子分类：
- G03F7/0041： ..{在曝光处提供蚀刻剂(G03F7/075优先,光解卤化物入G03F7/0295)}
- G03F7/0042： ..{含有其他类不包括的无机的或有机金属的光敏化合物,例如:无机抗蚀剂(G03F7/075优先)}
- G03F7/0045： ..{含有其他类不包括的有机非高分子光敏化合物的,例如:分解抑制剂}
- G03F7/0046： ..{含有全氟化合物的,例如:用于干式平版印刷术(G03F7/0048优先)}
- G03F7/0047： ..{特征在于获得金属或陶瓷图案的添加剂,例如:通过烘烤}
- G03F7/0048： ..{特征在于容易扩散的溶剂或试剂,例如:表面活性剂}
- G03F7/008： ..叠氮化合物(G03F7/075优先)
- G03F7/016： ..重氮盐或化合物(G03F7/075优先)
- G03F7/022： ..苯醌重氮(G03F7/075优先)
- G03F7/025： ..具有碳—碳三键的非高分子的可光聚合的化合物,例如,乙炔化合物(G03F7/075优先)
- G03F7/027： ..具有碳—碳双键的非高分子的可光聚合的化合物,例如,乙烯化合物(G03F7/075优先)
- G03F7/038： ..高分子化合物被制备成不溶解的或非均匀可湿的(G03F7/075优先;高分子叠氮化合物入G03F7/012;高分子重氮化合物入G03F7/021)
- G03F7/039： ..可光降解的高分子化合物,例如,正电子抗蚀剂(G03F7/075优先;高分子苯醌重氮化合物入G03F7/023)
- G03F7/04： ..铬酸盐类(G03F7/075优先)
- G03F7/06： ..银盐类(G03F7/075优先)
- G03F7/075： ..含硅的化合物
- G03F7/085： ..以加速黏结的非高分子添加剂为特征的感光剂组分(G03F7/075优先)
- G03F7/09： ..以细部结构为特征的,例如,基片层、辅助层(印刷版的基片层一般入B41N)
| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
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| 161 | 高感光度肟酯光聚合引发剂及包含该化合物的光聚合组成物 | CN201310271006.8 | 2013-07-01 | CN104276995A | 2015-01-14 | 车爀镇; 柳美善; 朴陈圭 |
| 本发明提供一种高感光度肟酯光聚合引发剂及包含该引发剂的光聚合组成物。具体而言，其特征在于，与肟酯结构的氮原子双键结合的碳原子与硝基苯基结合。根据本发明的化合物及包含该化合物的光引发剂组成物不仅溶解性得到提高且具有良好的光敏度。这种光引发剂在LCD的黑色抗蚀剂、彩色抗蚀剂、表层、纵向间隔物、有机绝缘膜等当中发挥有益作用。 | ||||||
| 162 | 供体膜及使用该供体膜的热成像方法 | CN201410267571.1 | 2014-06-16 | CN104275955A | 2015-01-14 | 林亨泽; 权宁吉; 鲁硕原 |
| 本发明提供了一种供体膜及使用该供体膜的热成像方法，该膜包括：基底层；在所述基底层上的第一光热转换层；以及第二光热转换层，在所述第一光热转换层上并且有机材料被沉积到所述第二光热转换层，其中所述第一光热转换层和所述第二光热转换层分别吸收不同波长的光。 | ||||||
| 163 | 一种液体着色物 | CN201310251650.9 | 2013-06-21 | CN103343014B | 2014-12-03 | 陈章荣; 宋德生; 刘文砥 |
| 本发明公开了一种液体着色物。该液体着色物包括以下质量百分比含量的组分：8％-50％的可聚合液晶单体；1％-30％的手性剂；0.1％-5％的光引发剂；以及30％-70％的有机溶剂，其中，该液体着色物在固化后呈现视角异色特性。通过上述方式，本发明的液体着色物不含任何颜料粒子或液晶微胶囊，能够进行紫外线固化成膜，适于通过凹版或柔版印刷在多种基材上，具有广泛的应用前景。 | ||||||
| 164 | 环糊精衍生物及其制备方法、光阻组合物和显示装置 | CN201410309341.7 | 2014-06-30 | CN104086675A | 2014-10-08 | 王雪岚; 唐琛; 常珊 |
