子分类：
- G03F7/0041： ..{在曝光处提供蚀刻剂(G03F7/075优先,光解卤化物入G03F7/0295)}
- G03F7/0042： ..{含有其他类不包括的无机的或有机金属的光敏化合物,例如:无机抗蚀剂(G03F7/075优先)}
- G03F7/0045： ..{含有其他类不包括的有机非高分子光敏化合物的,例如:分解抑制剂}
- G03F7/0046： ..{含有全氟化合物的,例如:用于干式平版印刷术(G03F7/0048优先)}
- G03F7/0047： ..{特征在于获得金属或陶瓷图案的添加剂,例如:通过烘烤}
- G03F7/0048： ..{特征在于容易扩散的溶剂或试剂,例如:表面活性剂}
- G03F7/008： ..叠氮化合物(G03F7/075优先)
- G03F7/016： ..重氮盐或化合物(G03F7/075优先)
- G03F7/022： ..苯醌重氮(G03F7/075优先)
- G03F7/025： ..具有碳—碳三键的非高分子的可光聚合的化合物,例如,乙炔化合物(G03F7/075优先)
- G03F7/027： ..具有碳—碳双键的非高分子的可光聚合的化合物,例如,乙烯化合物(G03F7/075优先)
- G03F7/038： ..高分子化合物被制备成不溶解的或非均匀可湿的(G03F7/075优先;高分子叠氮化合物入G03F7/012;高分子重氮化合物入G03F7/021)
- G03F7/039： ..可光降解的高分子化合物,例如,正电子抗蚀剂(G03F7/075优先;高分子苯醌重氮化合物入G03F7/023)
- G03F7/04： ..铬酸盐类(G03F7/075优先)
- G03F7/06： ..银盐类(G03F7/075优先)
- G03F7/075： ..含硅的化合物
- G03F7/085： ..以加速黏结的非高分子添加剂为特征的感光剂组分(G03F7/075优先)
- G03F7/09： ..以细部结构为特征的,例如,基片层、辅助层(印刷版的基片层一般入B41N)
| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
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| 81 | 用于形成图案的组合物及使用该组合物的面内印刷法 | CN200710106134.1 | 2007-05-24 | CN101078880B | 2010-11-03 | 金珍郁 |
| 一种用于形成图案的组合物包括：按重量计大约1％到大约10％的液态预聚物；按重量计大约40％到大约60％的具有亲水基的丙烯酸酯；按重量计大约10％到大约20％的粘度调节剂；按重量计大约1％到大约5％的光引发剂；和添加剂。 | ||||||
| 82 | 正型感光性树脂组合物、以及使用该组合物形成固化膜的方法 | CN200880108838.5 | 2008-09-26 | CN101809503A | 2010-08-18 | 泷田敏 |
| 本发明提供一种具有优异的感光度、残膜率和储藏稳定性的正型感光性树脂组合物、利用该正型感光性树脂组合物形成固化膜的方法、以及具有优异的耐热性、粘附性、透光度等的固化膜，其中所述正型感光性树脂组合物包含：含有能够进行酸性解离基团的解离以形成羧基的特定丙烯酸系构成单元的树脂，该树脂不溶于碱或难溶于碱，并且当所述酸解离性基团发生解离时该树脂变得可溶于碱；含有具有能够与羧基反应而形成共价键的官能团的构成单元的树脂；以及在受到光化射线或放射线的辐射时能够产生酸的化合物。 | ||||||
