首页 / 国际专利分类库 / 化学;冶金 / 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆 / 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆 / 熔融态覆层材料喷镀法,例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆(喷枪入B05B;通过金属的热喷镀制备含纤维或丝的合金入C22C 47/16;等离子枪入H05H)
序号 专利名 申请号 申请日 公开(公告)号 公开(公告)日 发明人
21 结合喷涂表面处理消失模铸造生产工艺 CN201310539942.2 2013-11-05 CN104607598A 2015-05-13 刘占向
发明公开了一种结合喷涂表面处理消失模铸造生产工艺,其结合热喷涂工艺与消失模铸造工艺特点,最大限度将两者工艺相紧密结合:利用铸件浇注成形后冷却过程中产生的大量铸造余热,以及消失模铸造方法落砂清整极其容易、表面质量高和浇冒口系统小的特点,将消失模铸造中的铸件毛坯后处理与热喷涂预前处理相融合,形成一套工艺简化、经济、节能及环保的新工艺。
22 长效抗菌金属表面及其制备方法 CN201380035659.4 2013-07-02 CN104583446A 2015-04-29 董汉山; 李晓英; 董阳春; 田林海
一种改性不锈或钴-铬(Co-Cr)基合金制品的表面特征的方法,包括同时使用空隙间的和取代的合金元素,在温度为300-600℃的范围内、压为100-1500Pa、包含含N、含C或含N/C气体的气氛中,使该制品进行等离子表面共合金化1-50小时(例如通过活性屏等离子表面共合金化)。
23 用于在涡轮硬件上选择性地产生热障涂层的方法 CN201380035109.2 2013-05-09 CN104411858A 2015-03-11 T.E.曼特科夫斯基; J.M.克罗; S.M.皮尔森; S.M.莫尔特
提供一种在翼型部件上沉积陶瓷涂层并由此形成部件的方法。该方法包括在翼型部件上沉积粘结涂层,包括在翼型部件的限定其后缘的后缘区域上、在定位在后缘区域内并且与后缘间隔开的孔内以及在定位在后缘区域内并且位于孔之间的地带上沉积粘结涂层。然后将陶瓷涂层沉积在粘结涂层上,包括沉积在翼型部件的后缘区域上、定位在后缘区域内的孔内以及孔之间的地带上。在不完全去除后缘区域和孔之间的地带上的陶瓷涂层的情况下,选择性地去除孔内的陶瓷涂层。
24 具有摩擦优化的工作面表面的热覆层构件 CN201280068957.9 2012-12-21 CN104220629A 2014-12-17 J·博姆; M·哈特维格; T·海尔克; P·伊兹奎尔多; M·米歇尔; G·劳; S·施维克特
发明涉及一种热覆层构件,具有用于摩擦配对件的工作面的摩擦优化的表面,其特征在于,所述摩擦优化的表面具有10~800μm3/mm2的含油量V油。此外,本发明涉及一种用于进行热覆层构件的构件覆层表面模拟的方法,所述方法包括用于构件覆层表面的表面结构的特征量确定,其中所述特征量对构件覆层表面与摩擦配对件之间的功能性作出模拟。
25 干式蚀刻装置及干式蚀刻方法 CN200880015720.8 2008-05-08 CN101681830B 2014-03-12 森川泰宏; 邹红红; 林俊雄
发明提供一种面内均匀性好且蚀刻速度高的干式蚀刻装置及干式蚀刻方法。该干式蚀刻装置,具备由上部的等离子体发生室及下部的基板处理室构成的真空室、设置在所述等离子体发生室的侧壁的外侧的磁场线圈、配置在该磁场线圈和侧壁的外侧之间且与高频电源连接的天线线圈和设置在等离子体发生室上部的蚀刻气体导入机构,所述侧壁由比介电常数为4以上的材料构成。
26 用于应用于加工玻璃灯泡的部件的耐磨耗和带纹理的覆层 CN200680008371.8 2006-03-16 CN101142145B 2013-11-20 T·F·达姆; 吴庚贤
本公开涉及淬火模,所述淬火模(22)包括内腔和在所述内腔上的覆层(20,21)。所述覆层(20)包括多个颗粒,比如金属包覆的颗粒,超级磨料颗粒,或在金属基体中的金属颗粒。
27 制动盘的涂层方法和用这种方法制造的制动盘 CN201210570069.9 2012-12-25 CN103185087A 2013-07-03 W·许申赫费尔; G·克特勒; R·凯勒; J·哈肯贝格; R·拉布; V·杜普伊斯; O·布加达; H·库克特; A·迈尔