| 本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种环糊精衍生物及其制备方法，光阻组合物、一种彩色光阻和一种显示装置。所述环糊精衍生物为α-环糊精修饰的可聚合单体，所述α-环糊精修饰的可聚合单体的结构式如式I所示，在式I中，k选自2～6任一整数，n选自2～4任一整数，R1为芳香环或醚结构。α-环糊精修饰的可聚合单体可以应用于光阻组合物中，通过该光阻组合物制得的彩色光阻的色差小，且透过率较高，进而提高了显示装置的显示品质。 | ||||||
| 165 | 新的化合物、感光组合物和含有所述感光组合物的感光剂 | CN201380007548.2 | 2013-01-24 | CN104080788A | 2014-10-01 | 李健雨; 郭尚圭; 李昌淳; 金惠显; 金世熹 |
| 本发明涉及新的化合物、感光组合物以及含有所述感光组合物的感光剂。 | ||||||
| 166 | 用于硬掩模组合物的单体、包括单体的硬掩模组合物以及使用硬掩模组合物的图案形成方法 | CN201280059402.8 | 2012-11-21 | CN103959170A | 2014-07-30 | 崔有廷; 权孝英; 赵娟振; 金润俊; 金永珉; 尹龙云; 李忠宪 |
| 本发明涉及一种由化学式1表示的用于硬掩模组合物的单体、包括该单体的硬掩模组合物、以及使用其的图案形成方法。 | ||||||
| 167 | 导电性组合物、导电性构件及其制造方法、触摸屏及太阳电池 | CN201280046713.0 | 2012-09-27 | CN103827978A | 2014-05-28 | 大屋豊尚; 中平真一 |
| 一种导电性组合物，其至少包括：a)平均短轴长度为1nm以上、150nm以下的金属导电性纤维，及b)相对于上述金属导电性纤维为0.1质量％以上、1000质量％以下的由下述通式(1)或通式(2)所表示的化合物。P-(CR1＝Y)n-Q通式(1)(通式(1)中，P及Q分别独立地表示由OH、NR2R3或CHR4R5所表示的基团。R2及R3分别独立地表示氢原子或可取代在氮原子上的基团。R4及R5分别独立地表示氢原子或取代基。Y表示CR6或氮原子，R1及R6分别独立地表示氢原子或取代基。由R1、R2、R3、R4、R5或R6所表示的基团中的至少两个基团可相互键结而形成环。n表示0～5的整数。其中，当n为0时，P及Q不会是由OH及CHR4R5所表示的基团。当n表示2以上的数时，由(CR1＝Y)所表示的多个原子群可相同，也可不同)R7-C(＝O)-H通式(2)(通式(2)中，R7表示氢原子、OH基、烷基、烯基、炔基、芳基或杂环基)。 | ||||||
| 168 | 图案形成方法、电子束敏感或极紫外线辐射敏感树脂组合物、抗蚀剂膜、使用其的电子器件的制造方法和电子器件 | CN201280044672.1 | 2012-09-11 | CN103827750A | 2014-05-28 | 泷泽裕雄; 椿英明; 平野修史 |
| 一种图案形成方法，所述方法以下列顺序包括：步骤(1)：用电子束敏感或极紫外线辐射敏感树脂组合物形成膜，所述电子束敏感或极紫外线辐射敏感树脂组合物含有树脂(A)、化合物(B)和溶剂(C)，所述树脂(A)具有酸分解性重复单元并且能够通过酸的作用降低所述树脂(A)在含有有机溶剂的显影液中的溶解度，所述化合物(B)能够在用电子束或极紫外线辐射照射时产生酸；步骤(2)：用电子束或极紫外线辐射将所述膜曝光；和步骤(4)：在所述膜的曝光之后通过用包含有机溶剂的显影液将所述膜显影而形成阴图型图案，其中基于所述组合物的全部固体含量，所述化合物(B)的含量是21质量％至70质量％。 | ||||||
| 169 | 一种含硝基双肟酯类光引发剂及其制备方法和应用 | CN201410101531.X | 2014-03-18 | CN103819583A | 2014-05-28 | 钱晓春; 钱彬; 胡春青; 王兵; 朱文斌 |
| 本发明公开了一种含硝基双肟酯类光引发剂，结构如通式（I）所示。该光引发剂在储存稳定性、感光度、显影性和图案完整性等方面应用性能优异，与单波长的UV-LED光源有很好的适配性，在UV-LED照射下表现出了明显优于现有光引发剂的感光性能。（I）。 | ||||||
