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光致抗蚀抗电镀剂组合物、其应用及包括其膜层的基材 |
CN201610834661.3 |
2016-09-20 |
CN106226996A |
2016-12-14 |
王俊峰; 刘启升; 张明; 杨遇春 |
本发明涉及光致抗蚀抗电镀剂组合物、其应用及包括由该组合物形成的膜层的基材,所述光致抗蚀抗电镀剂包括:光引发剂组合物3-15份、可碱水溶性光固化树脂20-80份、可光固化组合物1-20份、填料10-40份、溶剂1-30份和添加剂1-10份,其中各组分基于100重量份的光致抗蚀抗电镀剂组合物计,所述光引发剂组合物为在230nm-405nm波段范围内均能够发生紫外吸收且产生自由基的一类光引发剂组合物。光致抗蚀抗电镀剂组合物能够快速光固化,又具备优异的抗蚀抗电镀性。 |
22 |
一种纳米压印设备用光刻胶 |
CN201610429964.7 |
2016-06-17 |
CN106125502A |
2016-11-16 |
王晶 |
本发明公开了一种纳米压印设备用光刻胶,一种纳米压印设备用光刻胶按重量份数计,其组成为:有机小分子溶剂60‑80份、环氧树脂30‑50份、交联剂1‑5份、稳定剂1‑3份、纳米二氧化硅10‑15份、纳米氧化铝10‑15份、光引发剂1‑5份、光聚合单体1‑2份、助剂1‑3份。本发明具有表面性能稳定,提高脱模效果,提高压印精度,减少压印缺陷的特点。 |
23 |
聚合性组合物、感光性组合物、及感光性组合物的固化物 |
CN201610262598.0 |
2016-04-25 |
CN106084129A |
2016-11-09 |
筱崎信也; 石川达郎; 黑子麻祐美 |
本发明涉及聚合性组合物、感光性组合物、及感光性组合物的固化物。本发明的课题在于提供一种聚合性组合物、含有该聚合性组合物的感光性组合物、和该感光性组合物的固化物,所述聚合性组合物可提供即使在低曝光量下也能形成直线行进性优异、并且与基板的密合性优异的图案的感光性组合物。本发明的解决手段为,使用具有1个以上羟基的多官能(甲基)丙烯酸酯,将下述聚合性化合物改性,所述聚合性化合物包含所谓的Cardo结构,具有包含9,9-二苯基芴骨架的规定的结构。通过该方法得到的聚合性组合物可包含光聚合引发剂、着色剂。 |
24 |
包含聚合物系留的纳米颗粒的光致抗蚀剂 |
CN201280027990.7 |
2012-05-23 |
CN103608726B |
2016-11-09 |
D·H·雷丁杰; R·J·德沃埃; B·厄尔多甘-豪格 |
本发明公开了可以制备高保真性微细加工结构的组合物例如光致抗蚀剂以及微细加工方法。所述提供的光致抗蚀剂在所述显影阶段可以具有降低的溶胀程度,并且可以为可用于例如医疗领域的产品如微针提供紧密度容限。所述提供的组合物包含光致抗蚀剂、分散在所述光致抗蚀剂中的光引发剂体系和分散在所述光致抗蚀剂中的聚合物系留的纳米颗粒。所述光致抗蚀剂可以是负性光致抗蚀剂,并且所述光引发剂体系可以包括双光引发剂体系。所述聚合物系留的纳米颗粒可以包含丙烯酸类聚合物,并且在一些实施例中可以包含聚(甲基丙烯酸甲酯)。所述纳米颗粒可以包含二氧化硅。 |
25 |
一种适用于UV‑CTP的免化学处理阴图感光组合物 |
CN201610461162.4 |
2016-06-23 |
CN106054525A |
2016-10-26 |
黎仕友; 刘亚林; 黄永生; 杨志荣 |