发明涉及用于汽车的灰口-制动盘表面(1),其具有通过热学方式、例如通过金属喷涂来涂覆的减小磨损的表面涂层(6)。本发明提出例如由镍构成的中间层(5),该中间层由于其柔韧性而减小表面涂层(6)和制动盘(1)之间的机械应
28 用于由球墨制造大尺寸的构件的方法 CN201180035929.2 2011-07-15 CN103026008A 2013-04-03 斯特凡·布吕斯克; 托尔斯滕-乌尔夫·克恩; 卡斯滕·尼珀尔德; 盛世伦
一种用于由球墨制造构件的方法具有下述步骤:以如下方式构造由球墨铸铁制成的构件(1),即由多个构件部件(2,3)组成构件(1);成对地贴靠构件部件(2,3),其中由第一构件部件(2)的边缘部段(4)的边棱(6)和第二构件部件(3)的边缘部段(5)的边棱(7)形成接合部(8)中的一个;通过低能量电弧焊接或者摩擦焊接或者电子束覆层或者热覆层或者感应覆层将缓冲材料(9,10)涂覆到边棱(6,7)上;焊接边缘部段(4,5),其中缓冲材料(9,10)选择成,使得在焊接边缘部段(4,5)时在构件部件(2,3)的球墨铸铁材料中不发生结构变化,其中应用基于镍的添加剂以用于涂覆缓冲材料(9,10),尤其应用SG-NiTi4或者SG-NiCu30MnTi。
29 利用金属丝网筛制造热交换部件的方法 CN201180034126.5 2011-05-04 CN102985217A 2013-03-20 埃里克·迈特; 安东尼·科贝尔; 格雷瓜尔·贝吕贝; 米歇尔·厚德
一种热交换器部件,其通过从金属丝网筛堆叠形成片状体而制造出来,其中所述片状体具有一对相对的外主表面,且在所述外主表面之间具有空隙。通过在所述片状体的所述外主表面上沉积金属涂层而封闭所述外主表面。所述沉积的金属涂层在它们之间界定出用于使热交换流体延伸通过所述片状体空隙的流路。
30 半导体处理室中使用的物件及其制造方法 CN03803333.X 2003-01-29 CN1653587B 2010-05-12 篮契许·罗·林葛波里
提供了一种用于半导体应用中的具有保护涂层的物件及其制造方法。在一个实施例中,涂覆用于半导体沉积处理室的物件的表面的方法,包括如下步骤:加热涂层材料至半液态,所述涂层材料包括氟化铝和氟化镁中的至少一种材料;在所述铝表面沉积经加热的涂覆材料。所述保护涂层具有小于大约10%的β相位颗粒取向,其能够很牢固地粘附到铝,且能抗断裂、抗破碎和抗剥落。一些较有助益的被涂覆物件包括喷淋头、阻挡板支撑组件和真空处理室本体。
31 造纸机用压榨辊、其制造方法、对湿纸的压榨方法以及造纸机用压榨辊的表面研磨方法 CN200580001494.4 2005-02-10 CN100572659C 2009-12-23 渡边笃雄
发明的特征在于,造纸机用压榨辊包括芯辊和在该芯辊外周形成的陶瓷喷涂膜,陶瓷喷涂膜的坪结构表面的特性评价参数即Rk和Vo的值在以下的范围。Rk≤8.0μm、Vo≥0.030mm3/cm2(其中,Vo=(100-Mr2)×Rvk/2000(mm3/cm2),这里,Rk、Mr2和Rvk是JIS B0671-2-2002(ISO13565-2-1996)规定的芯部的等级差Rk、芯部的负荷长度率Mr2和沟痕深度Rvk。)
32 用于反应堆金属元件以减少进入核反应堆环境的腐蚀产物的保护涂层 CN200810210381.0 2008-08-15 CN101423943A 2009-05-06 C·P·杜尔卡; D·W·桑杜斯基; Y·-J·金; R·S·伊斯雷尔
发明涉及用于反应堆金属元件以减少进入核反应堆环境的腐蚀产物的保护涂层,尤其涉及隔离涂层被施加到核反应堆环境中的金属元件以降低和/或减缓反应堆元件金属表面的一般腐蚀和侵蚀-腐蚀。优选地,涂层为0.1微米至0.3毫米薄层的化物涂层,例如氧化、氧化锆、氧化钽、Al2O3、CeO2或类似氧化物;或者将在反应堆水环境中发生氧化的金属,例如Ti、Zr、Ta、Hf、Ce、Al。该施加的涂层在元件表面和反应堆水环境之间提供保护层。通过减小和/或清除反应堆金属元件潜在的腐蚀,该涂层消除或最小化活化腐蚀产物污染反应堆水的可能。该涂层对贡献大量钴相关腐蚀产物的镍合金基金属尤其有利,对奥氏体不锈元件也有效。
33 陶瓷实心构件和具有高孔隙度的陶瓷层以及该层的应用和含该层的构件 CN200680050793.1 2006-12-28 CN101356137A 2009-01-28 S·拉姆彭谢夫; W·斯塔姆
发明涉及一种在层系中常用于绝热的陶瓷层。其具有高的孔隙度。本发明的陶瓷多孔绝热层具有特别的孔大小分布,以致在大于1200℃下具有大的应变公差。
