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包含含Ni三元 合金的功能层及其制造方法

阅读：1019发布：2020-05-30

专利汇可以提供包含含Ni三元合金的功能层及其制造方法专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且一些示例性实施方式涉及被提供作为阻挡层用来保护包含银等的IR反射层的含Ni三元合金。提供包含镍、铬和/或钼和/或其氧化物的阻挡层可以改进耐腐蚀性、以及化学和机械耐久性。在一些实例中，在所述包含银的层的至少一侧上可以使用超过一个的阻挡层。在还另外的实例中，代替作为阻挡层或除了作为阻挡层之外，可以在涂层中使用基于NixCryMoz的层作为功能层。，下面是包含含Ni三元合金的功能层及其制造方法专利的具体信息内容。

权利要求

1.一种包含由玻璃基材承载的涂层的涂覆制品的制造方法，所述方法包括：
在所述基材上设置第一介电层；
在所述第一介电层上方并与其相接触地设置包含54-58 wt.%Ni、20-22.5 wt.%Cr和
12.5-14.5 wt.%Mo的IR反射层；以及
在所述IR反射层上方并与其相接触地设置第二介电层。
2.权利要求1的方法，其中所述第一和第二介电层包含氮化硅。
3.前述权利要求任一项的方法，其还包括设置包含锆的氧化物的保护性外覆层作为所述涂层的最外层。
4.前述权利要求任一项的方法，其还包括在所述IR反射层与所述第二介电层之间提供阻挡层。
5.前述权利要求任一项的方法，其中所述阻挡层包含NbZr。
6.前述权利要求任一项的方法，其中所述第一和第二介电层包含氮化硅，并且其中所述涂层还包含提供在所述IR反射层与所述第二介电层之间的包含NbZr的阻挡层、以及作为所述涂层的最外层的包含锆的氧化物的保护性外覆层。
7.前述权利要求任一项的方法，其中所述涂层包含仅一个IR反射层，并且其中所述涂覆制品以整体使用。
8.一种制造绝缘玻璃（IG）装置的方法，所述方法包括：
提供前述权利要求任一项的涂覆制品；以及
提供第二基材；
将所述涂覆制品相对于所述第二基材定位，以使得在所述IG装置的制造中，所述涂覆制品上的涂层位于所述IG装置的表面1上或表面4上。
9.一种制造绝缘玻璃（IG）装置的方法，所述方法包括：
按照前述权利要求任一项提供第一和第二涂覆制品；以及
将所述第一和第二涂覆制品相对于彼此定位，以使得在所述IG装置的制造中，所述第一和/或第二涂覆制品上的第一和/或第二涂层在所述IG装置的外表面上。
10.一种包含由玻璃基材承载的涂层的涂覆制品的制造方法，所述方法包括：
在所述基材上设置包含氮化硅的第一介电层；
在所述第一介电层上方并与其相接触地设置包含54-58 wt.%Ni、20-22.5 wt.%Cr和
12.5-14.5 wt.%Mo的IR反射层；
在所述IR反射层上方并与其相接触地设置包含NbZr的阻挡层；
在所述IR反射层上方并与其相接触地设置包含氮化硅的第二介电层；以及在所述第二介电层上方并与其相接触地设置包含锆的氧化物的层。
11.一种制造绝缘玻璃（IG）装置的方法，所述方法包括：
提供权利要求10的涂覆制品；以及
提供第二基材；
将所述涂覆制品相对于所述第二基材定位，以使得在所述IG装置的制造中，所述涂覆制品上的涂层位于所述IG装置的表面1上或表面4上。
12.一种制造绝缘玻璃（IG）装置的方法，所述方法包括：
按照权利要求10提供第一和第二涂覆制品；以及
将所述第一和第二涂覆制品相对于彼此定位，以使得在所述IG装置的制造中，所述第一和/或第二涂覆制品上的第一和/或第二涂层在所述IG装置的外表面上。
13.一种涂覆制品，其包含：
玻璃基材；
在所述基材上的包含氮化硅的第一介电层；
在所述第一介电层上方并与其相接触的包含54-58 wt.%Ni、20-22.5 wt.%Cr和
12.5-14.5 wt.%Mo的IR反射层；
在所述IR反射层上方并与其相接触的包含NbZr的阻挡层；
在所述IR反射层上方并与其相接触的包含氮化硅的第二介电层；以及在所述第二介电层上方并与其相接触的包含锆的氧化物的外覆层。
14.权利要求12的涂覆制品，其中所述涂层包含仅一个IR反射层，并且其中所述涂覆制品以整体使用。
15.一种绝缘玻璃（IG）装置，其包含：
权利要求12或13任一项的涂覆制品；以及
第二基材，其相对于所述第二基材定位，以使得在所述IG装置的制造中，所述涂覆制品上的涂层位于所述IG装置的表面1上或表面4上。
16.一种绝缘玻璃（IG）装置，其包含：
权利要求13的第一和第二涂覆制品，
其中所述第一和第二涂覆制品相对于彼此定位，以使得在所述IG装置的制造中，所述第一和/或第二涂覆制品上的第一和/或第二涂层在所述IG装置的外表面上。

说明书全文

包含含Ni三元合金的功能层及其制造方法

[0001] 本申请将下述美国专利申请的全部内容引入作为参考：题为“包含Ni和/或Ti的阻挡层、包括所述阻挡层的涂覆制品、及其制造方法”（Barrier Layers Comprising Ni and/or Ti,Coated Articles Including Barrier Layers,and Methods of Making the Same）的美国专利申请序列号13/064,065（律师代理案号3691-2195），以及题为“包括低辐射涂层的涂覆制品、包括所述涂覆制品的绝缘玻璃（中空玻璃）装置和/或其制造方法”（Coated Article Including Low-Emissivity Coating,Insulating Glass Unit Including Coated article,and/or Methods of Making the Same）的美国专利申请序列号13/064,066（律师代理案号3691-2319）。

技术领域

[0002] 本发明的一些示例性实施方式涉及一种涂覆制品(coated article)，其例如在低-E涂层(覆盖层，coating)中包括至少一个诸如银等的材料的红外（IR）反射层。在一些实施方式中，含Ni三元合金可以在所述涂层中用作至少一个层。在一些实例中，这种含Ni三元合金可以被提供作为用于包含银等的IR反射层的阻挡层。在另外的示例性实施方式中，所述含Ni三元合金包括镍、铬和/或钼（例如NixCryMoz等）。在一些示例性实施方式中，提供包含镍、铬和/或钼和/或其氧化物的层允许待使用的层具有改进的耐腐蚀性以及改进的化学和机械耐久性。在一些示例性实施方式中，所述含Ni三元合金还可以包含Ti、Cr、Nb、Zr、Mo、W、Co和/或其组合。在另外的实例中，可以在所述包含银的层的至少一侧上使用超过一个阻挡层。可以将含Ni层提供成与包含银的层相邻，并且可以将基于金属的第二阻挡层提供成与所述含Ni层相邻。在另外的实例中，可以将包含金属氧化物的第三阻挡层提供成与所述基于金属的第二阻挡层相邻。

[0003] 本发明的一些示例性实施方式还涉及代替(rather than)作为阻挡层或除了作为阻挡层之外，在涂层中使用基于NixCryMoz的层作为功能层。本文的示例性涂覆制品可用于绝缘玻璃（中空玻璃，insulating glasss，IG）窗装置、车窗的情形中，或用于其它适合的应用例如整体窗（monolithic window）应用、层压窗（夹层窗，laminated window）等。