本发明公布了一种适用于UV‑CTP的免化学处理阴图感光组合物,包含:(1)一种-(X)-(Y)-(Z)-结构的不饱和水溶性聚合物,其特征在于,X代表含有磺酸基团的共聚单元,Y代表含有两个不饱和双键的支链的羧酸共聚单元,Z代表含有一个不饱和双键支链的丙烯酸酯共聚单元,和(2)一种可光聚合的预聚体、和(3)一种多官能团单体,和(4)一种或一种以上的光聚合引发剂,和(5)一种或一种以上的染料或颜料。本发明中,使用感光组合物后平印版感光度高、网点还愿性好,在紫外线光源曝光后可直接用自来水冲洗或不经任何冲洗加工步骤即可上机印刷,并可得到高的耐印力。 |
26 |
一种用于CTP版铝板基的感光胶 |
CN201610461154.X |
2016-06-23 |
CN106054524A |
2016-10-26 |
杨志荣; 黎仕友; 黄永生; 张纯子 |
本发明公布了一种用于CTP版铝板基的感光胶,包含:(1)一种-(X)-(Y)-(Z)-结构的不饱和水溶性聚合物,其特征在于,X代表含有磺酸基团的共聚单元,Y代表含有两个不饱和双键的支链的羧酸共聚单元,Z代表含有一个不饱和双键支链的丙烯酸酯共聚单元,和(2)一种可光聚合的预聚体、和(3)一种多官能团单体,和(4)一种或一种以上的光聚合引发剂,和(5)一种或一种以上的染料或颜料。本发明中,使用感光组合物后平印版感光度高、网点还愿性好,在紫外线光源曝光后可直接用自来水冲洗或不经任何冲洗加工步骤即可上机印刷,并可得到高的耐印力。 |
27 |
环状化合物、其制造方法、组合物以及抗蚀图案形成方法 |
CN201280039313.7 |
2012-08-09 |
CN103717562B |
2016-08-24 |
越后雅敏; 山川雅子 |
分子量为500~5000的式(1)所示的环状化合物、其制造方法、包含其的组合物以及使用了该组合物的抗蚀图案形成方法。(式(1)中、R0中的至少一者为包含碘原子的一价基团)。 |
28 |
彩色滤光片用蓝色感光性树脂组合物及其应用 |
CN201610069696.2 |
2016-02-01 |
CN105867068A |
2016-08-17 |
何维凯; 许荣宾 |
本发明有关于一种彩色滤光片用蓝色感光性树脂组合物及其应用,所述组合物包含有机颜料(A);染料(B);碱可溶性树脂(C);乙烯性不饱和基的化合物(D);光起始剂(E);及有机溶剂(F);其具有氧化铟锡溅镀适性及颜料分散性佳的优点。本发明亦提供一种彩色滤光片的制造方法、一种彩色滤光片及一种液晶显示设备。 |
29 |
新的化合物、感光组合物和含有所述感光组合物的感光剂 |
CN201380007548.2 |
2013-01-24 |
CN104080788B |
2016-06-22 |
李健雨; 郭尚圭; 李昌淳; 金惠显; 金世熹 |
本发明涉及新的化合物、感光组合物以及含有所述感光组合物的感光剂。 |
30 |
高耐热性聚倍半硅氧烷类感光性树脂组合物 |
CN201580002310.X |
2015-08-28 |
CN105658702A |
2016-06-08 |
金俊永; 金华泳; 赵详焄; 柳匡铉; 崔好星 |
本发明涉及液晶显示装置或有机电致发光显示装置用高耐热性倍半硅氧烷(Silsesquioxane)类感光性树脂组合物及由其制备而成的正性光致抗蚀剂绝缘膜,详细地涉及高耐热性,低介电特性的倍半硅氧烷感光性树脂组合物,可用于形成薄膜晶体管(TFT)的导通孔(via hole)的绝缘膜,并且同时可用作用于区别形成有机电致发光显示装置的像素的分区(bank)图案的绝缘膜。 |
