序号 专利名 申请号 申请日 公开(公告)号 公开(公告)日 发明人
1 硬掩模组合物、使用其形成图案的方法以及包括该图案的半导体集成电路装置 CN201410063061.2 2014-02-24 CN104253024B 2017-07-28 崔有廷; 金润俊; 金古恩; 金永珉; 金惠廷; 文俊怜; 朴曜徹; 朴裕信; 朴惟廷; 宋炫知; 辛乘旭; 尹龙云; 李忠宪; 洪承希
发明公开了硬掩模组合物、使用其形成图案的方法以及包括该图案的半导体集成电路装置,其中该硬掩模组合物包括由以下化学式1表示的单体、包含由以下化学式2表示的部分的聚合物、包含由以下化学式3表示的部分的聚合物、或者它们的组合,以及溶剂。在以下化学式1至3中,A、A′、A″、L、L′、X、X′、m、n、Ar、B、Xa以及Xb与具体实施方式中限定的相同。[化学式1][化学式2][化学式3]
2 一种线路板用固化膜及印制线路板 CN201610996511.2 2016-11-13 CN106752175A 2017-05-31 张富治; 陈锦华; 付建云
发明提供一种线路板用固化膜及印制线路板,通过本发明的线路板用固化膜,能够使塑料基板和导体电路金属两者具有优异的密合性且具有高硬度。本发明的线路板用固化膜能够发挥优异的基板保护性能,并含热固化成分,能够进一步提高密合性、耐热性提高。本发明的印制线路板具有高密合性和高耐热性。
3 单体、包含此单体的硬屏蔽组成物及使用此硬屏蔽组成物形成图案的方法 CN201380059507.8 2013-06-04 CN104812729B 2017-05-10 金润俊; 权孝英; 金惠廷; 李忠宪; 赵娟振; 崔有廷
发明涉及硬屏蔽组成物用单体、包含此单体的硬屏蔽组成物及使用此硬屏蔽组成物形成图案的方法。该硬屏蔽组成物用单体以下列化学式1表示,其耐热性及耐蚀刻性与对溶剂的可溶性、间隙填充特征及平坦化特征可被确保。[化学式1]于化学式1,A1至A3、X1至X3、L1、L2、n及m是与说明书中所述的相同。
4 用于平版印刷应用的来自小分子的金属化物膜 CN201280041124.3 2012-06-26 CN103781854B 2017-02-22 D·M·苏利文; C·J·尼弗; 王玉宝; T·奥塔拉
提供了用于平版印刷应用的金属化物膜。该膜由包括金属氧化物前体化合物的组合物形成,该金属氧化物前体化合物包括除了以外的金属和准金属。这些膜易于制备,且可用下述的多种配体改性,包括醇盐、酚盐、羧酸盐/酯、β-二和β-酮酸酯。
5 一种触摸屏及其菲林组件 CN201610514187.6 2016-06-30 CN106201077A 2016-12-07 李灌; 卓友义; 林汉良; 陈远见
发明公开了一种菲林组件,包括上层菲林和下层菲林,下层菲林上设置有凸出导电浆,上层菲林上设置有与凸出导电银浆适配的通孔,还包括:设置于下层菲林上的闭合环路绝缘油,且闭合环路绝缘油围绕凸出导电银浆设置;上层菲林和下层菲林贴合后,通孔落入闭合环路绝缘油的闭合环路内;OCA光学胶,OCA光学胶涂覆于上层菲林上与闭合环路绝缘油相贴合的部分。本发明中闭合环路绝缘油的存在提高了所在位置的高度,上层菲林上与该闭合环路绝缘油的闭合环路相对应的部分涂覆有OCA光学胶,会紧密地贴合在闭合环路绝缘油上,而上层菲林的通孔落入闭合环路绝缘油的闭合环路内,因此,通孔的四周被严密地封闭。本发明还公开了一种触摸屏
6 用于透明导电薄膜的可UV图案化硬涂层 CN201480065695.X 2014-09-26 CN105934406A 2016-09-07 A.施密特; S.L.田; L.L.杨; S.Q.唐
发明涉及带有在其上方或下方具有透明导电材料如透明导电化物(TCO)、导电聚合物或金属基纳米材料和纳米复合材料的可UV图案化硬涂层(UPHC)的基底、其制备方法和包含所述基底的制品。
7 与外涂的光致抗蚀剂一起使用的涂料组合物 CN201110463317.5 2011-12-31 CN102621813B 2016-08-31 O·昂格伊; V·简恩; S·克雷; A·赞皮尼
提供一种有机涂料组合物,尤其是减反射涂料组合物,所述组合物是包含含有一种或多种尿嘧啶部分的组分的组合物。本发明优选的组合物在减少从基材反回到外涂光致抗蚀剂层的曝光辐射的反射和/或作为平坦化、保形或塞孔层使用是有用的。
8 用于显示器的电极的制造方法和包括该电极的显示器 CN201310655610.0 2013-12-06 CN103871803B 2016-08-17 具亚凛; 朴珉秀; 申东一; 许伦旼; 李元熙; 郑名成; 金哲奎