| 83 | 抗蚀剂用聚合物、抗蚀剂用聚合物的制造方法、抗蚀剂组合物、及形成有图案的基板的制造方法 | CN200580021757.8 | 2005-09-06 | CN1976962B | 2010-06-23 | 百濑阳; 上田昭史 |
| 本发明提供一种抗蚀剂用聚合物(Y′)，其含有聚合物(Y)，聚合物(Y)含有具有内酯骨架的结构单元(A)、具有酸脱离性基团的结构单元(B)，具有亲水性基团的结构单元(C)和具有下述式(1)所示结构的结构单元(E)，其中，结构单元(E)的含量在抗蚀剂用聚合物(Y′)的结构单元总数中占0.3摩尔％以上。可以作为DUV准分子激光平版印刷或电子射线平版印刷等中的抗蚀剂树脂使用。[化1]式(1)中，L为碳原子数1～20的直链、支链或环状的2价烃基，该2价烃基也可以含有取代基和/或杂原子。R11为碳原子数1～20的直链、支链或环状的g价烃基，该g价烃基也可以含有取代基和/或杂原子。g表示1～24的整数。 | ||||||
| 84 | 等离子体显示器 | CN200510084954.6 | 1996-06-12 | CN100474491C | 2009-04-01 | 井口雄一朗; 正木孝树; 岩永庆二 |
| 本发明提供一种等离子体显示器或等离子地址液晶显示器，其中包括在玻璃基板上形成的隔壁层，所述隔壁层包括平均折射率为1.5～1.7的无机成分。 | ||||||
| 85 | 用于形成图案的组合物及使用该组合物的面内印刷法 | CN200710106134.1 | 2007-05-24 | CN101078880A | 2007-11-28 | 金珍郁 |
| 一种用于形成图案的组合物包括：按重量计大约1％到大约10％的液态预聚物；按重量计大约40％到大约60％的具有亲水基的丙烯酸酯；按重量计大约10％到大约20％的粘度调节剂；按重量计大约1％到大约5％的光引发剂；和添加剂。 | ||||||
| 86 | 感光性膏状物、等离子体显示器及其制造方法 | CN03145058.X | 1996-06-12 | CN1515962A | 2004-07-28 | 井口雄一朗; 正木孝树; 岩永庆二 |
| 本发明提出一种感光性膏状物，其中包括无机微粒和含有感光性化合物的有机成分，其中无机微粒的平均折射率N1和有机成分的平均折射率N2满足－0.1≤N1－N2≤0.1，该感光性膏状物能够在等离子体显示器或等离子体地址液晶显示器的基板上形成隔壁层且无机微粒含有60重量％以上玻璃微粒。本发明还提出等离子体显示器或等离子体地址液晶显示器及其制造方法，其中通过用感光性膏状物在玻璃基板上涂布、曝光、显影和焙烧形成隔壁层，该隔壁层中包括平均折射率为1.5～1.7的无机成分。 | ||||||
| 87 | 感光性膏状物和等离子体显示器的制造方法 | CN96190607.3 | 1996-06-12 | CN1119701C | 2003-08-27 | 井口雄一朗; 正木孝树; 岩永庆二 |
| 提供一种使高纵横比且高精度的图案加工成为可能的感光性膏状物和使用了该膏状物的等离子体显示器，所用感光性膏状物的特征在于它是以无机微粒和含有感光性化合物的有机成分为必需成分的感光性膏状物，其中有机成分的平均折射率与无机微粒的平均折射率之差在0.1以下。 | ||||||
| 88 | 采用极性溶剂中的离子交换树脂降低金属离子含量的方法 | CN95197179.4 | 1995-12-21 | CN1082677C | 2002-04-10 | M·D·拉曼; D·P·奥宾; D·N·坎纳; D·麦肯泽 |