背景技术

[0004] 在本领域中，已知涂覆制品用于窗应用例如绝缘玻璃（IG）窗装置、车窗、整体窗等。在一些示例性情形中，涂覆制品的设计者通常争取高可见光透射率、低辐射率（或低发射率）和/或低薄层电阻（Rs）的组合。高可见光透射率可以允许将涂覆制品用于需要这些特性的应用例如建筑或车窗应用中，而低辐射率（低-E）和低薄层电阻特性允许这样的涂覆制品阻挡显著量的IR辐射，以便降低例如车辆或建筑物内部不想要的加热。因此，典型地，对于用在建筑玻璃上以阻挡显著量的IR辐射的涂层来说，通常希望在可见光谱中的高透射率。

[0005] 低-E涂层中的IR反射层影响整个涂层，并且在一些情况下IR反射层是堆(stack)中最敏感的层。不幸的是，包含银的IR反射层有时可能经受来自于沉积过程、随后的大气过程、热处理、化学攻击和/或由于严酷环境的损伤。在一些情况下，可能需要防止低-E涂层中的基于银的层遭受氧，遭受化学攻击例如酸性和/或碱性溶液、热氧化、腐蚀、和遭受由于包括污染物例如氧、氯、硫、酸和/或碱的湿气而发生的损伤。如果涂层中的IR反射层未得到充分保护，涂覆制品的耐久性、可见光透射率和/或其它光学特性可能受损。

[0006] 因此，本领域技术人员将认识到，对具有改进的耐久性和改进或基本上不变的光学性质的低-E涂层，存在着需求。

发明内容

[0007] 本发明的一些示例性实施方式涉及与包含银的IR反射层联合使用的包含含Ni三元合金的改进的阻挡层材料。在一些情形中，所述改进的阻挡层材料可以使涂覆制品的耐久性得以改进。然而，另外的示例性实施方式涉及包含含Ni三元合金（例如镍、铬和/或钼）的IR反射层。在这种情形中，包含含Ni三元合金的IR反射层的使用也可以产生具有改进的化学和/或机械耐久性的涂覆制品。

[0008] 本发明的一些示例性实施方式涉及包括由玻璃基材承载的涂层的涂覆制品的制造方法。在一些示例性实施方式中，所述方法包括：在所述玻璃基材上设置介电层；在所述介电层上方设置包含含Ni三元合金的第一阻挡层；在所述含Ni三元合金上方设置包含银的IR反射层；以及在所述IR反射层上方设置包含含Ni三元合金的第二阻挡层，其中所述涂层用作低-E涂层。

[0009] 另外的示例性实施方式涉及制造涂覆制品的方法，所述方法包括：在玻璃基材上设置介电层；在所述介电层上方设置第一阻挡层；在所述含Ni三元合金上方设置包含银的IR反射层；以及在所述IR反射层上方设置第二阻挡层，其中所述涂层用作低-E涂层，其中所述第一和第二阻挡层包含54-58 wt.%Ni、20-22.5 wt.%Cr和12.5-14.5 wt.%Mo。

[0010] 还另外的示例性实施方式涉及涂覆制品。在一些情形中，所述涂覆制品包含承载低-E涂层的基材。所述低-E涂层以从所述基材开始移动的顺序包含：第一介电层；第一阻挡层；包含银的第一IR反射层，其提供在所述第一阻挡层上方并与其相接触；第二阻挡层，其提供在所述IR反射层上方并与其相接触；以及提供在所述第二阻挡层上方的第二介电层，其中所述第一和第二阻挡层包含54-58 wt.%Ni、20-22.5 wt.%Cr和12.5-14.5 wt.%Mo。

[0011] 本发明的另外的实施方式涉及包括由玻璃基材承载的涂层的涂覆制品的制造方法，所述方法包括：在所述基材上设置介电层；在所述介电层上方设置包含Nb、Ti、Cr和Zr中的一种或多种的第一子阻挡层；在所述第一子阻挡层上方并与其相接触地设置包含含Ni合金的第一阻挡层；在所述包含含Ni合金的第一阻挡层上方并与其相接触地设置包含银的IR反射层；在所述IR反射层上方并与其相接触地设置包含含Ni合金的第二阻挡层；以及在所述含Ni阻挡层上方并与其相接触地设置包含Nb、Ti、Cr和Zr中的一种或多种的第二子阻挡层。

[0012] 还另外的示例性实施方式还涉及包括由玻璃基材承载的涂层的涂覆制品的制造方法。在一些情形中，所述方法包括：在所述基材上设置介电层；在所述介电层上方设置包含Nb、Ti、Cr和Zr中的一种或多种的第一子阻挡层；在所述第一子阻挡层上方并与其相接触地设置包含Ni、Cr、Ti和/或Mo的第一阻挡层；在所述包含Ni、Cr、Ti和/或Mo的第一阻挡层上方并与其相接触地设置包含银的IR反射层；在所述IR反射层上方并与其相接触地设置包含Ni、Cr、Ti和/或Mo的第二阻挡层；以及在所述包含Ni、Cr、Ti和/或Mo的层上方并与其相接触地设置包含Nb、Ti、Cr和Zr中的一种或多种的第二子阻挡层。

[0013] 另外的示例性实施方式涉及制造涂覆制品的方法，所述方法包括：在玻璃基材上设置介电层；在所述介电层上方设置第一阻挡层；在所述第一阻挡层上方并与其相接触地设置包含银的IR反射层；在所述IR反射层上方并与其相接触地设置包含NiTi或其氧化物的第二阻挡层；在所述第二阻挡层上方并与其相接触地设置包含NiCr或其氧化物的第三阻挡层；以及在所述第三阻挡层上方并与其相接触地设置包含Sn、Ti、Cr、Nb、Zr、Mo、W和/或Co的氧化物的第四阻挡层。

[0014] 另外的示例性实施方式涉及一种涂覆制品。所述涂覆制品包含低-E涂层。所述涂层包含：玻璃基材；介电层；在所述介电层上方的包含Nb、Ti、Cr和Zr中的一种或多种的第一子阻挡层；在所述第一子阻挡层上方并与其相接触的包含Ni、Cr、Ti和/或Mo的第一阻挡层；在所述包含Ni、Cr、Ti和/或Mo的第一阻挡层上方并与其相接触的包含银的IR反射层；在所述IR反射层上方并与其相接触的包含Ni、Cr、Ti和/或Mo的第二阻挡层；以及在所述包含Ni、Cr、Ti和/或Mo的层上方并与其相接触的包含Nb、Ti、Cr和Zr中的一种或多种的第二子阻挡层。

[0015] 本发明的还另外的示例性实施方式涉及包含由玻璃基材承载的涂层的涂覆制品的制造方法，所述方法包括：在所述基材上设置第一介电层；在所述第一介电层上方并与其相接触地设置包含54-58 wt.%Ni、20-22.5 wt.%Cr和12.5-14.5 wt.%Mo的IR反射层；以及在所述IR反射层上方并与其相接触地设置第二介电层。