发明公开了一种用于显示器的电极的制造方法和包含该电极的显示器。该用于显示器的电极的制造方法包括:在基板上印刷并干燥导电浆料,以及在干燥的导电浆料上印刷玻璃浆料,随后图案化。还公开了使用所述方法制备的用于显示器的电极。
9 用于底层的芳香族树脂 CN201510373988.0 2015-04-30 CN105175689A 2015-12-23 韩善华; 赵诚昱; 片海光; 李政埈; 山田晋太郎
某种芳香族醇与某种二芳基取代的脂肪族醇的聚合反应产物被用作半导体生产工艺中的底层。
10 平版印刷版原版 CN201510514543.X 2010-09-07 CN105082725A 2015-11-25 松浦睦; 泽田宏和; 上杉彰男
发明公开一种平版印刷版原版,所述平版印刷版原版可以机上显影,同时具有优异的印刷耐久性、耐污迹性和耐微小腐蚀污垢性。具体地,本发明公开一种平版印刷版原版,所述平版印刷版原版顺次在载体上以下列顺序包括光敏层和保护层,所述光敏层含有(A)增感染料,(B)聚合引发剂,(C)可聚合化合物以及(D)粘合剂聚合物。平版印刷版原版的特征在于,所述载体使用合金板形成,其中,在表面中具有不小于0.2μm的等效圆直径的金属问化合物的密度不小于35,000个/mm2,并且具有不小于1μm的最大长度的化铝的数量不大于30,000个/g。
11 含有苯乙烯结构的自组装膜的下层膜形成用组合物 CN201380066214.2 2013-12-16 CN104870551A 2015-08-26 染谷安信; 若山浩之; 远藤贵文; 坂本力丸
发明的课题是提供一种自组装膜的下层中所使用的下层膜形成组合物。解决手段是一种自组装膜的下层膜形成用组合物,含有仅由源自可被取代的苯乙烯的结构单元和源自含有可形成交联的基团的化合物的结构单元构成的聚合物,且该聚合物以如下比例构成:在该聚合物的全部结构单元中,源自苯乙烯的结构单元为60~95摩尔%,源自含有可形成交联的基团的化合物的结构单元为5至40摩尔%。可形成交联的基团为羟基、环基、被保护了的羟基、或被保护了的羧基。含有可形成交联的基团的化合物为甲基丙烯酸羟基乙酯、丙烯酸羟基乙酯、甲基丙烯酸羟基丙酯、丙烯酸羟基丙酯、羟基苯乙烯、丙烯酸、甲基丙烯酸、甲基丙烯酸缩甘油酯、丙烯酸缩水甘油酯。
12 聚酯膜和感光性树脂结构体 CN201280005514.5 2012-01-13 CN103415394B 2015-08-12 结城究; 山泽一嘉
发明涉及一种聚酯膜,其中,包含含有单乙烯基取代芳香族和共轭二烯的热塑性弹性体、玻璃化转变温度为35~150℃的增容剂、以及玻璃化转变温度为35~150℃且羧基含量为10~100mgKOH/g的聚酯树脂的粘接层层叠在聚酯基材上。
13 平版印刷版原版 CN201080042267.7 2010-09-07 CN102548769B 2015-08-12 松浦睦; 泽田宏和; 上杉彰男
发明公开一种平版印刷版原版,所述平版印刷版原版可以机上显影,同时具有优异的印刷耐久性、耐污迹性和耐微小腐蚀污垢性。具体地,本发明公开一种平版印刷版原版,所述平版印刷版原版顺次在载体上以下列顺序包括光敏层和保护层,所述光敏层含有(A)增感染料,(B)聚合引发剂,(C)可聚合化合物以及(D)粘合剂聚合物。所述平版印刷版原版的特征在于,所述载体使用合金板形成,其中,在表面中具有不小于0.2μm的等效圆直径的金属间化合物的密度不小于35,000个/mm2,并且具有不小于1μm的最大长度的化铝的数量不大于30,000个/g。
14 柔性印刷版原版 CN201180061739.8 2011-08-31 CN103261965B 2015-06-17 井上大辅; 松冈甲树; 桥本英幸
提供一种柔性印刷版原版,抑制红外线烧蚀层发生裂纹或起皱,并且提高其耐损伤性。该柔性印刷版原版按顺序层压支撑体(12)、感光性树脂层(18)和红外线烧蚀层(20),红外线烧蚀层(20)的结合聚合物含有组分(A)和组分(B),组分(A)是具有与感光性树脂层(18)相同的结构单元的聚合物,组分(B)是丙烯酸类树脂,并且,组分(A)相对于组分(B)的质量比(A/B)在1/3~3/1的范围,红外线烧蚀层(20)在层压于感光性树脂层(18)上的状态下的塑性硬度(Ha)与感光性树脂层(18)的塑性硬度(Hb)之差为30mN/mm2以下。