| 170 | 阴图制版平版印刷板前体 | CN201280046135.0 | 2012-09-14 | CN103814330A | 2014-05-21 | D.鲍尔比诺; H.鲍曼; U.德瓦斯; M.贾雷克; J.R.马茨; C.辛普森 |
| 一种平版印刷板前体包括包含自由基可聚合组分的可成像层、能够在曝光于成像红外辐射时产生自由基的引发剂组合物、由本公开所示的结构(I)定义的红外辐射吸收染料，所述染料在连接至次甲基链的有机基团中包含一个或更多个烯属不饱和的可聚合基团。这些红外辐射吸收染料展现出减少的在四芳基硼酸盐抗衡阴离子存在下于成像层中结晶的趋势并由此提供改善的货架期。 | ||||||
| 171 | 激光可雕刻组合物和柔性版印刷前驱体 | CN201280037724.2 | 2012-07-16 | CN103703416A | 2014-04-02 | C.J.兰德里-科尔特雷恩; M.奈尔 |
| 使用含有激光可雕刻树脂和化学交联的有机多孔颗粒的激光可雕刻组合物制备柔性版印刷前驱体。可包含红外辐射吸收剂的这些多孔颗粒的存在在制备柔性版印刷部件例如柔性版印刷版和印刷套筒中改善了各种成像和工作性能。 | ||||||
| 172 | 包含聚合物系留的纳米颗粒的光致抗蚀剂 | CN201280027990.7 | 2012-05-23 | CN103608726A | 2014-02-26 | D·H·雷丁杰; R·J·德沃埃; B·厄尔多甘-豪格 |
| 本发明公开了可以制备高保真性微细加工结构的组合物例如光致抗蚀剂以及微细加工方法。所述提供的光致抗蚀剂在所述显影阶段可以具有降低的溶胀程度，并且可以为可用于例如医疗领域的产品如微针提供紧密度容限。所述提供的组合物包含光致抗蚀剂、分散在所述光致抗蚀剂中的光引发剂体系和分散在所述光致抗蚀剂中的聚合物系留的纳米颗粒。所述光致抗蚀剂可以是负性光致抗蚀剂，并且所述光引发剂体系可以包括双光引发剂体系。所述聚合物系留的纳米颗粒可以包含丙烯酸类聚合物，并且在一些实施例中可以包含聚(甲基丙烯酸甲酯)。所述纳米颗粒可以包含二氧化硅。 | ||||||
| 173 | 光刻胶组合物和形成光刻图案的方法 | CN201310491354.6 | 2013-07-31 | CN103576458A | 2014-02-12 | 朴钟根; C·N·李; C·安德斯; D·王 |
| 光刻胶组合物和形成光刻图案的方法。一种光刻胶组合物，所述光刻胶组合物包含：包含酸不稳定基团的第一聚合物；第二聚合物，所述第二聚合物包含：由下列通式(I)的第一单体形成的第一单元，其中：P是可聚合的官能团；R1选自取代和未取代的C1-C20线性、支化和环状烃；Z是选自取代和未取代的线性或支化脂肪族和芳族烃及其组合的间隔单元，任选具有一个或多个选自-O-、-S-和-COO-的连接结构部分；和n是0-5的整数；以及由具有碱性结构部分的第二单体形成的第二单元，其中第一单体和第二单体不相同；其中第二聚合物不含酸不稳定基团且其中第二聚合物具有比第一聚合物低的表面能；光酸产生剂；和溶剂。 | ||||||
| 174 | 光致生酸剂、包含所述光致生酸剂的光致抗蚀剂以及包含所述光致抗蚀剂的经涂覆的制品 | CN201310257323.4 | 2013-06-25 | CN103508994A | 2014-01-15 | E·阿恰达; I·考尔; 刘骢; C-B·徐; 李明琦; G·P·普罗科普维茨 |
| 本发明涉及光致生酸剂、包含所述光致生酸剂的光致抗蚀剂以及包含所述光致抗蚀剂的经涂覆的制品。本发明涉及一种具有式I结构的化合物，式中，各R1独立地是H或任选地与相邻R1相连的取代或未取代的C1-30脂族基团；各R2和R3独立地是H、F、C1-10烷基、C1-10氟代烷基、C3-10环烷基或C3-10氟代环烷基，其中至少一个R2和/或R3包含F；L1、L2和L3各自独立地是单键或者任选地包含内酯基团的C1-20连接基团，其中L1、L2和L3中的一个或多个任选地形成环结构；各a独立地是0-12的整数；b是0-5的整数；各c、d和r独立地是0或1；p是0-10的整数；q是1-10的整数。光致抗蚀剂包括光致生酸剂，经涂覆的制品包括光致抗蚀剂。所述光致抗蚀剂可用于形成器件。 | ||||||
| 175 | 碱可溶性树脂及其制备方法 | CN201310407054.5 | 2013-09-09 | CN103467646A | 2013-12-25 | 常珊; 张卓; 王雪岚; 唐琛 |