[0016] 另外的实例涉及包含由玻璃基材承载的涂层的涂覆制品的制造方法，所述方法包括：在所述基材上设置包含氮化硅的第一介电层；在所述第一介电层上方并与其相接触地设置包含54-58 wt.%Ni、20-22.5 wt.%Cr和12.5-14.5 wt.%Mo的IR反射层；在所述IR反射层上方并与其相接触地设置包含NbZr的阻挡层；在所述IR反射层上方并与其相接触地设置包含氮化硅的第二介电层；以及在所述第二介电层上方并与其相接触地设置包含锆的氧化物的外覆层（overcoat layer）。

[0017] 本发明的示例性实施方式还涉及一种涂覆制品，其包含：玻璃基材；在所述基材上的包含氮化硅的第一介电层；在所述第一介电层上方并与其相接触的包含54-58 wt.%Ni、20-22.5 wt.%Cr和12.5-14.5 wt.%Mo的IR反射层；在所述IR反射层上方并与其相接触的包含NbZr的阻挡层；在所述IR反射层上方并与其相接触的包含氮化硅的第二介电层；以及在所述第二介电层上方并与其相接触的包含锆的氧化物的外覆层。

[0018] 一些示例性实施方式还涉及通过上述和/或其它方法之一制造的涂覆制品和/或IG装置。附图说明

[0019] 图1是根据本发明的示例性实施方式的包含单一IR反射层和含Ni三元合金阻挡层的涂覆制品的横截面图。

[0020] 图2（a）-（b）是根据本发明的示例性实施方式的包含单一IR反射层和基于NixCryMox的阻挡层的涂覆制品的横截面图。

[0021] 图3（a）-（c）是根据本发明的示例性实施方式的包含单一IR反射层和基于NiCrMo、NiTi和/或NiCr的阻挡层的涂覆制品的横截面图。

[0022] 图4是根据本发明的示例性实施方式的包含至少两个IR反射层和含Ni三元合金阻挡层的涂覆制品的横截面图。

[0023] 图5是根据本发明的示例性实施方式的包含至少两个IR反射层和基于Hastelloy（哈司特镍基合金）的阻挡层的涂覆制品的横截面图。

[0024] 图6是根据本发明的又一示例性实施方式的包含IR反射层、以及提供在IR反射层的各侧上的第一和第二阻挡层的涂覆制品的横截面图。

[0025] 图7是根据本发明的又一示例性实施方式的包含IR反射层、与IR反射层相邻的第一含Ni阻挡层以及与第一阻挡层相邻的基于金属的第二阻挡层的涂覆制品的横截面图。

[0026] 图8是根据本发明的又一示例性实施方式的包含IR反射层、与IR反射层相邻的基于C22的第一阻挡层以及与第一阻挡层相邻的基于NbZr的第二阻挡层的涂覆制品的横截面图。

[0027] 图9是根据本发明的又一示例性实施方式的包含至少两个IR反射层、与IR反射层相邻的含Ni的第一阻挡层以及与第一阻挡层相邻的基于金属的第二阻挡层的涂覆制品的横截面图。

[0028] 图10是根据本发明的又一示例性实施方式的包含IR反射层、以及提供在IR反射层的各侧上的第一和第二阻挡层的涂覆制品的横截面图，其中离所述玻璃基材最近和最远的阻挡层夹在两个介电层之间。

[0029] 图11是根据本发明的又一示例性实施方式的包含至少两个IR反射层、以及提供在每个IR反射层的各侧上的第一和第二阻挡层的涂覆制品的横截面图，其中离所述玻璃基材最近和最远的阻挡层夹在两个介电层之间。

[0030] 图12是根据本发明的又一示例性实施方式的包含IR反射层、基于NiTi的第一阻挡层、基于NiCr的第二阻挡层和基于金属氧化物的第三阻挡层的涂覆制品的横截面图。

[0031] 图13是根据本发明的又一示例性实施方式的包含至少两个IR反射层、基于NiTi的第一阻挡层、基于NiCr的第二阻挡层和基于金属氧化物的第三阻挡层的涂覆制品的横截面图。

[0032] 图14是根据本发明的又一示例性实施方式的包含基于NiCrMo的功能层的涂覆制品的横截面图。

[0033] 图15是根据本发明的又一示例性实施方式的包含夹在两个基于氮化硅的介电层之间的基于C22的功能层并具有基于氧化锆的外覆层的涂覆制品的横截面图。

[0034] 图16是根据本发明的又一示例性实施方式的包含夹在介电层之间的基于C22的功能层和基于NbZr的阻挡层并具有基于氧化锆的外覆层的涂覆制品的横截面图。

具体实施方式

[0035] 现在参考附图，其中在整个数张图中，同样的附图标记表示同样的部件。

[0036] 本文中的涂覆制品可用于涂覆制品应用中，例如整体窗、IG窗装置、车窗，和/或包括单个或多个基材例如玻璃基材的任何其它适合应用。

[0037] 如上所述，在一些情形中，可能需要防止低-E涂层中的IR反射层（例如基于银的层）遭受由后续的沉积过程、热氧化、腐蚀、湿气、化学攻击和/或严酷环境引起的损伤。例如，用于沉积后续层的等离子体中的氧可以被高度电离，并且可能需要防止基于银的层遭受其。此外，在沉积后的“大气过程”中，基于银的层可能易受来自氧、湿气、酸、碱等的攻击的影响。如果位于基于银的层与大气之间的层具有任何缺陷，使得所述基于银的层未被完全覆盖（例如刮擦、针孔等），情况可能尤为如此。

[0038] 例如，在一些情况下，包括含银层的涂层的降解也可能由层中的Ag的物理重建及其所导致的上覆层在加热时的破坏所引起。在一些示例性实施方式中，在热处理期间可能出现问题。在那些情形中，氧可能扩散到基于银的层中。在一些示例性实施方式中，到达基于银的层的氧可能例如通过降低薄层电阻、影响辐射率和/或产生模糊(雾度)等而影响其性质，并可能引起层堆的性能降低。在另外的情形中，Ag团聚可能造成缺陷。

[0039] 因此，在一些示例性实施方式中，阻挡层可因此与基于银的层（和/或其它IR反射层）一起用在低-E涂层中，以减少上述和/或其它问题中的一些或全部的发生。在一些示例性情形中，这些阻挡层可在银周围形成薄的保护性氧化物层，并改进涂覆制品的耐腐蚀性、化学和/或机械耐久性。

[0040] 本发明的一些实施方式涉及一种涂覆制品，其包括至少一个承载涂层的玻璃基材。涂层典型地具有至少一个反射和/或阻挡至少一些IR辐射的红外（IR）反射层。在本发明的不同实施方式中，IR反射层可以为诸如银、金、NiCr和/或其三元合金等的材料或包含所述材料。通常，IR反射层被夹在涂层的至少第一和第二接触层之间。

[0041] 鉴于上述内容，有利的是提供包含含Ni三元合金的阻挡层。在一些实例中，阻挡层可以包含诸如镍、铬和/或钼（例如Haynes合金例如C22、BC1和/或B3）的材料。在其它示例性实施方式中，含Ni三元合金还可以包含Ti、Cr、Nb、Zr、Mo、W、Co和/或其组合。在一些情形中，含Ni三元合金阻挡层（例如包含诸如镍、铬和/或钼等的材料）可以具有（1）对IR反射层的足够的附着性；（2）对酸性和/或碱性溶液的改进的耐腐蚀性；（3）在高温氧化期间的保护作用；以及（4）改进的总体化学和/或机械耐久性。在其它示例性实施方式中，这些优点可以通过使用包含镍、铬和/或钼的层作为IR反射层和/或其它功能层而不是作为阻挡层来产生。

