| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
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| 1 | 100质量%的比率包含R1O（C2H4O）2R（2 R1表示甲基，负型感光性树脂组合物、分隔壁、黑色矩阵 R2表示碳原子数2或3的烷基。）所表示的化合物，以及光学元件 以及由该固化膜形成的分隔壁，所述分隔壁形成 | CN201280042629.1 | 2012-08-27 | CN103782237B | 2017-02-15 | 山田光太郎; 高桥秀幸; 川岛正行; 小尾正树 |
| 为将基板表面分隔成像素形成用的多个分区的提供一种负型感光性树脂组合物、通过将该 形态。感光性组合物固化而形成的、遮光性高的分隔壁、以及具有该分隔壁的光学元件，所述负型感光性树脂组合物能够制造高浓度含有颜料的、遮光性高的黑色矩阵，且再溶解性高、在利用狭缝涂布法得到的涂膜中不产生缺陷、且具有可利用狭缝涂布法进行涂布的粘度。一种负型感光性树脂组合物，所述负型感光性树脂组合物包含碱可溶性树脂、光聚合引发剂、黑色着色剂和溶剂，黑色着色剂相对于该组合物的总固体成分的含量超过20质量%，溶剂以相对于溶剂的总量为20～ | ||||||
| 2 | 电湿润元件的制造方法、及电湿润显示器 | CN201280038988.X | 2012-09-18 | CN103748510B | 2016-10-19 | 野村茂树 |
| 本发明涉及一种电湿润元件的制造方法，该电湿润元件在形成于相对配置的第一基板及第二基板间的单元内含有相互不混合的第一液体材料及表面能比该第一液体材料的表面能低的第二液体材料，所述第一液体材料及所述第二液体材料的至少一方经过了凝胶化或高粘度化，通过对所述单元内施加电压使所述第一液体材料及所述第二液体材料的界面形状发生变化，其特征在于，该方法包括下述工序：通过对经过了凝胶化或高粘度化的所述第一液体材料及所述第二液体材料的至少一方赋予刺激而使其低粘度化。根据本发明，可容易地制造电湿润元件，通过本发明制造的电湿润元件不存在施加电压的上升、及动作的迟滞等。 | ||||||
| 3 | 光固化性组合物及表面具有微细图案的成形体的制造方法 | CN201080068331.9 | 2010-08-04 | CN103038860B | 2016-05-18 | 藤江彩子; 川口泰秀; 中山史子 |
| 提供能够形成环境特性、脱模性优异的固化物、氟表面活性剂与其它成分的相溶性优异的光固化性组合物、以及能够制造表面具有模的相反图案被精密地转印而得的微细图案且表面的组成均匀的成形体的方法。一种光固化性组合物，是以具有1个以上（甲基）丙烯酰氧基的化合物为主成分的压印用光固化性组合物，含有以下聚合物（D）。含有CH2=C（R11）-C（O）O-Q-Rf单元20～45质量%、CH2=C（R21）-C（O）O-（CH2CH（R22）O）n-H（数均分子量350以下）单元20～65质量%和CH2=C（R31）-C（O）O-R32单元5～40质量%、质均分子量1000～5000的聚合物（D）。R11、R21、R31=氢原子、甲基、Q=2价的连接基团等、Rf=碳数1～6的多氟烷基等、R22=氢原子等、n=3～6、R32=碳数2～15的脂肪族烃基。 | ||||||
| 4 | 膜形成用组合物及其膜、以及使用其的有机半导体元件的制造方法 | CN201480041085.6 | 2014-07-14 | CN105393341A | 2016-03-09 | 照井贵阳; 小森谷治彦; 小林史人; 原由香里; 原育成 |
| 本发明的膜形成用组合物包含：含有通式(1)表示的重复单元的氟树脂、以及氟系溶剂。(R1各自独立地为氢原子、氟原子、甲基或三氟甲基。R2各自独立地为碳数1～15的直链状、碳数3～15的支链状或碳数3～15的环状的含氟烃基，烃基中的氢原子可以被氟原子取代，重复单元中包含至少1个氟原子。)该组合物能够在有机半导体膜上形成膜，在光刻法等中得到有机半导体的精致的图案时，对蚀刻溶剂具有耐性，在有机半导体元件的制造方法中是有用的。 | ||||||