15 硬掩模组合物、使用其形成图案的方法以及包括该图案的半导体集成电路装置 CN201410063061.2 2014-02-24 CN104253024A 2014-12-31 崔有廷; 金润俊; 金古恩; 金永珉; 金惠廷; 文俊怜; 朴曜徹; 朴裕信; 朴惟廷; 宋炫知; 辛乘旭; 尹龙云; 李忠宪; 洪承希
发明公开了硬掩模组合物、使用其形成图案的方法以及包括该图案的半导体集成电路装置,其中该硬掩模组合物包括由以下化学式1表示的单体、包含由以下化学式2表示的部分的聚合物、包含由以下化学式3表示的部分的聚合物、或者它们的组合,以及溶剂。在以下化学式1至3中,A、A′、A″、L、L′、X、X′、m、n、Ar、B、Xa以及Xb与具体实施方式中限定的相同。[化学式1][化学式2][化学式3]
16 平版印刷版载体和预制感光版 CN201110205115.0 2011-07-21 CN102402120B 2014-12-17 难波优介; 冈野圭央; 黑川真也; 泽田宏和; 上杉彰男
发明提供一种平版印刷版载体和预制感光版,所述预制感光版设置有平版印刷版载体,所述平版印刷版载体包括板和设置在所述铝板上的铝的阳极化膜,并且具有微孔,所述微孔在所述阳极氧化膜中从与面向所述铝板的膜表面相反的膜表面在深度方向上延伸,该预制感光版产生表现出高耐污渍性并且其中抑制了导致图像遗失的凸出部的形成的平版印刷版。所述微孔的内部被由勃姆石构成的凸起至少部分地封孔,并且位于所述阳极氧化膜上的由勃姆石构成的凸起的平均高度小于15nm。
17 基于自显影聚合物的体全息记录用介质 CN200980138893.3 2009-09-29 CN102171267B 2014-09-03 R.哈根; N.施托克尔; F-K.布鲁德; F.杜贝尔; T.罗勒; T.费克; M-S.魏泽; D.赫内尔
发明涉及用于通过曝光引入体全息图的新型自显影胶片、其的制备方法和其用途。
18 表面活性添加剂和包含该表面活性添加剂的光刻胶组合物 CN201210243288.6 2012-05-28 CN102796221B 2014-08-27 D·王; C·吴; 刘骢; G·波勒斯; C-B·徐; G·G·巴克利
发明涉及表面活性添加剂和包含该表面活性添加剂的光刻胶组合物。一种聚合物,包含单体聚合的产物,所述单体包括:含有式(Ia)、式(Ib)或式(Ia)和(Ib)组合的含氮单体,和具有式(II)的可酸去保护单体:其中:a是0或1;每个Ra独立的是H、F、C1-C10烷基或者C1-C10氟化烷基,L1是直链或支链C1-C20亚烷基、或者单环、多环、或者稠合多环C3-C20亚环烷基,每个Rb独立的是H、C1-C10烷基、C3-C20环烷基、C3-C20杂环烷基、脂肪族C5-C20基羰基或者任选包括杂原子取代基的C1-C30酰基基团,其中每个Rb是独立的,或者至少一个Rb与相邻的Rb相连;LN是含氮的单环、多环、或者稠合多环C3-C20亚杂环烷基;X是H、C1-C10烷基、脂肪族C5-C20氧基羰基或任选包括杂原子取代基的C1-C30酰基基团;每个Rc独立的是C1-C10烷基、C3-C20环烷基、C3-C20杂环烷基,其中每个Rc是独立的或者至少一个Rc与相邻的Rc相连。
19 形成光刻图案的方法 CN201110108960.6 2011-03-07 CN102338982B 2014-08-20 姜锡昊; C·科尔特
发明涉及一种形成光刻图案的方法。还提供涂覆的基板和通过该方法形成的电子器件。该方法在电子器件的制造中具有特殊用途。提供了一种形成光刻图案的方法,所述方法包括:(a)提供在其表面上具有一个或多个将被图案化的层的基板;(b)在该一个或多个将被图案化的层上施加光致抗蚀剂组合物层,该光致抗蚀剂组合物包括具有酸解离基团的树脂和光酸产生剂;(c)在光化辐射下图案化曝光该光致抗蚀剂组合物层;并且(d)在光致抗蚀剂组合物层上施加显影剂,其中光致抗蚀剂组合物层中的未曝光区域被显影剂去除,在一个或多个将被图案化的层上形成光致抗蚀剂图案,其中该显影剂包括2-庚和/或5-甲基-2-己酮。
20 用于平版印刷应用的来自小分子的金属化物膜 CN201280041124.3 2012-06-26 CN103781854A 2014-05-07 D·M·苏利文; C·J·尼弗; 王玉宝; T·奥塔拉
发明提供了用于平版印刷应用的金属化物膜。该膜由包括金属氧化物前体化合物的组合物形成,该金属氧化物前体化合物包括除了以外的金属和准金属。这些膜易于制备,且可用下述的多种配体改性,包括醇盐、酚盐、羧酸盐/酯、β-二和β-酮酸酯。
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