[0042] 此外，在其它示例性实施方式中，可以提供超过一个的阻挡层。已有利地发现在IR反射层的至少一侧上（以及在一些情形中在两侧上）提供至少两个阻挡层可以产生上述优点。在一些示例性实施方式中，含Ni合金或含Ni三元合金可以与IR反射层相邻使用，并且可以选择提供良好耐腐蚀性和良好化学和机械耐久性的材料作为第二阻挡层。

[0043] 图1是本发明的示例性实施方式的涂覆制品的横截面图。在一些示例性实施方式中，图1中示出的涂覆制品可用作在表面1和/或2上具有低-E涂层的整体窗，其中所述低-E涂层只包括一个IR反射层。然而，在其它示例性实施方式中，图1中的涂覆制品可以包含另外的层。此外，按照本文描述的示例性实施方式制造的涂覆制品，根据不同的示例性实施方式和应用，可用于在表面1、2、3和/或4上带有涂层的绝缘玻璃装置（IGU），具有紧靠表面2和/或3的界层（夹层，interlayer）嵌入的或暴露于表面1或4上的涂层的层压整体(monolithic lite)，具有带有紧靠表面2和/或3上的界层嵌入的或暴露于表面4上或别处的涂层的层压外侧(outboard)的层压IGU，具有暴露于表面3和/或6上或嵌入在表面4和/或5上的涂层的层压内侧(inboard)的层压IGU。换句话说，在不同的示例性实施方式中，该涂层可以整体使用，或用于包含两个或更多个基材的IG装置中，或不止一次用于玻璃装置中，并且可以提供在装置的任何表面上。

[0044] 涂覆制品包括玻璃基材1（例如约1.0至10.0mm厚、更优选地约1.0mm至6.0mm厚的透明、绿色、青铜色或蓝绿色玻璃基材），以及直接或间接提供在基材上的多层涂层35（或层体系）。

[0045] 如图1中所示，涂层35包含任选的介电层3和/或5；包含含Ni三元合金的第一阻挡层7，所述合金可以是或包括Ni、Ti、Cr、Nb、Zr、Mo、W、Co和/或其组合（例如NixCryMoz、NixTiyCrz、NixTiyNbz、NixNbyZrz、NixCryZrz、NixTiyMoz、NixZryMoz、NixNbyMoz、NixCryMoz、NixWyCrz、NixWyMoz、NixWyZrz、NixWyNbz、NixWyTiz、NixCoyMoz、NixCoyCrz、NixCoyMoz、NixCoyZrz、NixCoyNbz和/或NixCoyTiz）；IR反射层9，其包括银、金等中的一种或多种；包含含Ni三元合金的第二阻挡层11，所述合金可以是或包括Ni、Ti、Cr、Nb、Zr、Mo、W、Co和/或其组合（例如NixCryMoz、NixTiyCrz、NixTiyNbz、NixNbyZrz、NixCryZrz、NixTiyMoz、NixZryMoz、NixNbyMoz、NixCryMoz、NixWyCrz、NixWyMoz、NixWyZrz、NixWyNbz、NixWyTiz、NixCoyMoz、NixCoyCrz、NixCoyMoz、NixCoyZrz、NixCoyNbz和/或NixCoyTiz）；以及任选的介电层13，其在一些示例性情形中可以是保护性外覆层。在本发明的一些示例性实施方式中，还可以提供其它层和/或材料，并且在一些示例性情形中也可可以除去或分开一些层。层3、5和/或13可以包括一个或多个分离（离散）的层。介电层3、5和13可以是或包括氮化硅、氧化硅、氧氮化硅、氧化锡、氧化钛和/或任何适合的介电材料。在一些示例性实施方式中可以提供任选的外覆层16。在其它实例中，可排除它。在一些示例性实施方式中，当提供任选的外覆层16时，层16可以是或包括锆。在不同实例中，基于锆的层可以被部分或完全氧化。在其它示例性实施方式中，层16可以包含基于锆的合金的氧化物例如ZrxMoyOz、ZrAlOx和/或TiZrOx。这些材料可有利地对涂层和/或涂覆制品的更好的摩擦学和/或摩擦性质有贡献。在其它实例中，其它介电层可以提供在涂层中的其它位置中。在一些示例性实施方式中，所述层可以至少在开始时作为锆的氮化物沉积。

[0046] 红外（IR）反射层9优选地基本上或完全是金属的和/或导电的，并且可以包含银（Ag）、金或任何其它适合的IR反射材料，或基本上由这些材料构成。IR反射层9帮助使涂层具有低-E和/或良好的日光控制特性例如低发射率、低薄层电阻等。然而，在本发明的一些实施方式中，IR反射层9可被轻微氧化。

[0047] 在不同的示例性实施方式中，图1中示出并在本文中描述的IR反射层可以包含银或基本上由银构成。因此，应该认识到，一些示例性实施方式可包括银合金。在这样的情形中，Ag可以与适合量的Zr、Ti、Ni、Cr、Pd和/或其组合形成合金。在一些示例性实施方式中，Ag可以与Pd和Cu两者形成合金，其中Pd和Cu各为约0.5-2%（以重量或原子%计）。其它可能的合金包括Ag和Co、C、Mg、Ta、W、NiMg、PdGa、CoW、Si、Ge、Au、Pt、Ru、Sn、Al、Mn、V、In、Zn、Ir、Rh和/或Mo中的一种或多种。一般来说，掺杂物浓度可以在0.2-5%的范围内（以重量或原子%计），更优选地在0.2-2.5%之间。在这些范围内操作可以帮助银维持基于银的层的否则可能由于形成合金而丧失的所需光学特性，从而帮助维持堆的整体光学特性，同时还改进化学、腐蚀和/或机械耐久性。本文中标出的示例性Ag合金靶材料可以使用单一靶进行溅射，通过使用两种（或更多种）靶共同溅射来沉积等。除了提供改进的耐腐蚀性之外，Ag合金的使用在一些情形中帮助降低银在升高的温度下的扩散率，同时也帮助降低或阻挡氧在层堆中移动的量。这可以进一步改进银扩散率，并且可改变那些Ag的可能引起不良的耐久性的生长和结构性质。

[0048] 在一些示例性实施方式中，阻挡层7可以是或包括锌的氧化物。应该认识到，在本发明的不同实施方式中，含Ni三元合金的第一和第二层7和11可具有相同或不同的组成。

[0049] 介电层13可以是或包括氮化硅、氧化硅、氧氮化硅、氧化锡、氧化钛等。在一些示例性实施方式中，介电层13可以包含超过一个分离的层。此外，在一些情形中介电层13可以起到保护性外覆层的作用。

[0050] 有利的是，已发现在这些层中使用例如含Ni三元合金允许改进的耐腐蚀性和更好的化学和/或机械耐久性。据信，含Ni三元合金（和/或其氧化物、氮化物和/或氧氮化物）的使用在Ag的晶粒间界上形成保护层。在一些示例性实施方式中，这可以导致涂覆制品具有更好的耐腐蚀性和/或防潮性以及化学耐久性。此外，据信由于在IR反射层周围形成薄的保护性氧化物层，可以降低氧扩散，这在一些示例性实施方式中也可以帮助改进耐腐蚀性、化学和机械耐久性。