| 5 | 喷墨涂布用感光性树脂组合物、热处理物及其制造方法、树脂图案制造方法、液晶显示装置、有机EL显示装置、触摸屏及其制造方法、以及触摸屏显示装置 | CN201480008348.3 | 2014-02-10 | CN104981736A | 2015-10-14 | 山下史绘; 藤本进二 |
| 本发明的目的在于提供一种喷墨喷出性、干燥性、保存稳定性、及热处理后的透明性优异的感光性树脂组合物。本发明的喷墨涂布用感光性树脂组合物的特征在于：包括(成分A)无机粒子、(成分B)溶剂、(成分C)含有具有酸基由酸分解性基保护的基的构成单元的聚合物、以及(成分D)光酸产生剂，且成分B含有沸点为177℃以上、227℃以下，且I/O值为0.50以上、1.00以下的非醇系溶剂。 | ||||||
| 6 | 光固化性组合物和使用所述组合物的膜的制造方法 | CN201380048923.8 | 2013-09-20 | CN104640884A | 2015-05-20 | 伊藤俊树; 饭田贤一; 松藤奈央子 |
| 要用于制造具有高生产性的膜的本发明的光固化性组合物是一种光固化性组合物，其要用于在所述光固化性组合物与在其表面上具有凹凸图案的模具接触的状态下，通过将所述光固化性组合物使用光来固化而制造具有预定图案形状的膜，所述光固化性组合物包括：聚合性化合物；光聚合引发剂；用于通过光刺激来产生气体的感光性气体产生剂；和用于增加在所述模具和所述光固化性组合物之间的界面处的产生自所述感光性气体产生剂的所述气体的聚集速率的气体产生促进剂，其中所述气体产生促进剂包括没有聚合性取代基的含氟原子的表面活性剂。 | ||||||
| 7 | 着色感光树脂组合物、彩色滤光片和显示装置 | CN201310210128.6 | 2013-05-30 | CN103293856B | 2015-04-01 | 刘宸; 舒适 |
| 本发明涉及一种着色感光树脂组合物、彩色滤光片和显示装置。本发明的着色感光树脂组合物，包括颜料分散液、碱可溶树脂、光聚合性化合物、光聚合引发剂、助剂、添加剂和溶剂，其中以溶剂总重量为100%计，溶剂包括60%～85%的丙二醇甲醚醋酸酯和15%～40%的二元酸酯。本发明的着色感光树脂组合物稳定性好。 | ||||||
| 8 | 碱可溶树脂及其制备方法、光刻胶组合物 | CN201310116385.3 | 2013-04-03 | CN103232603B | 2015-03-18 | 王雪岚; 唐琛; 常珊 |
| 本发明提供一种碱可溶树脂及其制备方法、含该树脂的光刻胶组合物，属于高分子材料技术领域，其可解决现有的色光三原色（RGB）的膜层的坡度角较大的问题。本发明的碱可溶树脂为含聚醚链的丙烯酸碱可溶树脂。本发明的碱可溶树脂加入到光刻胶组合物中，使膜层的坡度角降低，避免了彩色膜层和黑矩阵之间连接容易出现空隙，从而造成漏光现象；同时，改善了后续工艺中液晶玻盒中取向层的涂覆及摩擦效果；改善了液晶取向，从而提高了画面的显示品质。 | ||||||
| 9 | 喷出喷嘴式涂布法用正型射线敏感性组合物、显示元件用层间绝缘膜及其形成方法 | CN201180021053.6 | 2011-03-22 | CN102870045B | 2014-11-19 | 一户大吾 |
| 本发明为喷出喷嘴式涂布法用正型射线敏感性组合物，其含有：[A]在同一或不同的聚合物分子中具有含下述式(1)所示的基团的结构单元(I)与含环氧基的结构单元的聚合物，[B]由肟磺酸酯化合物及鎓盐化合物所组成的群中选出的至少一种化合物，及[C]有机溶剂，其中，固体成分浓度为10质量%以上30质量%以下，在25℃的粘度为2.0mPa·s以上12mPa·s以下，而且作为[C]有机溶剂，至少含有(C1)在20℃的蒸气压为0.1mmHg以上且低于1mmHg的有机溶剂。 | ||||||
| 10 | 光固化性组合物和使用该光固化性组合物的图案化方法 | CN201280055066.X | 2012-10-24 | CN103930448A | 2014-07-16 | 伊藤俊树; 三原知惠子; 川端香奈江; 冲仲元毅 |