34 等离子体处理容器的再生方法、等离子体处理容器内部部件、等离子体处理容器内部部件的制造方法以及等离子体处理装置 CN01820477.5 2001-12-07 CN100386467C 2008-05-07 今福光祐
在用、稀土族氧化物、聚酰亚胺或聚苯并咪唑中任一种喷覆盖基材表面的等离子体处理容器内部部件的、随着在等离子体中使用而劣化的喷镀膜上,再喷镀与上述喷镀膜同样的材料。由此,能够使因在等离子体中的使用而表面产生劣化的等离子体处理容器再生得如同新品一样。
35 机器部件的喷涂 CN02828367.8 2002-02-28 CN100385033C 2008-04-30 莱赫·莫丘尔斯基; 米夏埃尔·E·本佐恩
发明公开了一种机器部件表面(22),该表面至少部分用喷涂方法涂有涂层材料。上述涂层材料暴露到高温上进行热处理,处理时间足以使部分上述涂层材料渗透到下面的表面上,从而在涂层材料和下面表面之间产生凹槽。加上附加的涂层材料层(24)并对每个涂层材料层进行热处理,从而使上述机器部件表面(22)上具有多层(24)同样的上述涂层材料,涂层材料在颗粒(21)之间和至少上述涂层的各层之间的接触点上形成凹槽(23)。还公开了一种在机器部件表面上产生这种涂层的方法。
36 成膜装置及喷嘴 CN200610125621.8 2006-08-24 CN1920096A 2007-02-28 安井基博; 明渡纯
发明的成膜装置包括:气溶胶产生部,将材料颗粒分散在载气中以产生气溶胶;喷嘴,内部设有供所述气溶胶流过的内部通路,该内部通路的一端构成用于接受所述气溶胶从所述气溶胶产生部的供给的供给口,另一端构成用于向被处理材料喷出所述气溶胶的喷出口;窄路,设在所述内部通路中且流路面积比其上游侧的流路面积窄;和冲撞部,设在所述窄路的下游侧且受到通过所述窄路的所述气溶胶流的冲撞,因此,凝集颗粒被粉碎,以微粒化的状态从喷嘴供给,可在被处理材料上形成薄的均匀的膜。
37 等离子体处理容器的再生方法、等离子体处理容器内部部件、等离子体处理容器内部部件的制造方法以及等离子体处理装置 CN01820477.5 2001-12-07 CN1479801A 2004-03-03 今福光祐
在用、稀土族氧化物、聚酰亚胺或聚苯并咪唑中任一种喷覆盖基材表面的等离子体处理容器内部部件的、随着在等离子体中使用而劣化的喷镀膜上,再喷镀与上述喷镀膜同样的材料。由此,能够使因在等离子体中的使用而表面产生劣化的等离子体处理容器再生得如同新品一样。
38 用于喷涂系统的活性物质原料,由其制得的能量储存和能量转换装置的热喷涂电极及其制造方法 CN99801090.1 1999-06-09 CN1273615A 2000-11-15 叶辉; C·斯特罗克; 肖东三; P·R·施特鲁特; D·E·赖斯纳
一种制造电极的方法以及所得的制品,所述方法包括用添加物涂覆活性物质原料,该添加物可防止所述原料在喷涂时发生热分解,再将该经涂覆的原料热喷涂至电极基体上,在基体上形成涂层,从而制得电极。
39 用于在涡轮硬件上选择性地产生热障涂层的方法 CN201380035109.2 2013-05-09 CN104411858B 2017-05-03 T.E.曼特科夫斯基; J.M.克罗; S.M.皮尔森; S.M.莫尔特
提供一种在翼型部件上沉积陶瓷涂层并由此形成部件的方法。该方法包括在翼型部件上沉积粘结涂层,包括在翼型部件的限定其后缘的后缘区域上、在定位在后缘区域内并且与后缘间隔开的孔内以及在定位在后缘区域内并且位于孔之间的地带上沉积粘结涂层。然后将陶瓷涂层沉积在粘结涂层上,包括沉积在翼型部件的后缘区域上、定位在后缘区域内的孔内以及孔之间的地带上。在不完全去除后缘区域和孔之间的地带上的陶瓷涂层的情况下,选择性地去除孔内的陶瓷涂层。
40 一种高强高韧耐腐蚀合金型材 CN201510830378.9 2015-11-24 CN105420567A 2016-03-23 李杰; 王超; 孙金东
发明公开了一种高强高韧耐腐蚀合金型材,其成分包括:Mg、Cu、Mn、Zn、Zr、Ti、Cr、Fe、Y、Si、余量为Al;所述高强高韧耐腐蚀型铝合金型材按照以下工艺制备:将各原料进行熔炼,浇注后得到铸锭;将铸锭在460-500℃下保温2-5h,然后在520-550℃后保温10-15h得到均匀化铸锭;将挤压模具和均匀化铸锭预热后置于挤压机上进行挤压并拉伸矫直得到挤压件;将挤压件放置于保温炉内进行多级热处理得到热处理件;将热处理件脱脂、铬化后进行粉末喷涂。本发明提出的高强高韧耐腐蚀型铝合金型材,其强度高,韧性和耐腐蚀性好。
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