| 本发明提供采用经过处理的阴离子与阳离子交换树脂生产其中金属离子含量极低的水不溶性、含水碱溶性成膜可溶可熔酚醛树脂的方法。同时还提供用于由该可溶可熔酚醛树脂生产其中金属离子含量极低的光刻胶组合物的方法和用于采用该光刻胶组合物生产半导体装置的方法。 | ||||||
| 89 | 一种在表面上印刻分子级图形的方法 | CN98812815.2 | 1998-11-06 | CN1285932A | 2001-02-28 | 约翰·波拉尼; 邓肯·罗杰斯 |
| 公开了一种在反应性固体表面无掩膜形成分子或原子图形的方法。使用了一种吸附剂分子的分子级图形替代传统的肉眼可见的“掩膜”。分子在表面吸附形成的图形是由该表面的结构,吸附剂的化学性能和在表面的吸附剂覆盖率所决定。通过引发吸附剂分子和固体表面之间的定位化学反应,在表面形成图形,然后依据图形对表面进行标记或印刻,导致在吸附剂分子的附近形成印刻。在本发明的一个方面,图形吸附剂的光引发或电子引发导致了与表面的构图反应。该反应能够将构成的图形附着在表面上(构图的“写”或“掺杂”)或从表面构图除去原子(“蚀刻”可以在初始反应中发生或者在图形表面后续辐照的过程中发生)。当吸附剂被光辐照时,电子或离子在基板上通过定位反应印刻图形。这种新方法的具体例子是硅基板和在硅基板上首次吸附形成图形的氯苯分子,在用光或电子辐照时,与吸附剂相同图形的位置上将晶体氯化。定位反应发生在限定的区域,以及辐照引发的反应主要发生在相同的区域直接地证实了定位化学反应的存在。该方法适于分子级为特征地写,掺杂或蚀刻。 | ||||||
| 90 | 含有鎓盐型光敏酸发生剂的化学增强辐射敏感组合物 | CN99801309.9 | 1999-08-09 | CN1274433A | 2000-11-22 | 格奥尔格·帕夫洛夫斯基; 冈崎博; 木下义章; 津釜奈保子; 菱田有高; 马晓明; 山口优子 |
| 一种化学增强辐射敏感组合物,通过一种成膜的羟基苯乙烯基树脂与产生氟化链烷磺酸的鎓盐前体(光敏酸发生剂)混合,提供了该组合物。该组合物不会由于除气引起设备的腐蚀,也没有T形顶图案轮廓,也没有因加工时间延迟产生显著的线宽变化,另一方面,它具有高灵敏性和分辨率,和良好的图形轮廓及稳定性。 | ||||||
| 91 | 用阴离子交换树脂降低线型酚醛树脂溶液中的金属离子含量 | CN95194671.4 | 1995-08-03 | CN1155889A | 1997-07-30 | M·D·拉曼 |
| 本发明提供利用特殊处理过的阴离子交换树脂制造不溶于水，但可溶于碱水溶液的含极低量金属离子的线型酚醛树脂的方法。本发明也提供由这种线型酚醛树脂制造含极低量金属离子的光刻胶组合物的方法和利用这种光刻胶组合物制造半导体器件的方法。 | ||||||
| 92 | 高感光度酸硬化抗光蚀剂 | CN90103394.4 | 1990-07-06 | CN1048605A | 1991-01-16 | 卡伦·安·格拉齐亚诺; 伦纳德·爱德华·伯根; 罗伯特·詹姆斯·奥尔森; 苏珊·伊丽莎白·安德森-麦金纳 |
| 与其中所含蜜胺树脂作为交联剂的已知抗光蚀剂相比，按照平版印刷渐函数所测定的本文所述的抗光蚀剂的感光性有所提高。与已知的抗光蚀剂相比，这些抗光蚀剂中的蜜胺树脂含有较高百分比的六甲氧基甲基蜜胺单体。 | ||||||
| 93 | 降冰片烯类、马来酸酐和碳酸亚乙烯酯三元共聚催化剂以及三元共聚方法 | CN201710809955.5 | 2017-09-11 | CN107501471A | 2017-12-22 | 徐卫红; 周国权; 王江波; 胡敏杰; 高浩其; 房江华; 杨建平; 王志强; 陈斌 |