| 本发明提供需要小的脱模力的光固化性组合物。本发明还提供需要小的脱模力的UV压印法。该光固化性组合物含有聚合性单体(A)、聚合引发剂(B)和含氟表面活性剂(C)。该光固化性组合物的光固化物具有74度以下的水接触角。 | ||||||
| 11 | 一种光刻胶组合物 | CN201410040176.X | 2014-01-27 | CN103792789A | 2014-05-14 | 王雪岚 |
| 本发明公开了一种光刻胶组合物，按重量份计，包括：聚醚改性的有机硅流平剂580.1-1.0份，多官能基单体7-23份；碱可溶树脂13-29份；颜料分散体23-62.8份；光引发剂1.5-11.9%；溶剂10-45%。这种光刻胶组合物能够解决现有光刻胶组合物涂膜流平性不好，在高温后烘后，膜层表面收缩的问题。 | ||||||
| 12 | 着色感光性树脂组合物和滤色器 | CN201010130069.8 | 2010-02-10 | CN101806999B | 2014-05-14 | 城内由子 |
| 一种着色感光性树脂组合物，含有着色剂(A)、碱可溶性树脂(B)、光聚合性化合物(C)、光聚合引发剂(D)和溶剂(E)，着色剂(A)含有染料(A-1)和颜料(A-2)两者，溶剂(E)是含有2种以上含羟基溶剂的溶剂。 | ||||||
| 13 | 包含缩醛和缩酮作为溶剂的光刻胶组合物 | CN201110317143.1 | 2003-03-28 | CN102520583B | 2014-05-07 | S·F·瓦纳特; R·R·普拉斯; J·E·奥伯兰德; D·麦肯齐 |
| 本发明公开了一种光刻胶组合物，其包含：a)至少一种选自线性酚醛清漆树脂和聚羟基苯乙烯的成膜树脂；b)至少一种光活性化合物或光酸产生剂；和c)包含至少一种选自缩醛和缩酮的溶剂的溶剂组合物。还公开了一种包含聚碳酸酯树脂和溶剂组合物的光刻胶组合物，所述溶剂组合物包含至少一种选自缩醛和缩酮的溶剂。还公开了一种用于将光刻胶组合物成像的方法，其包括如下步骤：a)用任何一种前述光刻胶组合物涂覆基材；b)烘烤基材以基本上去除溶剂；c)成像式照射光刻胶膜；和d)用合适的显影剂去除涂覆基材的成像式曝光或未曝光区域。 | ||||||
| 14 | 正型抗蚀剂组合物 | CN201280030770.X | 2012-06-18 | CN103620499A | 2014-03-05 | 照井贵阳; 森高; 小森谷治彦 |
| 本发明的正型抗蚀剂组合物的特征在于，其含有含氟脂肪族醇、聚合物、乙烯基化合物和光产酸剂，含氟脂肪族醇为一元醇、所含有的碳原子数为2～8且氢原子的个数少于等于氟原子数的个数。关于该正型抗蚀剂组合物，溶解或溶胀等的对于有机材料的影响小，可以通过有机聚合物基板的湿式涂布形成抗蚀膜，且基板上形成的抗蚀膜、抗蚀图案显示优异的耐溶剂性。 | ||||||
| 15 | 在电子和电气设备中使用的有机材料的正交工艺 | CN200980118760.X | 2009-05-21 | CN102037409B | 2013-12-11 | 克里斯托弗·K·奥伯; 乔治·马利亚拉斯; 李锦俊; 亚历山大·扎希多夫; 玛格丽塔·夏齐克里斯提蒂; 普丽西拉·泰勒 |
| 公开了一种为有机结构形成光刻图案的正交工艺。该公开的工艺利用氟化溶剂或超临界CO2作为溶剂，从而有机导体和半导体的性能不会受到其他侵蚀性溶剂的不良影响。一种公开的方法可以同时利用氟化光致抗蚀剂和HFE溶剂，当然其他氟化溶剂也是可以使用的。在一个实施例中，氟化光致抗蚀剂是间苯二酚杯芳烃，但是各种氟化的聚合物光致抗蚀剂和氟化的分子玻璃光致抗蚀剂也是可以使用的。例如，全氟癸基甲基丙烯酸酯(FDMA)和2-硝基苄基甲基丙烯酸酯(NBMA)的共聚物是一种合适的在光刻工艺中可与氟化溶剂和超临界二氧化碳共同使用的正交氟化光致抗蚀剂。氟化光致抗蚀剂和氟化溶剂的结合提供了一种稳健的正交工艺，其也可通过现有技术中已知的方法和设备实现。 | ||||||
| 16 | 光致抗蚀剂组合物以及用多层光致抗蚀剂体系进行多重曝光的方法 | CN200880116679.3 | 2008-11-11 | CN101861638B | 2013-09-18 | 黄武松; 陈光荣; P·R·瓦拉纳斯; 李伟健 |