[0051] 在一些示例性实施方式中，含Ni三元合金可以包含镍、铬和/或钼。在一些示例性实施方式中，镍和含Ni合金可以能够抵抗各种腐蚀性环境、高温、高应力和/或这些因素的组合。然而，在一些情况下，Ni可以在正常环境中提供良好的耐腐蚀性，但是可能对高温湿气和/或酸攻击敏感。因此，在一些实例中可以添加Cr以提供对酸性溶液的改进的耐腐蚀性。在其它实例中，Cr也可以提供针对高温氧化的保护作用。

[0052] 然而，由或基本上由Ni和/或Cr构成的阻挡层仍可以改进。例如，基本上由沉积并在空气中加热的NiCr（其然后可以形成NiCr的氧化物）构成的层，当经受热的酸性和碱性溶液时，可能经历腐蚀和/或侵蚀。加热的NiCr涂层可能在下列情形中被侵蚀掉：（1）20%NaOH（65℃；1小时）；（2）50%H2SO4（65℃；1小时）；和（3）5%HCl（65℃；1小时）。此外，当经受沸水时（100℃；1小时），已观察到加热的NiCr变得模糊。这可能是由于氯化物和/或氢化物的形成。

[0053] 作为另一个实例，涂覆的含NiCr的层（例如与加热的含NiCr的层相比部分氧化或氧化程度较低）可被50%H2SO4（65℃；1小时）和5%HCl（65℃；1小时）侵蚀掉。因此，可以看到，IR反射层（例如包含银）对化学攻击和/或在严酷环境中（例如在热和/或潮湿环境中）易受损伤。因此，对改进的阻挡层存在着需求。对于其中涂覆制品将整体使用或用在IG装置或层压组件的外表面上的应用来说，情况可能尤为如此，因为在一些示例性实施方式中涂层可能暴露于这些因素。

[0054] 因此，在其中提供有涂层的整体应用中，在涂层被提供在表面1（例如用于防凝结）和/或4（例如用于改进U值）上的IG装置中，以及在这些涂层可能直接暴露于环境的其它情形中，可能希望使用这些具有更好的耐腐蚀性和改进的化合物和/或机械耐久性的材料，用于例如保护基于Ag的层。

[0055] 已发现，在一些示例性实施方式中，钼特别是在与镍一起使用时，可以改进对酸以及对点状和裂缝腐蚀的耐受性。此外，钼特别是在与铬一起使用时，可以针对碱溶液造成的腐蚀提供改进的性质。因此，有利的是，已发现在低E堆中，在基于银的层周围使用基于NiCrMo的合金可以提供改进的耐腐蚀性和改进的化学和/或机械耐久性。沉积和热处理过的基于NiCrMo的阻挡层，可以提供与由和/或基本上由Ni和Cr构成的阻挡层相比具有改进的性能的涂层。

[0056] 有利的是，已发现在一些情形中，基于NiCrMo的合金（例如C22、BC1和/或B3Hallestoy）与基本上由Ni和Cr构成的层相比，可以更好地保护包括至少一个基于银的层的涂层。此外，在其它实例中，基于NiCrMo的合金可以保护涂覆制品免于可看见的损伤。此外，还相信NiCrMo可与涂层中的顶部介电层（例如层13）形成合金，这也可进一步改进该层对抗碱溶液和沸水的性能。在顶部介电层13是基于硅的实施方式中，情况可尤为如此。
例如，包含MoSi的材料由于其良好的耐热性和耐腐蚀性，在较高温度下被用作加热器。

[0057] 表1-3示出了基于NiCrMo的合金的三种示例性实施方式（例如C22、BC1和B3）的组成以用于参考。

[0058] 表1：NixCryMoz的第一种示例性实施方式（例如C22）-以wt.%计的元素组成[0059]

[0060] 表2：NixCryMoz的第二种示例性实施方式（例如B3）-以wt.%计的元素组成[0061]

[0062] 表3：NixCryMoz的第三种示例性实施方式（例如BC1）-以wt.%计的元素组成[0063]

[0064] 图2（a）包括涂层35’。图2（a）是基于图1，除了图2（a）具体地要求层7和11包含含有NiCrMo的合金。在一些示例性实施方式中，层7和/或11还可以包含Fe、W、Co、Si、Mn、C、V、Al和/或Ti，其量潜在地少，例如上面表1中示出的。

[0065] 图2（b）示出了涂层35”。图2（b）是基于图1和2（a），除了图2（b）具体地要求层7和11是或包括Hastelloy C22，并指明任选的外覆层包括Zr。

[0066] 图3（a）示出了不同的示例性实施方式。在图3（a）的实施方式中，不同的基于Ni的合金可以被有利地用于一个涂层36内，以便进一步改进涂层的性质。在与图3（a）-（c）相关的示例性实施方式中，基于Ni的合金不必需是三元合金。在一些情形中，基于Ni的合金可以是二元的，或者可以包含超过3种金属。例如，层7可以是或包括NiCr（和/或其氧化物和/或氮化物），而层11是或包括NiTi（和/或其氧化物和/或氮化物）。在一些示例性实施方式中，其中层7基于NiCr并且层11基于NiTi的层堆与其中层7和11二者都基于NiCr的层堆相比，薄层电阻可低约25至45%，更优选地低约30至40%，最优选地低至少
34%。

[0067] 作为另一个实例，层7可以是或包括NiCr（和/或其氧化物和/或氮化物），而层11是或包括NixCryMoz（例如C22）。在一些示例性实施方式中，其中层7基于NiCr并且层
11基于NixCryMoz的层堆与其中层7和11两者都基于NiCr的层堆相比，薄层电阻可低约20至35%，更优选地低约25至30%，最优选地低至少28%。

[0068] 因此，在一些示例性实施方式中，层7可以是或包括NiCr、NixCryMo（z 例如C22、B3、BC1等）和NiTi中的至少一种，并且层11也可以是或包括NiCr、NixCryMoz（例如C22、B3、BC1等）和NiTi中的至少一种，只要为层7选择的材料与为层11选择的材料不同即可。

[0069] 图3（b）示出了承载有涂层36’的涂覆制品1。图3（b）是基于图3（a），除了图3（b）具体要求层7是或包括NiCr（和/或其氧化物和/或氮化物），并且层11是或包括NiTi（和/或其氧化物和/或氮化物）。

[0070] 图3（c）示出了承载有涂层36”的涂覆制品1。图3（c）是基于图3（a），除了图3（c）具体要求层7是或包括NiCr（和/或其氧化物和/或氮化物），并且层11是或包括NixCryMoz（和/或其氧化物和/或氮化物）。

[0071] 正如上面讨论的，按照图3（a）-（c）制造的涂层可以有利地具有与例如只包括基于NiCr的阻挡层的涂层相比，明显降低的薄层电阻。

[0072] 图4是根据本发明的示例性实施方式的涂覆制品的横截面图。在一些示例性实施方式中，图4中示出的涂覆制品可以用作具有含有两个IR反射层的低-E涂层的整体窗。涂覆制品包括玻璃基材1（例如约1.0至10.0mm厚、更优选地约1.0mm至6.0mm厚的透明、绿色、青铜色或蓝绿色玻璃基材），以及直接或间接提供在基材上的多层涂层（或层体系）45。图4的实施方式包括玻璃基材1、介电层3和/或5、含Ni三元合金7、基于银的层9、含Ni三元合金11、基于银的层19、含Ni三元合金21、介电层13和任选的外覆层16。层7、11和/或21可以是或包括本文中对图1的示例性实施方式中的层7所讨论的任何和/或所有示例材料。同样地，基于Ag的层9和19可以是本文中讨论的银合金。介电层3、5、13和16是任选的。这些层可以包含本文中对这些层所讨论的任何材料。根据不同的示例性实施方式，可以提供一些、所有这些层或不提供这些层。