31 |
一种以环三磷腈为结构骨架的分子玻璃光刻胶组合物 |
CN201510996398.3 |
2015-12-23 |
CN105607416A |
2016-05-25 |
刘敬成; 李虎; 刘晓亚; 穆启道; 郑祥飞; 刘仁; 纪昌炜 |
本发明公开了一种以环三磷腈为结构骨架的分子玻璃光刻胶组合物,该组合物所含组分及各组分的质量分数为:环三磷腈分子玻璃45~75%,颜料1~2%,表面活性剂3~9%,溶剂15~50%。本发明组合物制备方法简单,反应条件温和,具有较高的耐热性,该光刻胶组合物应用在紫外光刻制程中具有优良的显影性能,较低的线条边缘粗糙度,由此也拓宽了环三磷腈的应用领域。 |
32 |
光刻用共聚物及其制造方法、抗蚀剂组合物以及基板的制造方法 |
CN201380012848.X |
2013-03-05 |
CN104159937B |
2016-05-18 |
安田敦; 押切友也; 中条美帆 |
一种光刻用共聚物,具有含有酸离去基团的单体单元和不含酸离去基团的单体单元,将在通过GPC得到的洗脱曲线中显示出共聚物涉及的色谱峰的洗脱液,按照洗脱顺序,分成体积均等的5个组分,其中,将最先洗脱的第1个至第4个的各组分中所含有的共聚物中的含有酸离去基团的单体单元的比率设为N(v1)~N(v4)摩尔%、5个组分合计所含有的共聚物中的含有酸离去基团的单体单元的比率设为Nave摩尔%时,N(v1)/Nave为1.01~1.09,N(v2)/Nave、N(v3)/Nave及N(v4)/Nave均为0.95~1.05。 |
33 |
一种含硝基双肟酯类光引发剂及其制备方法和应用 |
CN201410101531.X |
2014-03-18 |
CN103819583B |
2016-05-18 |
钱晓春; 钱彬; 胡春青; 王兵; 朱文斌 |
本发明公开了一种含硝基双肟酯类光引发剂,结构如通式(I)所示。该光引发剂在储存稳定性、感光度、显影性和图案完整性等方面应用性能优异,与单波长的UV-LED光源有很好的适配性,在UV-LED照射下表现出了明显优于现有光引发剂的感光性能。(I)。 |
34 |
导电性组合物、导电性构件及其制造方法、触摸屏及太阳电池 |
CN201280046713.0 |
2012-09-27 |
CN103827978B |
2016-05-11 |
大屋豊尚; 中平真一 |
本发明涉及一种导电性组合物、导电性构件及其制造方法、触摸屏及太阳电池。一种导电性组合物,其至少包括:a)平均短轴长度为1nm以上、150nm以下的金属导电性纤维,及b)相对于上述金属导电性纤维为0.1质量%以上、1000质量%以下的由下述通式(1)或通式(2)所表示的化合物。P-(CR1=Y)n-Q通式(1)(通式(1)中,P及Q分别独立地表示由OH、NR2R3或CHR4R5所表示的基团。Y表示CR6或氮原子,R1及R6分别独立地表示氢原子或取代基。)R7-C(=O)-H通式(2)(通式(2)中,R7表示氢原子、OH基、烷基、烯基、炔基、芳基或杂环基)。 |
35 |
碱水可溶性光固化树脂及其制备方法 |
CN201610051563.2 |
2016-01-26 |
CN105542124A |
2016-05-04 |
王俊峰; 刘启升; 杨遇春 |