| 本发明提供一种碱可溶性树脂及其制备方法，属于高分子材料技术领域，其可解决现有的碱可溶性树脂及其制备的感光组合物显影性能差的问题。本发明通过高活性不饱和单体将四氢呋喃基（柔性官能团）引入到碱可溶性树脂中，提高了碱可溶性树脂的显影性能，获得了无侧壁侵蚀现象的表面光滑的光刻胶膜层。 | ||||||
| 176 | 光波导形成用环氧树脂组合物及由其得到的光波导形成用固化性薄膜及光传送用挠性印制板 | CN201310070405.8 | 2013-03-06 | CN103309153A | 2013-09-18 | 平山智之 |
| 本发明提供光波导形成用环氧树脂组合物及由其得到的光波导形成用固化性薄膜及光传送用挠性印制板。所述组合物是作为光波导形成用材料、特别是包层形成材料具备高Tg、高柔软性及图案形成性能的优异的光波导形成用环氧树脂组合物。其含有下述（A）～（C），下述（A）的液态环氧树脂的主成分为下述通式（1）表示的液态环氧树脂，其含有比率在树脂成分总量中在50～80重量%的范围。（A）液态环氧树脂。（B）固态树脂。（C）光产酸剂。 | ||||||
| 177 | 芳烃树脂、光刻法用底层膜形成组合物以及形成多层抗蚀图案的方法 | CN201180063557.4 | 2011-12-14 | CN103282396A | 2013-09-04 | 东原豪; 内山直哉; 越后雅敏 |
| 目的是提供一种高碳浓度和低氧浓度的芳烃树脂，其可用作半导体用涂层剂或者抗蚀剂用树脂；提供一种用于形成光刻的底层膜的组合物，所述底层膜作为多层抗蚀工艺的底层膜具有优异的耐蚀刻性，提供一种由所述组合物形成的底层膜，以及提供一种使用所述底层膜形成图案的方法。本发明的特征在于在酸性催化剂的存在下，芳烃、芳族醛和酚衍生物反应从而得到芳烃树脂，所述芳烃树脂具有90-99.9质量%的高碳浓度和在丙二醇单甲醚乙酸酯中10质量%以上的溶解度。 | ||||||
| 178 | 光敏共聚物，包含所述共聚物的光致抗蚀剂以及由其形成的制品 | CN201310048009.5 | 2013-02-06 | CN103254346A | 2013-08-21 | O·昂格伊; J·W·撒克里 |
| 一种包含电子敏感的酸可脱保护单体如具有式(XX)的单体与共聚单体的聚合产物的共聚物：(XX)式中Ra是H,F,-CN,C1-10烷基或C1-10氟烷基；Rx和Ry各自独立地是取代或未取代的C1-10烷基或C3-10环烷基；Rz是取代或未取代的C6-20含芳族基团或C6-20含环脂族基团；其中Rx和Ry任选地一起形成环；Rx,Ry和Rz中的至少一个被卤代。还公开了一种包含所述共聚物的光致抗蚀剂和涂覆的基材，以及一种使用所述光致抗蚀剂制备电子器件的方法。 | ||||||
| 179 | 碱可溶树脂及其制备方法、光刻胶组合物 | CN201310116385.3 | 2013-04-03 | CN103232603A | 2013-08-07 | 王雪岚; 唐琛; 常珊 |
| 本发明提供一种碱可溶树脂及其制备方法、含该树脂的光刻胶组合物，属于高分子材料技术领域，其可解决现有的色光三原色（RGB）的膜层的坡度角较大的问题。本发明的碱可溶树脂为含聚醚链的丙烯酸碱可溶树脂。本发明的碱可溶树脂加入到光刻胶组合物中，使膜层的坡度角降低，避免了彩色膜层和黑矩阵之间连接容易出现空隙，从而造成漏光现象；同时，改善了后续工艺中液晶玻盒中取向层的涂覆及摩擦效果；改善了液晶取向，从而提高了画面的显示品质。 | ||||||
| 180 | 正型光致抗蚀剂组合物 | CN201180054437.8 | 2011-10-25 | CN103210349A | 2013-07-17 | 鹿毛孝和; 今泉规史 |
| 本发明提供一种正型光致抗蚀剂组合物，其特征在于，其含有甲酚酚醛清漆树脂（A）和酚醛清漆型酚醛树脂（B），所述甲酚酚醛清漆树脂（A）是以间甲酚、对甲酚和甲醛为必需原料制造的，所述酚醛清漆型酚醛树脂（B）是以邻甲酚、间苯二酚和甲醛为必需原料制造的。该正型光致抗蚀剂组合物以高水平兼具至今难以兼具的灵敏度和耐热性，能够适宜用作在由于近年来的高度集成化而需要更细线化的图案制作的IC、LSI等半导体制造、LCD等显示装置制造、印刷原版制造等中使用的抗蚀剂。 | ||||||
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