plate making process to 8 to 13 mol%, the dew point temperature of the atmosphere to ≤-35°C and the rate of spraying sulfurous acid gas in an annealing vessel in an annealing process to 0.2 to 1 m 3/h. COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI | ||||||
| 220 | Glass substrate and heat treatment | JP27902993 | 1993-10-12 | JPH07109573A | 1995-04-25 | FUKADA TAKESHI; SAKAMA MITSUNORI; TERAMOTO SATOSHI |
| PURPOSE:To provide a satisfactory substrate treating means or method in a process for subjecting a glass substrate to heat treatment, e.g. by film formation, crystal growth or oxidation especially at a temp. close to the strain point of the substrate or above and to obtain a glass substrate having satisfactory heat radiating property even when a heat generating element is formed. CONSTITUTION:An aluminum nitride film is formed on the surface of a glass substrate having 550-690 deg.C strain point. This aluminum nitride film functions as a heat sink so as to prevent local concentration of heat generated from an element (e.g. TFT) formed on the surface of the glass substrate. | ||||||
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