| 本发明提供一种光致抗蚀剂组合物及在多重曝光/多层方法中使用所述光致抗蚀剂组合物的方法。所述光致抗蚀剂组合物包含：包含含有羟基结构部分的重复单元的聚合物；光酸产生剂；以及溶剂。当形成在衬底上时，所述聚合物在加热至约150℃或更高的温度后实质上不可溶于所述溶剂。一种方法包括在衬底上形成第一光致抗蚀剂层，在图案位置处曝光所述第一光致抗蚀剂层，在所述衬底以及图案化第一光致抗蚀剂层上形成第二非光致抗蚀剂层。另一种方法包括在衬底上形成第一光致抗蚀剂层，在图案位置处曝光所述第一光致抗蚀剂层，在所述衬底以及图案化第一光致抗蚀剂层上形成第二光致抗蚀剂层并且在图案位置处曝光所述第二光致抗蚀剂层。 | ||||||
| 17 | 碱可溶树脂及其制备方法、光刻胶组合物 | CN201310116385.3 | 2013-04-03 | CN103232603A | 2013-08-07 | 王雪岚; 唐琛; 常珊 |
| 本发明提供一种碱可溶树脂及其制备方法、含该树脂的光刻胶组合物，属于高分子材料技术领域，其可解决现有的色光三原色（RGB）的膜层的坡度角较大的问题。本发明的碱可溶树脂为含聚醚链的丙烯酸碱可溶树脂。本发明的碱可溶树脂加入到光刻胶组合物中，使膜层的坡度角降低，避免了彩色膜层和黑矩阵之间连接容易出现空隙，从而造成漏光现象；同时，改善了后续工艺中液晶玻盒中取向层的涂覆及摩擦效果；改善了液晶取向，从而提高了画面的显示品质。 | ||||||
| 18 | 用于光致抗蚀剂的抗反射涂料组合物的溶剂混合物 | CN200880002500.1 | 2008-01-16 | CN101583907B | 2013-03-13 | 向中; 吴恒鹏; 庄弘; E·冈萨雷斯; M·O·奈瑟 |
| 本发明涉及能够涂覆在光致抗蚀剂层下面的抗反射涂料组合物，其中该抗反射涂料组合物包含聚合物交联剂和溶剂混合物，其中该溶剂混合物包含至少一种主要有机溶剂和至少一种选自结构1、2和3的任一种的辅助有机溶剂其中R1、R3和R4选自H和C1-C6烷基，并且R2、R5、R6、R7、R8和R9选自C1-C6烷基和n＝1-5。本发明还涉及一种能够涂覆在光致抗蚀剂层下面的抗反射涂料组合物，其中该抗反射涂料组合物包含聚合物交联剂和溶剂混合物，其中该溶剂混合物包含至少2种有机溶剂，并且其中该抗反射涂料组合物在加速老化之后在0.2微米下具有小于100/ml的液体颗粒数。 | ||||||
| 19 | 纳米压印用固化性树脂组合物 | CN200980102438.8 | 2009-01-08 | CN101984756B | 2013-02-13 | 三宅弘人; 伊吉就三 |
| 本发明的纳米压印用光固化性树脂组合物含有固化性单体或含有固化性单体和粘合剂树脂，相对于该固化性单体和粘合剂树脂的总量100重量份，该纳米压印用光固化性树脂组合物中进一步包含0.001～5重量份在同一分子骨架中具有反应性官能团和疏水性官能团的化合物。优选反应性官能团为选自羟基、环氧基、乙烯基醚基、氧杂环丁烷基、烷氧基硅烷基、或具有自由基聚合性的乙烯基中的至少一种官能团，疏水性官能团为选自含有氟原子的基团、烷基硅烷基、脂环式烃基、碳原子数为4以上的脂肪族烃基中的至少一种官能团。 | ||||||
| 20 | 喷出喷嘴式涂布法用正型射线敏感性组合物、显示元件用层间绝缘膜及其形成方法 | CN201180021053.6 | 2011-03-22 | CN102870045A | 2013-01-09 | 一户大吾 |
| 本发明为喷出喷嘴式涂布法用正型射线敏感性组合物，其含有：[A]在同一或不同的聚合物分子中具有含下述式(1)所示的基团的结构单元(I)与含环氧基的结构单元的聚合物，[B]由肟磺酸酯化合物及鎓盐化合物所组成的群中选出的至少一种化合物，及[C]有机溶剂，其中，固体成分浓度为10质量%以上30质量%以下，在25℃的粘度为2.0MPa·s以上12MPa·s以下，而且作为[C]有机溶剂，至少含有(C1)在20℃的蒸气压为0.1mmHg以上且低于1mmHg的有机溶剂。 | ||||||
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