| 本发明涉及降冰片烯类、马来酸酐和碳酸亚乙烯酯三元共聚催化剂及三元共聚方法；在氮气氛围的手套箱中，将二茂锇和配体在三角烧瓶中溶解于第一溶剂，得到混合溶液；然后在200-600rpm下，用磁力搅拌器搅拌下，将烷基铝滴入混合溶液中，滴完后在20-60℃下继续搅拌20-60分钟，然后蒸去1/2－3/4的第一溶剂，静置4-8小时，得到固体结晶，过滤即得锇-铝络合物催化剂；按照摩尔比1:1:1取降冰片烯类单体、马来酸酐和碳酸亚乙烯酯加入到多次抽真空、充氮高压釜中，加入第二溶剂溶解；然后加入锇-铝络合物催化剂，在20～120℃下，0.1-6MPa压力下反应1～6小时；反应产物洗涤后即得到降冰片烯类、马来酸酐和碳酸亚乙烯酯三元共聚物。 | ||||||
| 94 | 芳香族锍盐化合物、光产酸剂、抗蚀剂组合物、阳离子聚合引发剂和阳离子聚合性组合物 | CN201580077938.6 | 2015-03-18 | CN107406403A | 2017-11-28 | 柳泽智史; 户田瞳; 滋野浩一; 木村正树 |
| 提供对基板的腐蚀性低、且光刻特性优异的对光产酸剂和阳离子聚合剂有用的芳香族锍盐化合物、使用其的光产酸剂、抗蚀剂组合物、阳离子聚合引发剂和阳离子聚合性组合物。一种芳香族锍盐化合物，如下述通式(I)所示(式(I)中，R1～R10各自独立地表示氢原子、卤素原子、羟基、硝基、氰基、任选具有取代基的碳原子数1～18的烷基等，R11～R15各自独立地表示氢原子、任选具有取代基的碳原子数1～18的烷氧基等，R11～R15中的1个以上不是氢原子，X1-表示1价的有机磺酸阴离子。)。 | ||||||
| 95 | 光波导形成用环氧树脂组合物及由其得到的光波导形成用固化性薄膜及光传送用挠性印制板 | CN201310070405.8 | 2013-03-06 | CN103309153B | 2017-11-10 | 平山智之 |
| 本发明提供光波导形成用环氧树脂组合物及由其得到的光波导形成用固化性薄膜及光传送用挠性印制板。所述组合物是作为光波导形成用材料、特别是包层形成材料具备高Tg、高柔软性及图案形成性能的优异的光波导形成用环氧树脂组合物。其含有下述（A）～（C），下述（A）的液态环氧树脂的主成分为下述通式（1）表示的液态环氧树脂，其含有比率在树脂成分总量中在50～80重量%的范围。（A）液态环氧树脂。（B）固态树脂。（C）光产酸剂。 | ||||||
| 96 | 带分离膜的光学构件的制造方法 | CN201710257264.9 | 2017-04-19 | CN107304335A | 2017-10-31 | 中川弘也 |
| 本发明提供用于制造即使对柔性显示器的弯曲处也能在粘合剂层和与其邻接的构件之间维持良好密合性的带分离膜的光学构件的方法。本发明的带分离膜的光学构件的制造方法包含：涂敷工序，在长条状的分离膜上涂敷活性能量射线固化型粘合剂组合物而形成涂敷层；曝光工序，边连续运送具有涂敷层的分离膜，边利用活性能量射线的照射对涂敷层进行图案曝光，得到具有包含经曝光的第1区域和曝光量比该第1区域小的第2区域的粘合剂层的分离膜；以及贴合工序，边继续连续运送曝光工序后的膜，边在其粘合剂层的外表面层叠长条的光学构件，并从上下挤压该层叠体。 | ||||||
| 97 | 降冰片烯类、苯乙烯和全氟甲基乙烯基醚三元共聚催化剂以及三元共聚方法 | CN201710542390.9 | 2017-07-05 | CN107189014A | 2017-09-22 | 史玉立; 李正辉; 徐卫红; 李颖; 胡敏杰; 高浩其; 房江华; 杨建平; 王志强 |