[0073] 图5是基于图4，并包括涂层45’。图5 指定层7、9、11和/或19可以包含基于NiCrMo的合金（例如C22、BC1和/或B3）。

[0074] 其它示例性实施方式，例如图6中示出的，涉及上面提到的本发明的一些示例性实施方式的另一方面。在这些示例性实施方式中，已发现在功能层（例如包含银的IR反射层）的每个或任一侧上提供两个阻挡层可以引起耐久性改进。

[0075] 跟具体来说，图6是本发明的示例性实施方式的涂覆制品的横截面图。涂覆制品包括玻璃基材1（例如约1.0至10.0mm厚、更优选地约1.0mm至6.0mm厚的透明、绿色、青铜色或蓝绿色玻璃基材），以及直接或间接提供在基材上的多层涂层50（或层体系）。涂层50由玻璃基材1承载，并包括任选的介电层3和/或5、第一和第二阻挡层8/10和夹有基于银的层9的6/12、介电层13和任选的外覆层16。

[0076] 任选的介电层3、5和13可以是或包括氮化硅、氧化硅、氧氮化硅、氧化钛、氧化锡和任何其它适合的介电材料。根据不同的示例性实施方式，可以存在所有或一些这些层或不存在这些层。在其它示例性实施方式中，每个这些层可以包括一个或更多个分离的层。

[0077] 在一些示例性实施方式中可以提供任选的外覆层16。在其它实例中可以不包含它。在一些示例性实施方式中，当提供任选的外覆层16时，层16可以是或包括锆。在一些情形中，基于锆的层可以被部分和/或完全氧化。在其它示例性实施方式中，层16可以包含基于锆的合金的氧化物，例如ZrxMoyOz、ZrAlOx和/或TiZrOx。这些材料可以有利地有助于涂层和/或涂覆制品的更好的摩擦学和/或摩擦性质。

[0078] 仍参考图6，阻挡层6和12可以包含被选择用于改进耐腐蚀性和/或增强化学和机械耐久性的材料。在一些示例性实施方式中，“阻挡层1”层8和10（在下面详细讨论）以及“阻挡层2”层6和12之间的粘附是有利的。在一些情形中，层6和12可以分别地良好粘附于层8和10，以及良好粘附于介电层12。此外，在一些实施方式中，用于层6和12的材料可以与用于层8和10的材料在化学上相容。

[0079] 对于可热处理的（例如可回火的）涂层来说，在一些情形中可希望用于层6和12的材料是热稳定的。在一些示例性情形中，还可希望这些材料在热处理后在光学或物理学方面不显著降低涂层的性能。

[0080] 鉴于上述，有利的是，已发现“阻挡层2”层6和12可以包含Nb、Zr、Ti、Cr和/或Nb。例如，层6和/或12可以包含NbZr、Zr、TiCr和/或TiNb。在一些示例性实施方式中，这些材料为退火和/或可热处理的涂层提供良好的耐腐蚀和耐化学性质。在一些示例性实施方式中，当涂层退火时，TiCr可以用作“阻挡层2”。在其它示例性实施方式中，当涂层被热处理时，Zr、NbZr和/或TiNb可以用于层6和/或12。

[0081] 仍参考图6的实施方式，含Ni合金可以与包含银的层9相邻使用。在一些示例性实施方式中，最接近包含银的层的阻挡层、即“阻挡层1”（层8和10），可以是或包括Ni。层8和/或10还可以包括Cr、Mo和/或Ti中的一种或多种。在一些示例性实施方式中，NiCrMo、NiCr和/或NiTi可以用于层8和/或10。有利的是，已发现将这些用于层8和/或10的材料靠近或邻近基于银的层使用，可以提供与包含Ag的层的更好的粘附和化学相容性。在一些示例性实施方式中，单独的Ti不可以提供强的耐腐蚀性，但是当它与Ni形成合金时，可以有利地使合金势(alloy potential)在高的(noble)或正的方向上移动，从而可以为Ag提供更好的保护。在一些实例中，可热处理（例如可热强化和/或可热回火）的NiTi可以提供改进的性能，特别是在耐久性和光学性质方面。

[0082] 此外，在一些示例性实施方式中，上面提到的用于层8和10的材料也可以提供改进的Ag分散。据信，提供更好的Ag的结构性质可以帮助实现更好的光学性质例如色散。此外，目前还相信，在一些情形中，紧邻包含Ag的层提供包含NiTiOx的层可以减少团聚和Ag膜早期聚结。

[0083] 图7是基于图6。在图7中，涂层50’包括包含NbZr、Zr、TiCr和/或TiNb的层6和/或12以及包含含Ni阻挡层的层8和/或10。

[0084] 图8也基于图6，并示出了示例性实施方式。在图8中，涂层50”包含基于氮化硅的介电层3（省略了任选的介电层5）、包含NbZr的第一“阻挡层2”层6、包含C22的第一“阻挡层1”层8、基于银的IR反射层9、包含C22的第二“阻挡层1”层10、包含NbZr的第二“阻挡层2”层12，以及包含氮化硅的介电层13，其在一些情形中也可以起到保护性外覆层的作用。然而，在其它示例性实施方式中，可以提供单独的保护性外覆层16。在一些示例性实施方式中，层16可以是基于锆的，并且可以是或包括锆的氧化物和/或其合金。它也可以进一步包括Al、Ti和/或Mo。

[0085] 图9也类似于图6的实施方式，但是图9涉及双银涂层60。图9包括玻璃基材1、介电层3和/或5、第一“阻挡层2”层6、第一“阻挡层1”层8、包含Ag的第一IR反射层9、第二“阻挡层1”层10、第二“阻挡层2”层12、第三““阻挡层1”层18、包含Ag的第二IR反射层19、第四“阻挡层1”层20、第四“阻挡层2”层22、介电层13和任选的外覆层16。在图9中，“阻挡层1”层8、10、18和/或20可以是或包括本文中对“阻挡层1”层8和/或10所讨论的任何材料。然而，在一些示例性情形中，阻挡层18可以是或包括与阻挡层8和
10不同的材料。“阻挡层2”层6、12和22可以是或包括本文中对“阻挡层2”层6和/或
12所讨论的任何材料。按照不同的示例性实施方式，可以存在一些或所有介电层3、5和/或13，或者不存在这些介电层。介电层3、5和13可以是或包括氮化硅、氧化硅、氧氮化硅、氧化锡、氧化钛和/或任何适合的介电材料。在其它示例性实施方式中，可以提供独立的保护性外覆层16。在一些示例性实施方式中，层16可以是基于锆的，并且可以是或包括锆的氧化物和/或其合金，任选地还包括Al、Ti和/或Mo。在其它实例中，在涂层中的其它位置中可以提供其它介电层。