本发明涉及一种碱水可溶性光固化树脂,其包含A.含有两个环氧基团的化合物(25-45%)、B.不饱和一元和/或二元酸(8-25%)、C.催化剂(0.2-0.4%)、D.酸酐(8-25%)、E.溶剂(30-40%)以及任选的添加剂;其中各组分基于组合物总重量计,且各组分的百分比总和为100%。本发明还涉及碱水可溶性光固化树脂的制备方法,其包括以下步骤:a、含有两个环氧基团的化合物在溶剂中与不饱和一元酸和/或二元酸反应得到不饱和的羟基化合物Ⅰ;b、化合物Ⅰ再与酸酐反应得到碱水可溶性光固化树脂Ⅱ;c、所述树脂Ⅱ可任选地与环氧化合物进一步反应得到碱水可溶性光固化树脂。本发明的碱水可溶性光固化树脂具有不饱和键、光固化后硬度高和耐化学性好以及在碱水溶液中可快速剥离等性能。 |
36 |
环糊精衍生物及其制备方法、光阻组合物和显示装置 |
CN201410309341.7 |
2014-06-30 |
CN104086675B |
2016-05-04 |
王雪岚; 唐琛; 常珊 |
本发明涉及显示技术领域,特别是涉及一种环糊精衍生物及其制备方法,光阻组合物、一种彩色光阻和一种显示装置。所述环糊精衍生物为α-环糊精修饰的可聚合单体,所述α-环糊精修饰的可聚合单体的结构式如式I所示,在式I中,k选自2~6任一整数,n选自2~4任一整数,R1为芳香环或醚结构。α-环糊精修饰的可聚合单体可以应用于光阻组合物中,通过该光阻组合物制得的彩色光阻的色差小,且透过率较高,进而提高了显示装置的显示品质。 |
37 |
着色树脂组合物及树脂黑色矩阵基板 |
CN201280042371.5 |
2012-08-28 |
CN103765254B |
2016-04-06 |
井上欣彦; 相原凉介; 冈泽彻 |
本发明提供可简便形成具有高粘附性和高耐化学性的树脂黑色矩阵的着色树脂组合物。此外,通过使用本发明的着色树脂组合物可得到可靠性优异的黑色矩阵基板。本发明提供着色树脂组合物,其为至少含有(A)着色颜料、(B)碱可溶性树脂、(C)粘附改善剂和(D)有机溶剂的着色树脂组合物,其中,作为上述(C)粘附改善剂含有特定的硅烷偶联剂。 |
38 |
着色组合物、着色硬化膜、彩色滤光片、固体摄像元件及图像显示装置 |
CN201480025839.9 |
2014-05-08 |
CN105189569A |
2015-12-23 |
伊藤纯一; 鲛岛贤; 原田昌之; 出井宏明; 金子祐士; 渡邉哲也; 尾田和也; 村上阳祐; 田口贵规 |
本发明提供一种使用色素聚合物、且可适当形成图案的着色组合物。本发明的着色组合物含有(A)具有非亲核性反荷阴离子的色素多聚体以及(B)聚合性化合物。 |
39 |
碱可溶性树脂及其制备方法 |
CN201310407054.5 |
2013-09-09 |
CN103467646B |
2015-12-02 |
常珊; 张卓; 王雪岚; 唐琛 |
本发明提供一种碱可溶性树脂及其制备方法,属于高分子材料技术领域,其可解决现有的碱可溶性树脂及其制备的感光组合物显影性能差的问题。本发明通过高活性不饱和单体将四氢呋喃基(柔性官能团)引入到碱可溶性树脂中,提高了碱可溶性树脂的显影性能,获得了无侧壁侵蚀现象的表面光滑的光刻胶膜层。 |
40 |
制版消耗材的远程管理方法 |
CN201510459111.3 |
2012-10-10 |
CN105058956A |
2015-11-18 |
重田龙男 |
本发明提供一种能够通过通信网络远程管理全自动制版系统中的各处理装置的制版消耗材的远程管理方法。在全自动凹版印刷制版用处理系统中,设置通过通信线路而与所述处理装置连接并接收所述处理装置的制版消耗材的状态信息的集中管理装置,利用外部接收装置通过通信网络接收来自所述集中管理装置的所述状态信息,从而进行所述制版消耗材的远程管理。 |