| 本发明涉及降冰片烯类、苯乙烯和全氟甲基乙烯基醚三元共聚催化剂，其特征在于该催化剂的制备方法如下：在氮气氛围的手套箱中，将三(环戊二烯)化镧、双(三苯基膦)氯化镍和配体在三角烧瓶中溶于第一溶剂，得到混合溶液，用磁力搅拌器搅拌下，30～50℃下反应2～4小时，蒸去部分第一溶剂，静置5～8小时，过滤得到的固体结晶即为镧‑镍络合催化剂；取降冰片烯类、苯乙烯和全氟甲基乙烯基醚加入到多次抽真空、充氮高压釜中，加入第二溶剂溶解；然后加入所述的镧‑镍络合物催化剂，在20～100℃下，0.1‑4MPa压力下反应1～6小时；将反应得到的产物洗涤、干燥后即得到降冰片烯类、苯乙烯和全氟甲基乙烯基醚三元共聚物。 | ||||||
| 98 | 不对称二肟酯化合物及其制造方法与应用 | CN201410253184.2 | 2014-06-09 | CN104910053B | 2017-09-12 | 赵文超; 王永林; 王辰龙; 麻忠利; 姚丽秀; 胡伟静 |
| 本发明涉及一类由通式Ⅰ所示的不对称二肟酯化合物及其制造方法，通式Ⅰ中，Ar1为被X1取代的C6‑C20邻亚芳基、C3‑C20邻亚杂芳基；Ar2为C6‑C20亚芳基、C3‑C20亚杂芳基，通过X1与Ar1相连接，或通过X1与Ar1相连接同时，其取代基X1邻位的Ar2碳原子通过直键、碳原子、羰基、O、S、NR18再与Ar1相连接构成环状结构；n为0或1；X1为NR18、O、S、C＝O或S＝O；Y1为(CH2)mCR15R16、NR19、O(CR15R16)m、S(CR15R16)m、(CR15R16)m C＝O、S＝O；m为0或1；R1，R2，R3各自分别为氢原子、烷基或烷氧基、被任意基团取代的烷基或烷氧基、环烷基、被任意基团取代的芳基、酰基；本发明还涉及以通式Ⅰ化合物作为光引发剂的光固化组合物，该组合物用于制备光阻器件例如显示屏用彩色滤光片时显示了非常高的固化敏感性。 | ||||||
| 99 | 重氮树脂、光刻胶组合物及其配制方法 | CN201510012836.8 | 2015-01-09 | CN104530342B | 2017-08-08 | 汪建国 |
| 本发明提供一种含有重氮树脂的光刻胶组合物及其配制方法，用于解决现有技术存在的重氮树脂由于热稳定性差，产生重氮树脂存储期限短，以及由重氮树脂制成的感光胶存储期限短，而无法应用于LCD光刻胶中的问题。本发明提供的重氮树脂、光刻胶组合物及其配制方法，由于重氮树脂的热稳定性优良，运用于负性光刻胶中，抗干法刻蚀能力强，分辨率也高；同时，在曝光过程中，部分重氮树脂能与形成阻挡层或钝化层的SiO或SiON膜表面的氢键交联而提高光刻胶与膜层的附着力，显影过程中不会出现光刻胶脱落，从而省去掩模前还要使用增粘剂来增强光刻胶与SiO或SiON膜表面附着力的工艺过程。 | ||||||
| 100 | 着色固化性树脂组合物、滤色器和包含该滤色器的显示装置 | CN201710050393.0 | 2017-01-23 | CN106997149A | 2017-08-01 | 中野骏; 冈本信之; 寺川贵清 |
| 一种着色固化性树脂组合物，其包含着色剂(A)、树脂(B)、聚合性化合物(C)和聚合引发剂(D)，包含具有呫吨骨架的染料作为上述着色剂(A)，包含羟值为100mgKOH/g以上的聚合性化合物作为上述聚合性化合物(C)。 | ||||||
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