[0086] 图10示出了涂层50”’，其与图6中示出的涂层50类似。然而，涂层50”’还包括介电层14和/或15。在一些示例性实施方式中，这些介电层可以提供在基于银的层9下方的“阻挡层1”与“阻挡层2”之间，并且也可以提供在基于银的层9上方的“阻挡层2”与“阻挡层1”之间。在根据图10的一些示例性实施方式中，夹在介电层之间的“阻挡层2”层6和12可以进一步改进这些层和/或整个涂层的化学和/或机械耐久性。此外，在涂层中包含介电层14和/或15可以有利地进一步保护基于银的层免于腐蚀和/或刮擦。在一些示例性实施方式中，层14和/或15可以包含氮化硅、氧化硅、氧氮化硅、氧化钛、氧化锡和/或任何其它适合的介电材料。此外，在一些示例性实施方式中，层14和/或15可以是致密的。

[0087] 图11示出了涂层60’，其与图9中示出的涂层60类似。然而，涂层60’还进一步包含介电层14’和/或15’。这些层类似于上面讨论的层14和15。层14’和15’也夹在分别地最接近玻璃基材和最远离玻璃基材的“阻挡层2”的层之间。在图11的实施方式中，层6和22分别被夹在介电层3和/或5与14’以及15’与13之间。

[0088] 图12和13是根据本发明的示例性实施方式的涂覆制品的横截面图。在图12中，涂覆制品包括玻璃基材1（例如约1.0至10.0mm厚、更优选地约1.0mm至6.0mm厚的透明、绿色、青铜色或蓝绿色玻璃基材），以及直接或间接提供在基材上的多层涂层75（或层体系）。图12包括介电层3和/或5、阻挡层7和/或8、基于银的层9、阻挡层10’、阻挡层10”和阻挡层24，以及介电层13，其按照不同示例性实施方式可以起到外覆层和/或顶部涂层的作用。介电层3、5和13可以是或包括氮化硅、氧化硅、氧氮化硅、氧化锡、氧化钛和/或任何适合的介电材料。在其它实例中，可以在涂层中的其它位置中提供其它介电层。在其它示例性实施方式中，可以提供独立的保护性外覆层16。在一些示例性实施方式中，层16可以是基于锆的，并且可以是或包括锆的氧化物和/或其合金，任选地还包括Al、Ti和/或Mo。

[0089] 在图12中，阻挡层6、7和/或8可以是或包括对图1-2的包含含Ni三元合金的层7、是或包括Ni、Cr、Mo和/或Ti的“阻挡层1”层8和/或10、和/或是或包括Nb、Zr、Ti、Cr和/或Nb的“阻挡层2”层6和/或12所讨论的材料。在一些实例中，在图12的实施方式中存在层6、7和8中的仅一个。然而，在其它实施方式中，可以存在所述层中的更多个。

[0090] 图12还包括阻挡层10’、阻挡层10”和阻挡层16。在一些示例性实施方式中，阻挡层10’可以包含Ni，使其良好地粘附于基于Ag的层9。特别是，在一些示例性实施方式中，层10’可以是或包括Ni和/或Ti和/或其氧化物（例如NixTiyOz）。层10”可以是或包括Ni和/或Cr和/或其氧化物。在一些示例性实施方式中，层10”可以提高整个涂层的机械耐久性。最后，在一些情形中，层24可以是“阻挡氧化物”（BOx）层。在一些示例性实施方式中，层24可以是或包括Sn、TiCr、TiNb、NbZr、CrZr、TiMo、ZrMo、NbMo、CrMo、WCr、WMo、WZr、WNb、WTi、CoMo、CoCr、CoZr、CoNb和/或CoTi的氧化物。在一些实例中，提供阻挡层16可以进一步改进涂层的耐久性。

[0091] 图13是基于图12，但是包括双IR反射层涂层85。在一些示例性实施方式中，图13中示出的涂覆制品可以用作具有包含双IR反射层的低-E涂层的整体窗。涂覆制品包括玻璃基材1（例如约1.0至10.0mm厚、更优选地约1.0mm至6.0mm厚的透明、绿色、青铜色或蓝绿色玻璃基材），以及直接或间接提供在基材上的多层涂层85（或层体系）。图13包括介电层3和/或5、阻挡层6、7和/或8、基于银的层9、阻挡层10、11和/或12、基于Ag的层19、阻挡层10’、阻挡层10”和阻挡层24，以及介电层13，其按照不同示例性实施方式可以起到外覆层和/或顶部涂层的作用。在其它示例性实施方式中，可以提供独立的保护性外覆层16。在一些示例性实施方式中，层16可以是基于锆的，并且可以是或包括锆的氧化物和/或其合金，任选地还包括Al、Ti和/或Mo。介电层3、5和13可以是或包括氮化硅、氧化硅、氧氮化硅、氧化锡、氧化钛和/或其它适合的介电材料。在其它实例中，可以在涂层中的其它位置中提供其它介电层。

[0092] 在图13中，阻挡层6、7和/或8可以是或包括对图1-2的包含含Ni三元合金的层7、是或包括Ni、Cr、Mo和/或Ti的“阻挡层1”层8和/或10、和/或是或包括Nb、Zr、Ti、Cr和/或Nb的“阻挡层2”层6和/或12所讨论的材料。在一些实例中，在图13的实施方式中存在层6、7和8中的仅一个。然而，在其它实施方式中，可以存在所述层中的更多个。

[0093] 在图13中，阻挡层10’、10”和24可以是或包括本文中对图12的实施方式中的层10’、10”和24所讨论的材料。

[0094] 在其它示例性实施方式中，基于银的层上方的阻挡层材料可以与提供在基于银的层下方的阻挡层材料不同。本文中提到的用于阻挡层的所有可能的组合可用于图中所示并在本文中描述的任何层堆。

[0095] 在一些示例性实施方式中，本文中描述的所有二元、三元、四元等合金可以由单一金属和/或陶瓷靶溅射，或者在不同实施方式中，它们可以由两种或更多种不同靶（金属和/或陶瓷）共同溅射。

[0096] 图14是根据本发明的示例性实施方式的涂覆制品的横截面图。在一些示例性实施方式中，图14中示出的涂覆制品可以用作具有单一功能层的整体窗。涂覆制品包括玻璃基材1（例如约1.0至10.0mm厚、更优选地约1.0mm至6.0mm厚的透明、绿色、青铜色或蓝绿色玻璃基材），以及直接或间接提供在所述基材上的多层涂层100（或层体系）。图14包括玻璃基材1、任选的介电层3和/或5、包含基于NiCrMo的合金（例如C22、BC1或B3）的功能层9’、任选的介电层13和任选的外覆层16。在该涂层中可以包括其它层。层13可以是或包括硅的氧化物、氮化物和/或氧氮化物，和/或钛、锡等的氧化物。在一些示例性实施方式中，层16可以是基于锆的，并且可以是或包括锆的氧化物和/或其合金，任选地还包括Al、Ti和/或Mo。

[0097] 图15示出了基于图14的实施方式的一种示例性实施方式。图15包括涂层100’。在图15中，介电层3包含氮化硅，并且排除介电层5。应该指出，根据不同的示例性实施方式，可以排除本文描述的任何介电层。此外，根据其它示例性实施方式，这些层可以被分开，或者可以插入其它层。层9’是涂层的功能层，并且在图15的实施方式中层9’包含C22。
如上指出的可以包含超过一个分离的层的介电层13包含氮化硅，并且层13’包含氧化锆。
在本发明的不同实施方式中，包括在上面图解和描述的实施方式中，包含ZrOx的层可以被提供作为保护性外覆层。然而，在一些示例性实施方式中，包含SixNy的层可以被提供为外覆层，例如上面提到的。

[0098] 图16示出了基于图14的实施方式的另一种示例性实施方式。图16类似于图15，但是图16还包括阻挡层6’。阻挡层6’可以包含在图6-9的实施方式中对于“阻挡层2”的层所讨论的材料。因此，层6’可以起到功能层9’的阻挡层的作用，并且如图16中所示可以是或包括NbZr。在其它示例性实施方式中，层6’可以是或包括Nb、Zr、Ti和/或Cr中的一种或更多种。

[0099] 根据不同的示例性实施方式，本文中讨论的阻挡层可以被氧化和/或氮化。根据不同的示例性实施方式，这些层可以在氧气和/或氮气存在下沉积，和/或可以在其它处理步骤例如随后层的沉积和/或热处理期间变得氧化和/或氮化。

[0100] 此外，根据不同的示例性实施方式，本文中讨论的基于Ni的三元合金可以是四元合金或具有甚至超过4种材料。换句话说，尽管一些示例性实施方式被描述为“三元合金”，但是将理解，这样的合金可包括三种或更多种材料。

[0101] 在其它实施方式中，是或包括NiCr的层和/或用于溅射所述层的靶可以包含比例为20:80、40:60、60:40或80:20（以重量计）的NiCr。是或包括NiMo的层和/或用于溅射所述层的靶可以包含比例为20:80、40:60、60:40或80:20（以重量计）的NiMo。是或包括NbCr的层和/或用于溅射所述层的靶可以包含比例为20:80、40:60、60:40或80:20（以重量计）的NbCr。是或包括NbZr的层和/或用于溅射所述层的靶可以包含比例为20:80、40:60、60:40或80:20（以重量计）的NbZr。本文中描述的阻挡层还可以是或包括Haynes
214。

[0102] 在一些示例性实施方式中，图1-16中示出的涂覆制品可以用作在表面1和/或2上具有低-E涂层的整体窗，其中所述低-E涂层包括仅单一的IR反射层。然而，在其它示例性实施方式中，图1中的涂覆制品可包含另外的层。此外，按照本文描述的示例性实施方式制造的涂覆制品，根据不同的示例性实施方式和应用，可用于在表面1、2、3和/或4上具有涂层的绝缘玻璃装置（IGU），具有嵌入在表面2和/或3上的界层中或设置在所述界层上或紧靠所述界层设置、或暴露于表面4上的涂层的层压整体，具有带有紧靠表面2和/或3上的界层嵌入的、或暴露于表面4上的涂层的层压外侧的层压IGU，具有暴露于表面3和/或6上、或嵌入在表面4和/或5上的涂层的层压内侧的层压IGU。换句话说，在不同的示例性实施方式中，该涂层可以整体使用，或用于包含两个或更多个基材的IG装置中，或不止一次用于玻璃装置中，并且可以提供在装置的任何表面上。然而，在其它示例性实施方式中，本文中描述的涂覆制品可以与任何数量的IR反射层一起使用，并且可以与任何数量的其它玻璃基材组合，以产生层压和/或绝缘玻璃装置。根据不同的示例性实施方式，涂层也可以与IGU、VIG、汽车玻璃和任何其它应用结合使用。

[0103] 此外，对于涂层直接暴露于外部大气的应用来说，本文中描述的图1-16中的涂层可以用在表面1上。在一些示例性实施方式中，这可以包括抗凝结涂层。在其它示例性实施方式，这可以包括天窗、车窗和/或挡风玻璃、IG装置、VIG装置、冰箱和/或冷冻机门等。本文中描述的图1-16中的涂层也可以应用于双IG装置的表面4或三IG装置的表面6，以改进窗户的U值。这些涂层也可以整体地用在诸如挡风门的应用中。在一些示例性实施方式中，本文中所描述的涂层有利地表现出优异的耐久性和稳定性、低雾度、光滑以及在一些示例性实施方式中易于清洁的性质。

[0104] 本文描述的涂层的其它示例性实施方式，特别是用于整体涂层应用的涂层，包括抗凝结涂层。本文所描述的涂层可用于表面1抗凝结应用。这可以使涂层在户外环境中长存。在一些示例性实施方式中，涂层可以具有低的半球辐射率，使得玻璃表面更有可能保留来自于内部区域的热量。这可以有利地减少在其上的凝结的存在。

[0105] 本文描述的涂层的另一种示例性应用包括将本文所公开的示例性涂层或材料应用于IG装置的暴露于建筑物内部的表面4（例如离太阳最远的表面）。在这些情形中，涂层将暴露于大气。在一些情形中，这可能损坏层堆中的Ag层。然而，通过使用本文所描述的涂层，包含改进的阻挡材料和/或Ag合金的涂层可具有改进的耐腐蚀性、以及更好的机械和/或化学耐久性。

[0106] 尽管一些示例性实施方式已被描述为与低-E涂层有关，但本文中描述的各种阻挡层可以与不同类型的涂层结合使用。

[0107] 在一些示例性实施方式中，本文所描述的涂覆制品（例如参见图1-14）可以进行热处理（例如回火）或者可以不进行热处理（例如回火）。当在本文中使用时，术语“热处理”是指将制品加热至足以实现包含玻璃的制品的热回火和/或热强化的温度。该定义包括例如将涂覆制品在烘箱或炉中在至少约550℃、更优选地至少约580℃、更优选地至少约600℃、更优选地至少约620℃、和最优选地至少约650℃的温度下加热一段足以允许回火和/或热强化的时间。在一些示例性实施方式中，这可以是至少约2分钟，或者最长达约10分钟。

[0108] 正如上面指出的，一些示例性实施方式可以包括由玻璃基材承载的低-E涂层。这种涂覆制品可以整体使用或层压到另一玻璃或其它基材。涂覆制品还可以构建到绝缘玻璃（IG）装置中。IG装置一般包含基本上平行且分隔开的第一和第二玻璃基材。在基材的周边周围提供密封，并且在基材之间维持间隙（其可以至少部分地填充有惰性气体例如Ar、Xe、Kr等）。

[0109] 如上面提到的，本文公开的示例性材料可以与低-E和/或抗凝结应用结合使用。示例性的低-E和/或抗凝结涂层描述在例如申请序列号12/926,714、12/923,082、12/662,894、12/659,196、12/385,234、12/385,802、12/461,792、12/591,611 和
12/654,594中，其全部内容在此引入作为参考。因此，例如在一些示例性实施方式中，本文描述的一种或多种阻挡层材料可以代替或补充一个或多个包含Ni和/或Cr的层。在一些示例性实施方式中，本文公开的一种或多种材料可以代替或补充一个或多个功能性IR反射（典型地为基于Ag的）层。

[0110] 本文描述的一些或所有层可以通过溅射沉积或任何其它适合的技术例如CVD、燃烧沉积等来设置。

[0111] 当在本文中使用时，术语“在……上”、“由……承载”等，除非明确指出，否则不应被解释为是指两种元件彼此直接相邻。换句话说，即使在第一层与第二层之间存在一个或多个层，第一层也可以被称为是“在”第二层“上”或“由”第二层“承载”。

[0112] 尽管已经结合目前被认为是最实用和优选的实施方式的内容对本发明进行了描述，但应该理解，本发明不限于所公开的实施方式，而是正相反，意图覆盖包含在随附的权利要求书的精神和范围之内的各种变型和等同的布置。

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